Dichlorosilane (original) (raw)

dbo:abstract

ثنائي كلورو السيلان (H2SiCl2) (اختصاراً DCS) وعادة ما يخلط مع الأمونيا (NH3) في غرف (LPCVD) لإنتاج نيتريد السيليكون في معالجة أشباه الموصلات. عند استخدام تركيز عالي من ثنائي كلورو سيلان : أمونيا (مثلاً، 16 :1)، عادة ماينتج أفلام (طبقة رقيقة) نيتريد منخفضة الإجهاد. وهو وسيط بين السيلان ورباعي كلوريد السيليكون. (ar)
Dichlorsilan (zkráceně DCS) je anorganická sloučenina odvozená od silanu náhradou dvou vodíkových atomů atomy chloru, se vzorcem SiH2Cl2. Ve směsi s amoniakem se používá k tvorbě nitridu křemičitého při zpracování polovodičů pomocí chemické depozice z plynné fáze. Vyšší podíly DCS ve směsi (například DCS : NH3 16 : 1) vedou většinou ke vzniku vrstev s menší odolností vůči mechanickému napětí. (cs)
Dichlorsilan ist eine chemische Verbindung aus der Gruppe der chlorierten Silane. (de)
Dichlorosilane, or DCS as it is commonly known, is a chemical compound with the formula H2SiCl2. In its major use, it is mixed with ammonia (NH3) in LPCVD chambers to grow silicon nitride in semiconductor processing. A higher concentration of DCS·NH3 (i.e. 16:1), usually results in lower stress nitride films. (en)
Le dichlorosilane est un composé chimique de formule SiH2Cl2. Il se présente sous la forme d'un gaz incolore d'odeur piquante extrêmement inflammable et susceptible de former des mélanges explosifs avec l'air. Il est principalement utilisé dans l'industrie microélectronique avec l'ammoniac NH3 pour déposer des couches minces de nitrure de silicium Si3N4 par dépôt chimique en phase vapeur basse pression (LPCVD) : 3 SiH2Cl2 + 4 NH3 → Si3N4 + 6 HCl + 6 H2. Il est produit essentiellement par dismutation du trichlorosilane SiHCl3 avec formation parallèle de tétrachlorure de silicium SiCl4 : 2 SiHCl3 SiH2Cl2 + SiCl4. (fr)
Dichlorosilaan (H2SiCl2), meestal afgekort tot DCS, is een kleurloze gasvormige anorganische siliciumverbinding met een karakteristieke geur. De stof heeft zeer ruime explosiegrenzen: 4,1 tot 99%. Dichloorsilaan wordt voornamelijk gebruikt in de productie van halfgeleiders op basis van siliciumnitride. Om dit te bereiken wordt dichloorsilaan gemengd met ammoniak (NH3) in een LPCVD kamer waarin vervolgens het siliciumnitride als een film gevormd wordt. Een hoge verhouding DCS:NH3 (vaak 16:1), resulteert in nitridefilms met een lagere mechanische spanning. (nl)
ジクロロシラン (dichlorosilane) は、化学式H2SiCl2で表わされる化合物である。一般的には略称のDCSで呼ばれる。その主な用途では、LPCVDチャンバー内でアンモニア (NH3）と混合され、半導体処理で窒化ケイ素を成長させる。DCS・NH3の濃度が高い（つまり16：1）と、通常、応力の低い窒化物膜が得られる。 (ja)
Diclorossilano é o composto de fórmula química H2SiCl2. (pt)
Дихлорсилан — неорганическое соединение,хлорпроизводное моносилана с формулой SiH2Cl2,бесцветный газ,самовоспламеняется на воздухе. (ru)
二氯硅烷，缩写DCS，是一种无机化合物，化学式为H2SiCl2。 (zh)

dbo:alternativeName

Silicic dichloride dihydride (en)

dbo:iupacName

Dichlorosilane (en)

dbo:thumbnail

wiki-commons:Special:FilePath/Dichlorosilane-2D-stereo.png?width=300

dbo:wikiPageExternalLink

dbo:wikiPageID

9563449 (xsd:integer)

dbo:wikiPageLength

8790 (xsd:nonNegativeInteger)

dbo:wikiPageRevisionID

1094019359 (xsd:integer)

dbo:wikiPageWikiLink

dbp:imagefile

Dichlorosilane-2D-stereo.png (en)

dbp:imagefilel

Dichlorosilane-3D-balls.png (en)

dbp:imagefiler

Dichlorosilane-3D-vdW.png (en)

dbp:imagename

Stereo, skeletal formula of dichlorosilane with some explicit hydrogens added (en)

dbp:imagenamel

Ball and stick model of dichlorosilane (en)

dbp:imagenamer

Spacefill model of dichlorosilane (en)

dbp:imagesize

160 (xsd:integer)

