Способ нанесения пьезоэлектрических пленок окиси — SU 1394742 (original) (raw)
(51)5 С 23 С 14/3 РЕТЕ К но ие Я ПЬЕЗОЗЛЕК СИ ЦИНКА В В ть исполь ователей с х волн. Цель чества плен ориентацииО+.10 и уве шение к аклонно апазоне ич -И сения собам плен стурь испо вател ся повышлучения текстуры и текстуры по цинка нано- ного стекла. диаметром вливают на ельного усГОСУДАРСТВЕННОЕ ПАТЕНТНОВЕДОМСТВО СССР(54) СПОСОБ НАНЕСЕН РИЧЕСКИХ ПЛЕНОК ОК КУУМЕ(57) Изобретение может для изготовления преобр вых обьемных акустическ бретения - повы счет получения н их текстуры в ди обретение относится к области нане- покрытий в вакууме, а именно к спополучения пьезоэлектрических к окиси цинка с наклоном оси их текв диапазоне 40.+10, и может быть зовано для изготовления преобразой сдвиговых объемных акустических Целью изобретения являет ние качества пленок за счет по клонной ориентации оси их увеличения однородности этой поверхности подложки,П р и м е р 1. Пленку окиси сят на подложку из термосталь Для этого цинковую пластину 100 мм и толщиной 8 мм устан катоде магнетронного распыли ния однородности этой текстуры по поверхности подложки. Для получения пленки окиси цинка в магнетронном разряде распыляют цинковую дисковую мишень в арго- но-кислородной газовой среде, Внутри катода магнетронной системы вмонтирована магнитная система, Величины напряженности магнитных полей выбирают таким образом, чтобы значения векторов напряженностей магнитных полей, перпендикулярных поверхности мишени, на ее краях и в центре были равны соответственно 400 и 200 Э, т,е, были в соотношении, равном 2.Допустимым соотношением может быть 13, Подложку устанавливают напротив зоны эрозии, т.е, между векторами магнитного поля, параллельно мишени на расстоянии40 мм от нее, Температура подложки под- /) держивается 300 С, а газовая смесь включает 30% аргона и 700)(, кислорода при давлении на уровне 0,2 Па. тройства. Внутри катода вмонтирована аксиально-симметричная магнитная система, состоящая из центрального и краевого магнитов, Величины напряженности магнитных полей, создаваемых этими магнитами, выбирают таким образом, чтобы значения векторов напряженностей магнитного поля, перпендикулярных поверхности мишени, на ее краях и в центре были равны соответственно 400 и 200 Э, т.е. были в соотношении, равном 2. Подложку устанавливают напротив зоны эрозии, т.е, между векторами магнитного поля, параллельно мишени на расстоянии 40 мм от нее. Рабочий объем вакуумной установки откачивают до предельного давления 2 10 Па, подложку1394742 Составитель В,ОдиноковТехред М.Моргентал Корректор Л,Пилипенко Редактор Т,Шарганова Заказ 561 Тираж ПодписноеВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР113035, Москва, Ж, Раун.скэя наб 4/5 Производственно-издательский комбинат "Патент", г. ужгород, ул.Гагарина, 101 и поддерживают давление на уровне 0,2 Па. После этого на мишень подают отрицательное напряжение 450 В и устанавливают ток 1 А. При этом нэд поверхностью мишени образуется зона скрещенных электрического и магнитного полей, которые локализуют разрядную плазму в этой зоне. В указанных условиях скорость осаждения пленки окиси цинка составляет 6 мкм/ч. Полученная пленка обладает следующими свойствами; удельноесопротивлениер=10 Ом см,угол8наклона оси текстуры гп = 40. угол разориентации оси текстуры 5, разброс по толщине +5;ь на площади 10 см .гП р и м е р 2. Процесс нанесения пленки осуществляют аналогично примеру 1 при значениях векторов напряженностей магнитного поля, перпендикулярных поверхно,сти мишени, в центре и на краях мишени 200 и 600 Э соответственно, т,е, в соотношении, равном 3. Полученная пленка обладает следующими свойствами: удельное сопротивление р=- 10 Ом см, угол наклона щ = 450,9угол разориентации оси текстуры + 7, разброс по толщине +50, на площади 10 см,г При изучении распределения структурных параметров пленок окиси цинка было установлено, что наклон оси текстуры пленОк, Осажденных напротив 30 ны эрозии, зависит от конфлгурации магнитного поля магнетронного распылительного устройства, При соотношении векторов напряженности магнитного поля, направленных перпендикулярно поверхности мишени, и на краю мишени и в ее центре в диапазоне 13 наклон оси текстуры в осажденной пленке 5 составляет 30 - 50 относительно нормали кповерхности подложки. При увеличении отношения более 3 угол наклона оси текстуры возрастает, но вместе с тем падает эффективность магнетрон ного разряда, а следова тельно, и скорость напыления из-зауменьшения тэнгенциальной составляющей напряженности магнитного поля в зоне эрозии, При уменьшении отношения менее 1 угол наклона оси текстуры становится не до:таточным для использования полученных пленок в преобразователях сдвиговых акустических волн,формула изобретения Способ нанесения пьезоэлектрических 20 пленок окиси цинка в вакууме, включающиймагнетронное распыление цинковой дисковой мишени в аргонокислородной газовой среде и постоянном магнитном поле, симметричном относительно центра мишени, и осэждение пленки на подложку, о т л и ч а ющ и й с я тем, что, с целью повышения качества пленок за счет получения наклоннол ориентации оси их текстуры по поверхности подложки, значения векторов напря женности магнитного поля на краях и в центре мишени, направленных перпендикулярно ее поверхности, устанавливают в соотношении 13, а при осаждении пленки подложку располагают между векторами,