Способ вакуумной обработки фотоэлектронных приборов с полупрозрачным или непрозрачным катодом на стекле — SU 122821 (original) (raw)

Текст

СССР ПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИК АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ В. Смирн айдел ь, В. А. Мер к в 1 ОСОБ ВАКУУМНОЙ ОБРАБОТКИ ФОТОЗЛЕКТРОННЫХРИБОРОВ С ПОЛУПРОЗРАЧНЫМ ИЛИ НЕПРОЗРАЧНЫМКАТОДОМ НА СТЕКЛЕ И УСТРОЙСТВОДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ за602694 26 в Комитет по делам изобретенийий при Совете Министров СССР Заявлено 26 поня и откр Гюллстене изобретени19 за 1959 г гиковано Предлагается способ вакуумной обработки фотоэлектронных приборов с полупрозрачным пли непрозрачным катодом на стекле, в которых очувствляющее вещество (например, цезий) распыляют на стенки прибора или ампулы с последующим нанесением его на катод, и устройство для осуществления этого способа, позволяющее производить этот процесс на многопозиционном откачном полуавтомате.Лзвесте 11 способ вакуумной обработки фотоэлектронных приборов с сурьмяно-цезиевым катодом на стекле, при котором цезий получают нагревом одной таблетки его солей, заключенный в припаянной к прибору стеклянной ампуле, а толщину слоя сурьмы при ее напылении контролируют по исчезновению свечения нити лампы накаливания, за которой наблюдают через напыляемь 1 й слоГ нли на глаз по цвету напыляемого слоя. Такая технология не обеспе швает точной дозировки цезия, так как выход цезия из различных таблеток различен и приводит к значительной неравномерности толщины слоя сурьмы. Поэтому обработку сурьмы цезием (формирование катода) приходится вести в течение времени, различного для приборов одного н того же типа. Повышение чувствительности катода осуществляется пуском в прибор кислоро. да через систему порционных кранов нлн капилляров. Все этн операцин выполняются на стационарных откачных постах, так как известные откачные полуавтоматы не обеспечивают получение необходимого давления, а известные способы вакуумной обработки фотоэлектронных приборов не позволяют механизировать этот процесс.По предлагаемому способу вакуумная обработка фотоэлектронных приборов с полупрозрачным или непрозрачным катодом на стекле производится следующим образом, Очувствляющее вещество (например) цезий) получают нагревом нескольких таблеток солей этого вещества, М 122821заклОчецг(ых В Обоме, цаход 5 щейс 51 в сгекляцной ампуле или в приборе, а напыление вещества катода (цапример, сурьмы) производят при непрерывном контроле толщины цапьляемого слоя электронным прибо. ром. При этом достигается необходимая стабильность выхода цезия и строго определенная толщина слоя сурьмы, что позволяет обработку сурьмы цезием (формирование катода) осуществлять прогревом в печи в Очсцие времеци, постоянного для всех приборов данного типа и выбранного так, чтобы световая чувствительность катода достигала наибольшей величины. Чувствительность катода повышают впуском в прибор через клапан-дозатор определенной порции воздуха.Описываемый способ вакуумной обработки осуществляется ца мцогопозиционцом откачном полуавтомате с подвижными пароструйцыми насосами, отличающимся от известных тем, что на каждой позиции полуавтомата между пароструйцым насосом и гнездом карусели внутри соединяющего их трубопровода устацовлецы охлаждаемая ловушка, наполненная жидкил азотом, и клапан-дозатор.На фиг. 1 изображена схема одной ячейки полуавтомата; ца фиг. 2 - конструкция устройства для пуска доз воздуха,Гнездо 1 соедицецо через вакуумные уплотнения 2 с насосом 3, трубопроводом 4, служаш 5 л одцовремеццо корпусом ловушки, в котором укреплен клапан-дозатор 5. Жидкий азот заливается в стакан 6 через трубку 7. Клапан-дозатор состоит из корпуса 8, закрытого крышкой 9, укрепленной в корпусе ловушки 10. При цормальцом положении клапана 11 пружина 12 прижимает его к верхней резиновой прокладке 17, и воздух не попадает в корпус ловушки, При цакатиц ца ручку 14 клапана он прижимается к нижней прокладке 15, и воздух, проходя между крышкой и стержнем клапана, заполняет зазор между корпусом и клапаном, Когда клапан, возвращаясь в нормальное положение, вновь пр 1;жимается к верхней прокладке, порция воздуха, находившаяся межд клапаном и корпусом, входит в откачную систему,Электроццый прибор для непрерывноо коцтрол 51 толщины цацыляемого слоя сурьмы устанавливается ца той позиции полуавтомата, где должно быть закопчено распылецие сурьмы. Прибор состоит цз газоцаполнецной стробоскопической лампы, посылающей с частотой 50 г 1 световые импульсы длительностью около 100 и сек, и энергией около 0,5 дж, фотоэлемента и усилителя. Световые импульсы проходят через нагыляемый слой и попадают ца фотоэлемент, ток которого уменьшается по мере увеличения толщины слоя, что приводит к срабатывацию цсполшпельного устройства и прекращению напыления по досгцжеции з 1 даццой велиИИ 1. слоя. Изобрстецие може оыть использовацо механизации вакуулшой обработки фотоэлсктроццых приборов.Предмет изобретения1, Способ вакуумной обработки фотоэлектронных приборов с полупрозрачным или непрозрачным катодом на стекле, в которых очувствлтцощее вещество (наприл 1 ер, цезий) распыляют на стенки прибора илц ампулы с последующим 1 анесециел его ца катод, о т л и ч а ю щ и й с я тем, что, с целью стабилизации выхода очувствляющего вещества и механизации процесса вакуумной обработки приборов, очувствляющее вещество получают агревол заключенных в обойме нескольких таблеток солей этого вещества, вещество катода 1 цаприлер, сурьму) цапыл 5 цот на стенки колбы при непрерывном контроле толщины цапыляемого слоя электронным прибором, катод формируют прогревом в печи в течеци" времени, постоянного для всех приборов даьцОго типа, и чувствительцость катода првышаОт впуском в прибор через клапац-дозатор определенной порции воздуха.. Устроиство для осуществления способа по п. 1, представляющее собой многопозиционный откачной полуавтомат с подвижными па осчруйными насосами, отличающееся тем, что, с целью повышения вакуума и автоматизации процесса вакуумной обработки приборов, на каждой позиции полуавтомата между пароструйным насосом и гнездом карусели внутри соединяющего их трубопровода установлены охлаж даемая ловушка и клапан-дозатор.3. В стщегоустройстве по п. 2 применение электронного прибора со .из импульсного источника света, фотоэлемента и усилителя, с целью непрерывного контроля толщины напыляемого слоя.

Смотреть

Заявка

602694, 26.06.1958

Зайдель И. Н, Меркулов В. А, Смирнов В. В

МПК / Метки

МПК: H01J 40/16, H01J 9/12

Метки: вакуумной, катодом, непрозрачным, полупрозрачным, приборов, стекле, фотоэлектронных

Опубликовано: 01.01.1959

Код ссылки

Способ вакуумной обработки фотоэлектронных приборов с полупрозрачным или непрозрачным катодом на стекле