マスクチェンジャ - Weblio 英和・和英辞典 (original) (raw)
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マスクチェンジャ
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「マスクチェンジャ」を含む例文一覧
該当件数 : 4件
例文
レーザ加工装置30は、レーザ発振器9と、**マスクチェンジャ31と、第1のガルバノスキャナ2と、第2のガルバノスキャナ3と、fθレンズ4とを備えている。例文帳に追加
The laser beam machining device 30 comprises a laser beam oscillator 9, a mask changer 31, a first galvano-scanner 2, a second galvano-scanner 3, and an fθ lens 4. - 特許庁
**マスクチェンジャー2は、マスクトレー部33に載置されるマスクMを、X方向及びZ方向回りのθ方向に駆動可能な駆動機構35A、35Bを備える。例文帳に追加
The mask changer 2 includes a driving mechanism 35A, 35B that can drive the mask M placed on the mask tray unit 33 in the X direction and a θ direction around a Z direction. - 特許庁
加工位置ずれ補正の際に、実際に加工しようとする穴径よりも小さい**マスクチェンジャ31のマスク穴32を選択し、小径のレーザビームを形成し、ワーク12にマトリクス状の穴加工を行う。例文帳に追加
When correcting the deviation of the machining position, a mask hole 32 of the mask changer 31 having the diameter smaller than that of a hole to be machined is selected to form laser beams of small diameter, and matrix-like holes are formed in a work 12. - 特許庁
例文
スキャン露光装置1は、基板WをX方向に搬送する基板搬送機構10と、マスクMをそれぞれ保持し、Y方向に沿って配置される複数のマスク保持部11と、露光用光を照射する照射部14と、各マスク保持部11の下面と対向可能なマスクトレー部33を有する**マスクチェンジャー2と、を備える。例文帳に追加
A scanning exposure apparatus 1 includes: a substrate conveying mechanism 10 conveying a substrate W in an X direction; a plurality of mask holding units 11 each holding a mask M and disposed along a Y direction; an irradiation unit 14 emitting exposure light; and a mask changer 2 having a mask tray unit 33 that can oppose to the lower face of each mask holding unit 11. - 特許庁
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