Устройство для лужения выводов микросхем — SU 1706789 (original) (raw)
(з5 В 23 К 3/00 ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМПРИ ГКНТ СССР ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯК АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ(56) Авторское свидетельство СССРМ 1260126, кл, В 23 К 3/06, 1986.Авторское свидетельство СССРМ 1191218, кл. В 23 К 3/00, 1985,(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЛУЖЕНИЯ ВЫВОДОВ МИКРОСХЕМ (57) Изобретение относится к пайке преимущественно для лужения выводов микроА схем. Цель изобретения - повышение производительности и качества лужения за счет одновременного лужения всех выводов микросхем, обеспечения теплозащиты микросхем и поддержания стабильного качества и количества флюса в ванне. Устройство содержит полый ротор 7 для образования внутри него ванны флюса, В стенках ротора выполнены радиальные каналы для поступления флюса к выводам микросхем, установленных в гнездах 1 О на внешней стороне ротора. Для подачи воздуха для продувки каналов и для порционной подачи флюса устройство снабжено золотниками 23, 24 и трубками 25, 26. В позиции захвата микросхем ролики 19 скатываются с клиновидных рычагов 13, которые под действием пружин1706789 15 устанавливают магниты 16 в нижнее положение, которые фиксируют микросхемы в гнезде 10, В позиции пайки каналы находятИзобретение относится к области пайки и может быть использовано для лужения выводов микросхем,Известно устройство для лужения, содержащее станину, на которой размещены загрузочные устройства, вращаемый приводом стол с распределенными по его окружности захватами приборов, установленные по ходу технологического процесса ванны флюсования и лужения исбрасыватель.Недостатками известного устройства являются узкие эксплуатационные возможности, так как оно не позволяет облуживать выводы микросхем, не имеющих отверстий в корпусе и элементов с двух - четырехсторонним и матричным расположением выводов, а также беэвыводных элементов и низкое качество лужения вследствие загрязнения флюса, происходящего в процессе флюсования.Наиболее близким к предлагаемому по достигаемому эффекту техническим решением является устройство для лужения выводов радиоэлементов, содержащее основание, на котором смонтированы ванны для лужения и флюсования, тара для сбора облуженных микросхем, вращэемый приводом ротор с захватами микросхем.Недостатками данного устройства являются узкие эксплуатационные воэможности, так как оно не обеспечивает облуживание выводов микросхем с четырехсторонним и матричным расположением выводов и беэвыводных элементов, низкая производительность процесса лужения, обусловленная отсутствием элементов автоматической установки микросхем и невозможностью одновременного лужения всех выводов микросхемы и низкое качество лужения вследствие загрязнения флюса, происходящего в процессе флюсования, а также отсутствия теплозащиты микросхемы в процессе лужения.Цель изобретения - повышение производительности и качества лужения за счет одновременного лужения всех выводов микросхемы, обеспечения теплозащиты микросхем и поддержание стабильного количества и качества флюса в ванне.Поставленная цель достигается тем, что устройство снабжено трубками с золотниками для подачи соответственно воздуха или 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 ся во флюсе ванны 8, через которые флюс поступает в гнездо 10, обволакивая корпус микросхемы. и офлюсовывает выводы. 4 ил. флюса, соединенным с толкателями, подпружиненными роликами, установленными на штоке, ротор выполнен полым для образования ванны флюса, ось ротора установлена параллельно основанию, в стенках ротора выполнены радиальные каналы, держатель установлен на внутренней стороне ротора напротив гнезда и выполнен в виде стакана с магнитом, двуплечего рычага с опорной поверхностью, одно плечо которого выполнено клиновидным и кинематически связано с магнитом, а другое плечо подпружинено относительно внутренней поверхности ротора, подпружиненный ролик установлен с возможностью взаимодействия с опорной поверхностью рычага.На фиг,1 показано устройство для лужения, общий вид; на фиг.2 - узел на фиг.1; на фиг.3 - разрез А-А на фиг,1; на фиг.4 - разрез Б-Б на фиг.2.Устройство для лужения содержит основание 1, на котором смонтированы ванна 2 для лужения, в которой создается волна расплавленного припоя, тара 3 для сбора облуженных микросхем, устройство 4 подачи кассеты 5 с микросхемами, привод 6 с ротором 7, ванна 8 для флюса, выполненная в виде круговой внутренней полости ротора, на внешней стороне которой выполнены выступы 9 с гнездами 10 для микросхем, причем каждое гнездо для микросхемы сообщено с ванной для флюса посредством четырех каналов 11, а ось ротора установлена параллельно основанию, ванная заполняется флюсом (глицерином) 12, причем захваты микросхем одновременно являются сбрасывателями облуженных микросхем в тару и выполнены в виде двуплечих клиновидных рычагов 13, закрепленных посредством оси 14 на боковых стенках ванны для флюса, одни плечи которых подпружинены пружинами 15, а другие механически связаны с магнитами 16, установленными подвижно в стаканах 17 напротив гнезд для микросхем, при этом элементы захвата установлены в ванне для флюса с воэможностью периодического взаимодействия с подпружиненными пружинами 1 Ь роликами 19 толкателей 20 захвата и толкателей 21 сброса микросхем, которые посредством штоков 22 связаны с золотниками 23 подачи флюса в ванну и 24 сжатого воздуха дл50 55 сброса облуженных микросхем в тару и продувки каналов, сообщающих ванну для флюса с гнездами для микросхем, кроме того устройство имеет направляющие трубки 25 для подачи сжатого воздуха и трубки 26 для подачи флюса в ванну,Выполнение каналов 11, сообщающих ванну с флюсом с гнездами для микросхем с четырех сторон обеспечивает одновременное обволакивание корпуса микросхем сразу с четырех сторон, чем создается хорошая теплоэащита микросхем от воздействия температуры расплавленного припоя и качественное флюсование выводов.