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例文

To provide a helical resonance apparatus improved in order to easily correspond to resonance characteristics with changed treatment conditions wherein, the apparatus is for generation of plasma applied to a plasma treatment unit for etching, ashing, CVD or the like on semiconductor substrates and the like.例文帳に追加

半導体基板などにエッチング、アッシング、ＣＶＤ等の処理を施すプラズマ処理装置に適用されるプラズマ生成用の螺旋共振装置であって、処理条件の変更に対応して簡単に共振特性を適合させ得る様に改良されたプラズマ生成用の螺旋共振装置を提供する。 - 特許庁

In a plasma torch unit T, a helical conductor rod 3 is disposed in a quartz tube 4, and a brass block 5 is disposed around the quartz tube.例文帳に追加

プラズマトーチユニットＴにおいて、螺旋形の導体棒３が石英管４の内部に配置され、その周囲に真鍮ブロック５が配置されている。 - 特許庁

The cavity 40 is filled with an inert gas and sealed, and when high-frequency waves from a high-frequency power supply 45 are applied to a helical antenna 44, the inert gas is electrically discharged within the cavity 40, thereby generating plasma.例文帳に追加

空洞４０の中には不活性ガスが封入されており、高周波電源４５からの高周波がヘリカルアンテナ４４に印加されると、空洞４０内で不活性ガスが放電してプラズマが生成される。 - 特許庁

例文

The plasma processing apparatus comprises a process chamber having a substrate holder supporting a procesing substrate, a dielectric tube installed at the upper part of the process chamber so as to be communicated with the interior of the process chamber, a helical coil wound around the dielectric tube, and an RF power source for feeding RF power to the helical coil.例文帳に追加

処理基板を支持する基板ホルダーを有する工程チャンバーと、工程チャンバーの内部と連通されるように工程チャンバーの上部に設置される誘電体管と、誘電体管の周りに巻かれた螺旋コイルと、螺旋コイルにＲＦ電力を供給するためのＲＦ電源と、を備えるプラズマ処理装置である。 - 特許庁