Способ обогрева рабочего пространства вакуумной камеры циркуляционных и порционных вакууматоров с патрубками и устройство для его осуществления (original) (raw)
;,;г)Д . ),;Ч"."."ЛИО )=г Т вышение стойко- амеры и обеспего нагрева в ми вакуумировагрева футеровки одовый электрод ной дуги и уста- длины синхронно з, Во избежаниены перегрева фумеры амплитуда ОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ0 ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯ ОПИСАНИЕ ИЗОБР ТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТ(71) Государственный союзный институт по проектированию агрегатов сталеплавильного и прокатного производства МНТК "Металлургмаш" и Центральный научно-исследовательский институт черной металлургии им,И.П.Бардина(56) Морозов А.Н, и др. Внепечное вакуумирование стали, - М.; Металлургия, 1975, с. 135-136Патент Скл. 75 - 10,С 2 ША 1 Ф 3547622,1 С 7/00, опублик. 1970,Изобретение относится к чернои металургии, в частности к внепечной вакуумной бработке жидкой стали. Цель изобретения - по сти футеровки вакуумной к чение ее эффективно промежутках между цикла ния. Для равномерного на плазмотрон и подвижный и после зажигания плазмен новления ее оптимальной перемещают вверх и вни образования кольцевой зо теровки стен вакуумной ка(51) СПОСОБ ОБОГРЕВА РАБОЧЕГО ПРОСТРАНСГВА ВАКУУМНОЙ КАМЕРЫ ЦИРКУЛЯ ЦИОН Н ЫХ И ПОРЦИОН НЫХ ВАКУУМАТОРОВ С ПАТРУБКАМИ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСИЦЕСТВЛГ-НИЯ (57) Изобретение относится к чернои металлургии и поименимо для внепечной вакуумной обработки жидкой стали, Целью изобретения является повышение стойкости футеровки вакуум-камеры и обеспечение ее эф 1 ективного нагрева, Внутрь вакуум-камеры, в крышке которой установлен плазмотрон, через всасывающий патрубок введен дополнительный подвижный подовый электрод. В процессе обогрева плазмотрон и подовый электрод синхронно перемещак)т вверх и вниз с амплитудой хода не менее длины плазменного разряда, Подвижный подовый электрод снабжен поворотным электрододержателем. 2 э,п, ф-лы,перемещения должна быть не менее длины плазменного разряда. При наклонном вводе годового электрода плазменный разряд в процессе его синхронного с плазмотроном перемещения вверх и вниз отклоняется от вертикального расположения, Однако в реальных условиях, например, для циркуляционного вакууматора, обрабатывающего ковш емкостью 130 т, такое отклонение не превышает 5 при длине плазменного разряда 1500 мм, что не скажется существенно на равномерности нагрева футеровки,П р и м е р. Осуществляют систему нагрева в порционном вакууматоре для ковшей массой 250 т с вакуумной камерой, имеющей высоту 9,8 м и внутренний диа 1650718метр около 2,4 м. Плазменная дуга между плазмотроком и введенным в камеру патрубка графитовым электродом мощностью 1.,2 - 1,8 мВт в период разогрева футеровки имеет длину 1,850 м, расположена на высоте 3,0 м от днища вакуумной камеры. В процессе разогрева футеровкл от 800 до 1600 С в течение 360 мин дуга перемещается от нижнего положения на высоте 1,0 м до уровня 5,0 м. При этом температура локальных участков огнеупаров не превышает температуру начала размягчения и не зафиксировано зон оплавления. После разогрева футеровки до 160 ООС температуру последней поддерживают на заданном уровне при мощности дуги 0.4 - 0,5 ЛВт и пеоиодическом перемещении ее с амплитудой 1,5, что обеспсчивает огсуствие локального пере- греза кольцевого слоя футеровки и поддержание необходимой температуры в обьеме всей, вакуумной камеры,На фиг,1 показан вариант осуществления спосоаа применительно к циркуляционному ва.ууматору; на фиг,2 - то же, для порцио",гного вакуумагора с цектральньм расположением всасывающего оатрубка; на фиг." - вид А на фиг.1. Подвижный плазмотрон 1 с полым графитовык катодом 2, подключенный к "мину су" источника 3 питания, г роходит в вакуумную камеру 4, .