Подложка — Метка (original) (raw)
Патенты с меткой «подложка»
Подложка для пленочных гибридных схем
Номер патента: 205155
Опубликовано: 01.01.1967
Авторы: Вычислительной, Гертман, Шипов
МПК: H01L 27/00
Метки: гибридных, пленочных, подложка, схем
...например из стекла, снабженные токопроводящими выводами, установленными заподлицо с поверхностью подложки, характеризуются невысокой механической прочностью и не обеспечивают вакуумную герметизацию микросхемы.В описываемой подложке для пленочных гибридных схем одновременное использование подложки в качестве корпуса, а также повышение механической прочности и обеспечение вакуумной герметизации микросхемы достигнуто размещением указанной подложки в корытообразном металлическом основании, образующем корпус-подложку посредством спая стекла с металлом,Конструкция описываемой подложки приведена на чертеже.Как видно из чертежа, стеклянная подложка 1 образует спай с металлическим тонкостенным корытообразным основанием 2. Расположенные по...
Подложка перцового пластыря
Номер патента: 350479
Опубликовано: 01.01.1972
Авторы: Везно, Горпенченко, Журкина, Комовкина, Менжерицкий, Микиртичева, Певчев, Пульвер, Смирнова, Танвель, Фейденгольд, Шамсутдинова
МПК: A61J 3/04
Метки: перцового, пластыря, подложка
...материала, не обеспечточно высокого качества пластыряЦелью изобретения являетсясрока хранения пластыря н прололечебного действия. Эта цель достичто подложка содержит хлопковыевые волокна, обработанные собутадиеннитрла акриловой и мекислот с метазином.Соотношение бутадиеннитрила аметакриловой кислот в сополимере60:40:3, Метазин вводят в сопоулучшения прочностных свойствматериала. В качестве катализатодения метазина в латекс вводятаммоний, Полимеризацию латекса 0 С с по ой ссткг 1 сас 1 ОЩЫО ми в пластыря. Эта подользован;гевает доста льзуют нос воло ение вол гале сос.попок но в окна н тавляет увелчсе нгрогае гается тем, и капронополимером такрнловой т крлглт гал их 50 - 10 дмет зобретс перцового пластыря, материала,...
Полупроводниковая подложка
Номер патента: 361487
Опубликовано: 01.01.1973
Автор: Гаврилкин
МПК: H01L 27/00
Метки: подложка, полупроводниковая
...как в отраженном видимом свете, так и в проходящих лучах для ближней ИК - области спектра. Однако он изменяет положение своих фотометрических осей при несимметричном заполнении его профиля различными веществами, например фоторезистом, в процессе технологических операций изготовления интегральных схем.Стабильность фотометрической осн глубинного реперного знака достигается благодаря тому, что канавка заполняется химически неактивным материалом полупроводниковой подложки веществом 4 и значительно отличающимся оптическими свойствами как для видимого света, так и для ИК - области спектра. Таким требованиям удовлетворяет ситалл, который совершенно непрозрачен в ИК - области спектра и обладает диффузным отражением для видимой области,...
Подложка для кинофотоматериалов
Номер патента: 362271
Опубликовано: 01.01.1973
Авторы: Вител, Коростылев, Куркина, Меламед
МПК: G03C 1/795
Метки: кинофотоматериалов, подложка
...активным растворителем, на пленке не образуется зажимов, складок и не наблюдается ее деформации. Сополимер дивинила и метилметакрилата обладает хорошим сцеплением с поликарбонатной пленкой. Подслой, содержащий нитроцеллюлозу и желатину, наносят на слой сополимера после его высушивания, Политая на этот подслой галогенидосеребряная эмульсия, содержащая желатину, имеет хорошую адгезию к подслою. Как показали специальные подслой, приготовленный предл собом, не оказывает вредного в тографические свойства эмульсВодная эмульсия сополимера промежуточного слоя, обеспечив шую адгезию к поликар бои а362271 Предмет изобретения Составитель О. ЗеленоваТехред Л. Богданова Корректоры: Е, Мироноваи А, Степанова Редактор Е. Хорина Заказ 200/7 Изд.1017...
Подложка для расстановки абразивных зерен
Номер патента: 370021
Опубликовано: 01.01.1973
Авторы: Виксман, Гиндлин, Салько
МПК: B24D 17/00
Метки: абразивных, зерен, подложка, расстановки
...в гальванической ваннеизготовление многослойзчого инструмента и исключение применения клея. Для этого подложку для расстановки абразивных зерен выполняют в виде немагнитного основания, в котором размещают по требуемому рисунку магнитомяпкие пластины,На фиг. 1 изображена подложка; нафиг. 2 - подложка в приспособлении.Подложка состоит из немагнитного основания 1, в котором размещены магнитомягкие пластины 2, задающие рисунок расстановки зерен.Способ изготовления абразивного инструмента с использованием подложки заключается в следующем.В корпус 3 приспособления помещают магнит 4, а который устанавливают подлож ку 5. Алмазные зерна насыпают па поверхность подложки 5. Лишние зерна, попавшие па поверхность немагнитного основания,...