dbp:iupacname

Dichlorosilane (en)

dbp:othernames

Silicic dichloride dihydride (en)

dbp:verifiedfields

changed (en)

dbp:verifiedrevid

444291927 (xsd:integer)

dbp:watchedfields

changed (en)

dbp:wikiPageUsesTemplate

dct:subject

gold:hypernym

dbr:Compound

rdf:type

rdfs:comment

ثنائي كلورو السيلان (H2SiCl2) (اختصاراً DCS) وعادة ما يخلط مع الأمونيا (NH3) في غرف (LPCVD) لإنتاج نيتريد السيليكون في معالجة أشباه الموصلات. عند استخدام تركيز عالي من ثنائي كلورو سيلان : أمونيا (مثلاً، 16 :1)، عادة ماينتج أفلام (طبقة رقيقة) نيتريد منخفضة الإجهاد. وهو وسيط بين السيلان ورباعي كلوريد السيليكون. (ar)
Dichlorsilan (zkráceně DCS) je anorganická sloučenina odvozená od silanu náhradou dvou vodíkových atomů atomy chloru, se vzorcem SiH2Cl2. Ve směsi s amoniakem se používá k tvorbě nitridu křemičitého při zpracování polovodičů pomocí chemické depozice z plynné fáze. Vyšší podíly DCS ve směsi (například DCS : NH3 16 : 1) vedou většinou ke vzniku vrstev s menší odolností vůči mechanickému napětí. (cs)
Dichlorsilan ist eine chemische Verbindung aus der Gruppe der chlorierten Silane. (de)
Dichlorosilane, or DCS as it is commonly known, is a chemical compound with the formula H2SiCl2. In its major use, it is mixed with ammonia (NH3) in LPCVD chambers to grow silicon nitride in semiconductor processing. A higher concentration of DCS·NH3 (i.e. 16:1), usually results in lower stress nitride films. (en)
Dichlorosilaan (H2SiCl2), meestal afgekort tot DCS, is een kleurloze gasvormige anorganische siliciumverbinding met een karakteristieke geur. De stof heeft zeer ruime explosiegrenzen: 4,1 tot 99%. Dichloorsilaan wordt voornamelijk gebruikt in de productie van halfgeleiders op basis van siliciumnitride. Om dit te bereiken wordt dichloorsilaan gemengd met ammoniak (NH3) in een LPCVD kamer waarin vervolgens het siliciumnitride als een film gevormd wordt. Een hoge verhouding DCS:NH3 (vaak 16:1), resulteert in nitridefilms met een lagere mechanische spanning. (nl)
ジクロロシラン (dichlorosilane) は、化学式H2SiCl2で表わされる化合物である。一般的には略称のDCSで呼ばれる。その主な用途では、LPCVDチャンバー内でアンモニア (NH3）と混合され、半導体処理で窒化ケイ素を成長させる。DCS・NH3の濃度が高い（つまり16：1）と、通常、応力の低い窒化物膜が得られる。 (ja)
Diclorossilano é o composto de fórmula química H2SiCl2. (pt)
Дихлорсилан — неорганическое соединение,хлорпроизводное моносилана с формулой SiH2Cl2,бесцветный газ,самовоспламеняется на воздухе. (ru)
二氯硅烷，缩写DCS，是一种无机化合物，化学式为H2SiCl2。 (zh)
Le dichlorosilane est un composé chimique de formule SiH2Cl2. Il se présente sous la forme d'un gaz incolore d'odeur piquante extrêmement inflammable et susceptible de former des mélanges explosifs avec l'air. Il est principalement utilisé dans l'industrie microélectronique avec l'ammoniac NH3 pour déposer des couches minces de nitrure de silicium Si3N4 par dépôt chimique en phase vapeur basse pression (LPCVD) : 3 SiH2Cl2 + 4 NH3 → Si3N4 + 6 HCl + 6 H2. Il est produit essentiellement par dismutation du trichlorosilane SiHCl3 avec formation parallèle de tétrachlorure de silicium SiCl4 : (fr)

rdfs:label

ثنائي كلورو السيلان (ar)
Dichlorosilane (en)
Dichlorsilan (cs)
Dichlorsilan (de)
Dichlorosilane (fr)
ジクロロシラン (ja)
Dichloorsilaan (nl)
Дихлорсилан (ru)
Diclorossilano (pt)
二氯硅烷 (zh)

owl:sameAs

prov:wasDerivedFrom

wikipedia-en:Dichlorosilane?oldid=1094019359&ns=0

foaf:depiction

foaf:isPrimaryTopicOf

wikipedia-en:Dichlorosilane

is dbo:wikiPageDisambiguates of

dbr:DCS

is dbo:wikiPageRedirects of

is dbo:wikiPageWikiLink of

is foaf:primaryTopic of

wikipedia-en:Dichlorosilane