через уплотнение 5 крышки б, Плазмотрон 1,закреплен в держателе 7, соединенном с"минусом" источника 3 питания гибким токоподводом 8, и снабжен механизмом 9 перемещения, Для замыкания цепи постоянного тока в процессе вакуумирования в околодокную футеровку стен вакуумной камеры 4 заделаны стационарные подовыа электроды 10, подключенные к "плюсу" источника питания, Плазменный разряд при этом создается прикосновением катода 2 к металлу, всосанному в вакуумную. камеру, с последующим подъемом плазмотрона на высоту, соответствующую оптимальной длине плазменной дуги,Для обогрева вакуумной камеры в промежутках между циклами вакуумирования, а также для предварительного разогрева футеровки в начале компании камеры плазменный разряд создают между катодом плазмотрона и дополнительным подвижным подовым электродом 11, который вводят через отверстие всасывающего патрубка 12, Плазменный разряд создают соприкосновением катода с подовым электродом с последующим разведением их на расстояние, соответствующее оптимальной длине плазменной дуги. Подовый электрод 11 выполнен в виде стержня,5 10 15 20 25 свинченного из секций стандартных графитированных электродов, применяемых в дуговых электропечах, Подовый электрод 11 закоеплен в электродержателе 13, соединенным с "плюсом" источника 14 питания гибким токоподводом 15, и снабжен механизмом 16 перемещения. Для обеспечения свободного подхода сталевоза к вакуумной амере электрододержатель 13 выполнен поворотным,В циркуляционном вакууматоре, имеющем два всасывающих патрубка, и в порционном вакууматоре с патрубком, смещенным относительно центра камеры, подвижный подовый электрод вводят под углом, обеспечивающим расположение плазменного разряда вдоль вертикальной оси вакуумной камеры, В порционном ваку" уматоре с центральны,"; расположением всасывающего патрубка подовый электрод вводят вертикально по оси камеры.Использование предлагаемого способа обогрева и конструкции вакууматора позволяет по сравнению с известным обеспечить эффективный нагрев футеровки в промежутках между циклами вакуумирования и за счет этого повысить ее стойкость, предотвратить кастилеобразование на стенках камеры, уменьшить потери тепла металлом при вакуумировании. Формула изобретения 1, Способ обогрева рабочего пространства вакуумной камеоь, циркуляционных и порционкых вакууматоров с патрубками, включающий создание разряда между плазмотроном и сгационарным подовым электродом, о т л и ч а ю щ и й с я тем, что, с целью повышения стойкости футеровки и обеспечения ее эффективного нагрева, в промежутках между циклами вакуумирования, внутрь вакуумкамеры через патрубок вводят дополнительный подвижный подовый электрод, при этом в процессе обогрева плазмотрон и подовый электрод синхронно перемещают вверх и вниз с а.лплитудой хода, равной, по меньшей мере, длине плазменного разряда,2. Устройство для обогрева рабочего пространства вакуумной камеры циркуляционных и порционных вакууматоров с патрубками, содержащее футерованную вакуумную камеру с всасывающими патрубками, подвижный плазмотрон, установленный в крышке камеры, стационарные подовые электроды. заделанные в около- донную футеровку стен камеры, о т л и ч а ющ е е с я тем, что вакууматор снабжен дополнительным подвижным подсвым электро 1650718дом, выполненным с возможностью вращения его рабочего торца в вакуумной камере соосно с плазмотроном.З,Устройство по п,2, отл ича ю щеес я тем, что, с целью обеспечения свободного подхода сталевоза к вакуумной камере, подвижный электрод установлен на поворотном электрододержателе.1650718Составитель а. ЩербаковРедактор Н.Гунько Техред М,Моргентал Корректор Т.Малец Заказ 1584 Тираж 401 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР113035, Москва, Ж, Раушская наб 4/5зводственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул.Гагарина, 101