Полупроводниковая подложка
Номер патента: 373795
Опубликовано: 01.01.1973
Автор: Гаврилкин
МПК: H01L 27/04
Метки: подложка, полупроводниковая
...из множества идентичных элементарных поверхностей, сохраняется постоянным положение их общей фотометрической оси при нанесении на них фоторезиста. Это обусловлено тем, что при фотоэлектрической регистрации таких знаков происходит интегрирование светового потока со множества идентичных элементарных поверхностей растра, оптические характеристики которых в одинаковой степени изменены при заполнении их профиля фоторезистом, т, е. здесь в каждой элементарной поверхности растра происходит изменение положения ее фотоэлектрической оси, но у всех элементов растра эти изменения происходят одинаково, и поэтому общая фотометрическая ось всего реперного знака остается неизменной. Такие растровые реперные знаки обладают значительным контрастом как в...
Подложка для минералогического препарата
Номер патента: 450100
Опубликовано: 15.11.1974
МПК: G01N 25/02
Метки: минералогического, подложка, препарата
...микроскоп.Однако при работе с паяльной трубкой невозможно;изученйе, отдельных мелких (0,03-0,2 мм) зерен и не фиксируются температурЫ физико-химических преврашений минералов. При использовании устанав ки с платиновой проволокой в качестве нагревательного элемента, как и при работе с паяльной трубкой, невозможно проводить количественный минералогический анализ одновременно для группы зерен различных минералов.Необходимо усовершенствовать известйую установку, чтобы однов 11 веменне изучать массу- зерен минералов и проводитьколичественные минералогические анализыВ 1 устайове:, нагревательный элемент,выполненный в форме пластины, применяется в качестве подложки для минералогического препарата.Температурный режим исследованийО ,контролируется...
Временная подложка
Номер патента: 471707
Опубликовано: 25.05.1975
МПК: B41M 5/02
Метки: временная, подложка
...основе полимеров винилхлорида и после желатцнизации отделять бумагу от полученного листа полимера. Полимер уводит с собой часть временной основы, которая была отделена от бумаги слоем нитроцеллюлозы и амицопласта. Таким образом получают в одну операцию, т. е, непосредственно во время их изготовления, более или менее толстые листы цз полимеров или сополимеров винилхлорида, которые имеют все желаемые рисунки, орнаменты и оттиски,Одним из важных преимуществ способа окрашивания и печатания при помощи временных (вспомогательных) предлагаемых основ является то, что оп позволяет даже на предприятиях, которые не имеют печатных машиц, производить отпечатки при помощи переноса на соответствующие предметы, Другое преимущество состоит в...
Подложка для светочувствительного материала
Номер патента: 489068
Опубликовано: 25.10.1975
Авторы: Антонова, Богданов, Киселева, Клопова, Кондахчан, Красный-Адмони, Меркулова, Нефедченков, Оконечников, Петров, Тумольская
МПК: G03C 1/76
Метки: подложка, светочувствительного
...влифатическ 6кислоты при ее сушке происходит неравномерная усадка подложк (деформация), иповерхность наносимых дополнительных слоев во.производит эти д фекты,3 Лель изобретения - улучшение качества поверхности гидрофобцой эластичной подложки, повышение степени ее гладкости и отказ от операции калацдрирования.Это достигается тем, что во вспомогательный слой вводят цоливицилбутираль, препятствующий проникновению водных растворов, применяемых для пластификации фотоподложки. П р и м е р. Готовят растворы, репе25 тура которых приведена в табл 1,489 ОЕ 8 Таблица 1 Количестворастворителя Компоненты на 1 лНаименованиекомпонентов Раствор 1 Раствор 2 Раствор 4 Раствор 3 Поливннилбутираль, гСпирт этиловый, л 2,О,Е 9 Ацетон, л до 1,0 1,0 1,0...
Временная подложка для крашенияили печати синтетических материаловметодом переноса
Номер патента: 509248
Опубликовано: 30.03.1976
МПК: D06P 5/28
Метки: временная, крашенияили, материаловметодом, переноса, печати, подложка, синтетических
...смеси простых эфиров целлюлозы, содержащих гпдроксипропилцеллюлозу.Печать и крашение осуществляют на обычных машинах, используемых для этого рода работ, илц на машинах, имеющих дополнительный валик, установленный перед нли после накатных красочных валиков. 1 рашенце или печать сводятся к,приведению в контакт временной подложки и окрашизаемого материала при температуре сублимации красителя,П р и м е р 1. Покрывают полосу бумаги тонким слоем раствора 10 вес. ч. полизини лового спирта в 100 вес. ч. смеси этилового спирта и воды и высушивают, Приготовляют красную, желтую и синюю краски, диспергируя по 6 вес, ч, следущих красителей:15 гщ Он , .01 г я со20 (желтый)2530 (красный)35 Схх1 чН-СК.(синий) с 6 вес. ч....