Устройство работает следующим образом.Перед пуском устройства кассету 5 с микросхемами устанавливают в устройство 4 подачи микросхем, В ванну 8 наливают флюс (глицерин) до уровня 2/3 высоты стакана 17,В исходном состоянии кассета 5 с микросхемами находится в нижчем положении, а золотники 23 и 24 находятся в положении, при котором флюс и сжатый воздух в ванну 8 не поступает, при этом магниты 16 находятся в стаканах 17 в нижнем положении,При повороте ротора 7, после включения устройства, ролики 19 толкателей 21 сброса облуженных микросхем и толкателей 20 захвата микросхем накатываются на двуплечие рычаги 13, При накатывании их на утолщенные подпружиненные пружинами 15 плечи и преодолевая их сопротивление поднимают магниты 16, Одновременно подпружиненные пружинами 18 ролики 19 толкателей 21 и 20 посредством штоков 22 переключают золотники в положение, при котором через золотник 24 и трубку 25 подается сжатый воздух к сбросу микросхемы в тару и к устройству 4 подачи кассеты 5 с микросхемами, а через золотник 23 и трубку 26 в ванну 8 подается флюс Поскольку в начале работы в гнезде 10 микросхема отсутствует, следовательно производится только продувка каналов 11, т,е. производится подготовка гнезда к приему микросхемы, Через золотник 24 и трубку 26 подается флюс в количестве, требуемом для обволакивания корпуса и флюсования выводов одной микросхемы, чем обеспечивается поддержание заданного количества флюса, а поскольку подается постоянно свежий флюс, то поддерживается и требуемое его качество. Устройство 4 поднимает кассету 5 и устанавливает микросхему в гнездо 10. К этому времени ролики 19 скатываются с клиновидных рычагов 13, которые под действием пружин 15 устанавливают магниты 16 в нижнее положение, при этом магнитом фик 5 10 15 20 25 30 35 40 45 сируется установленная в гнезде 10 микросхема, Под воздействием пружин 18 и штоков 22 золотники 23 и 24 перекрывают подачу флюса и воздуха, в результате устройство 4 опускает кассету 5 с микросхемами в нижнее положение,Аналогично производится продувка каналов, восполнение флюса, установка и фиксация последующих микросхем.Необходимость поднятия магнита 16 перед установкой микросхемы в гнездо 10 вызвано тем, что воздействие магнита (если он будет находиться в нижнем положении) на микросхему при подводе ее к гнезду может зафиксировать последнюю в неправильном положении,Длина утолщенного подпружиненного плеча рычага 13 выбрана исходя из достаточности времени на установку микросхемы в гнездо и восполнение флюса, а также с учетом шага привода 6.При дальнейшем вращении ротора 7 каналы 11 входят во флюс ванны 8 и через них он поступает в гнездо 10, обволакивая корпус микросхемы, и офлюсовывает выводы, и далее производится облуживание,При подходе облуженной микросхемы к толкателю 25 производится сброс следующим образом, Ролик 19 толкателя 25 накатывается на подпружиненное плечо клиновидного рычага 13, Рычаг 13, преодолевая сопротивление пружины 18, посредством штока 22 перемещает золотник в положение подачи сжатого воздуха. Через золотник 24, трубку 25 и канал 11 сжатым воздухом облуженная микросхема сбрасывается в тару 3 (к этому времени магнит поднят роликом 19 через двуплечий клиновидный рычаг 13, т.е, микросхема расфиксирована). При этом сжатым воздухом канал 11 очищается от остатков флюса.Таким образом, предлагаемое устрой-. ство обеспечивает лужение всех выводов одновременно, создает теплозащиту микросхем и поддерживает стабильное количество и качество флюса, что повышает производительность и качество лужения. Формула изобретения Устройство для лужения выводов микросхем, содержащее смонтированный на основании ротор с приводом, с гнездами на внешней стороне ротора, держателями микросхем и толкателями со штоком, ванны с расплавленным припоем и флюсом, о т л ич а ю щ е е с я тем, что, с целью повышения производительности и качества лужения эа счет одновременного лужения всех выводов микросхем, обеспечения теплозащиты микросхем и поддержания стабильного качест1706789 Фиг Г оставитель Ф,Саловехред М.Моргентал Корректор М и актор Е.Папп Тираж Подписноеарственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ ССС 113035, Москва, Ж, Раушская наб., 4/5 227НИИОИ раиэводственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул,Гага ва и количества флюса в ванне, устройство снэбжено трубками с золотниками для подачи ееееетственно воздуха или флюса, соедииениыми с толкателями, подпружинениыееи роликами, устаневленными на штоке, ротор выполнен полым для образования ванны флюса, ось ротора установлена параллельно основанию, в стенках ротора выполнены радиальные каналы, держатель установлен на внешней стороне ротора напротив гнезда и выполнен в виде стакана с магнитом, двуплечего рычага с опорной поверхностью, одно плечо которо го выполнено клиновидным, другое плечоподпружинено относительно внутренней стороны ротора, а подпружиненный ролик установлен с возможностью взаимодействия с опорной поверхностью рычага.