フィーマ - Weblio 英和・和英辞典 (original) (raw)
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フィーマ
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「フィーマ」を含む例文一覧
該当件数 : 29件
例文
リソグラ**フィーマスク例文帳に追加
LITHOGRAPHY MASK - 特許庁
マーフィー、マーフィー例文帳に追加
Murphy. murphy. - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
リソグラフィーマスクの製造方法、リソグラ**フィーマスクブランク、並びにリソグラ****フィーマスク例文帳に追加
METHOD FOR PRODUCING LITHOGRAPHY MASK, LITHOGRAPHY MASK BLANK AND LITHOGRAPHY MASK - 特許庁
リソグラフィーマスクの製造方法及びリソグラ**フィーマ**スク例文帳に追加
METHOD FOR MANUFACTURING LITHOGRAPHY MASK AND LITHOGRAPHY MASK - 特許庁
リソグラフィーマスクおよびリソグラ**フィーマ**スクの形成方法例文帳に追加
LITHOGRAPHY MASK AND METHOD FOR FORMING LITHOGRAPHY MASK - 特許庁
リソグラ**フィーマスクブランク及びその製造方法例文帳に追加
LITHOGRAPHY MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME - 特許庁
例文
リソグラ**フィーマスク及び微細パターンを作製する方法例文帳に追加
LITHOGRAPHY MASK AND METHOD FOR MAKING FINE PATTERN - 特許庁
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「フィーマ」を含む例文一覧
該当件数 : 29件
例文
リソグラフィーマスクブランクの製造方法及びリソグラ**フィーマ**スク並びにハーフトーン型位相シフトマスクブランク例文帳に追加
METHOD FOR PRODUCING LITHOGRAPHY MASK BLANK, LITHOGRAPHY MASK AND HALFTONE PHASE SHIFTING MASK BLANK - 特許庁
リソグラ**フィーマスクおよび表面プラズモンを用いた光リソグラフィー法例文帳に追加
LITHOGRAPHY MASK AND OPTICAL LITHOGRAPHY METHOD USING SURFACE PLASMON - 特許庁
リソグラ**フィーマスクブランクの製造方法及び製造装置例文帳に追加
METHOD FOR PRODUCING LITHOGRAPHY MASK BLANK AND APPARATUS THEREFOR - 特許庁
微細構造物の製造に用いられる物質層の蝕刻方法及びリソグラ**フィーマスクの形成方法例文帳に追加
METHOD FOR ETCHING MATERIAL LAYER USED IN MANUFACTURE OF MICROSTRUCTURE AND METHOD OF FORMING LITHOGRAPHY MASK - 特許庁
リソグラフィーマスクの製造において、基板の何れか一面上に蝕刻終了層、メンブレイン層、リソグラ**フィーマ**スク層及び保護層を順次に形成する。例文帳に追加
In the manufacture of a lithography mask, an etched layer, a membrane layer, a lithography mask layer, and a protecting layer are successively formed on one face of a substrate. - 特許庁
新規なスタフィロコッカス・アウレウス（Ｓｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓａｕｒｅｕｓ）プロテインＡベースのリガンドを含むクロマトグラ**フィーマトリックス例文帳に追加
CHROMATOGRAPHY MATRIX INCLUDING NOVEL STAPHYLOCOCCUS AUREUS PROTEIN A BASED LIGAND - 特許庁
本発明は、半導体ウェーハ上のリソグラ**フィーマスクの整合と露光の両方に電子ビーム源を使用することができるため有益である。例文帳に追加
The method is advantageous since the method can use an electron beam source in both matching and exposing the lithography mask on a semiconductor wafer. - 特許庁
例文
安定した膜厚と光学特性が得られるリソグラ**フィーマスクブランクの製造方法及び製造装置を提供する。例文帳に追加
To provide a method for producing a lithography mask blank and an apparatus therefor by which a stable film thickness and stable optical characteristics are obtained. - 特許庁
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Federal Emergency Management Agency
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