Подложка дя магнито-пленочного запоминающего устройства
Номер патента: 511880
Опубликовано: 25.04.1976
МПК: G11C 11/14
Метки: запоминающего, магнито-пленочного, подложка, устройства
...магнитнои памяти с тонкими магнитными пленками. Провод 2 выполняют из материала, хорошо проводящего электричество, например серебра, меди, алюминия. В данном случае этим материалом является сплав никеля с бериллием. Слой 3 спла ва никеля и олова на провод 2 осаждают у, но также изготовить элементыной памяти, Хотя только часть эторойства используется для изготовледложки, устройство описывается пол, так как подложка интересна имен, что ее можно применять для вы -ия элементов магнитной памяти.511880 3Провод 2, используемый для изготовления подложки 1, сделан из сплава меди ибериллия и имеет диаметр порядка 60 мк.Этот провод, намотанный на барабан 5,разматывается с барабана под воздействием ролика 6, смонтированного на валу...
Подложка для наплавления кварцевого стекла
Номер патента: 547393
Опубликовано: 25.02.1977
Авторы: Анохин, Левин, Морковкин
МПК: C03B 5/00
Метки: кварцевого, наплавления, подложка, стекла
...Изобретение оценвго стекла, вдля производствацевого стекла.Известна подложка дляцевого стекла, выполненнаохлаждаемого диска, омонстойхе с воэможностью врда 11.Цель изобретенииного Юцйцкдения подложрованного контакта во На чертеже изображена хонетрукция претвлагаемой подложки для иаплавления кварцевого стекла,. Листы 1, 2 и обечайтса 3 образуют кор пус подложки (полый диск), Внутри диска расположены распределительные трубки 4 Крепление подложки. к печи осуществлено через сойку 5. Спивное отверстие 6 ограничено вертикальными стенками паза, верхней стенкой диска и распределительной трубкой,Охлаждающая вода цодаетзя через стойку 5, цо распределительным трубкам осуществляется подача воды на первферию диска. Слив воды происходит...
Подложка для электрода химического источника тока
Номер патента: 562021
Опубликовано: 15.06.1977
Авторы: Малков, Позин, Шниткинд
МПК: H01M 4/70
Метки: источника, подложка, химического, электрода
...особенно заметным, когда, с целью увеличения открытия подложки, увеличивают диаметр отверстий. Второй недостаток связан с прочностными характеристиками электродов. При механических нагрузках, тряске, вибрации, ударах, а также при изгибе электродов, что имеет место при изготовлении цилиндрических источников тока, активная масса выкрашивается из отверстий. Это особенно характерно для электродов, получаемых намазкой или накаткой активных масс на подложку; для обеспечения этих процессов необходимо увеличивать открытие перфорации, что достигается увеличением диаметра отверстий.Увеличение открытия перфорации приводит к уменьшению механической прочности подложки.562021 Формула изобретения Составитель Ю. ДрагомироваТекред Е. Хмелева Редактор И,...
Подложка для полупрозрачного фотокатода
Номер патента: 584363
Опубликовано: 15.12.1977
Авторы: Зайдель, Коробов, Спектор
МПК: H01J 39/00
Метки: подложка, полупрозрачного, фотокатода
...чувствительности фотокатода и максимально допустимой величиныфототока, проводящее покрытие подложки для 30 полупрозрачного фотокатода выполнено из кермста, изготовленного, в частности ца основе дисилицида хрома и боросиликатного стекла.Основными преимуществами проводящего покрытия из кермета является его инертность к щелочным металлам и сравнительно низкое сопротивление при высокой прозрачности. Кроме того проводящие покрытия из ксрмета имеют хорошую адгсзию .к стеклу, высокую термостойкость и стабильность сопротивления.Были изготовлены подложки для многощелочных фотокатодов из кермета ца основе дисилицида хрома (СгЯ,) и боросиликатного стекла (ВОз %02), взятых в равных весовых отношениях. По традиционной технологии на данных...
Подложка для изготовления бумаги для электрофотографической или электростатической записи
Номер патента: 585820
Опубликовано: 25.12.1977
Авторы: Исао, Масами, Масато, Осаказу, Суи, Эйшун, Юкио
МПК: G03G 5/00
Метки: бумаги, записи, подложка, электростатической, электрофотографической
...без таких дефектов,как скручивание и адгезия при высокой очносительной влажности.Подложку получают посредством пропитки бумаги-основы раствором аммонпевойили литиевой соли сульфированного полистн; О рола, имеюшего степень сульфирования более 60% или путем подача указанной солина поверхность бумаги-основы, или путемодновременного размола порошкообразнойсоли с пластическим материалом и образо вания пленки.П р и м е р 1, 100 г полистирола с мол.ЗОООО растворяют в 2000 г четырристого углерода. К этому растворуляют 20 г уксусной кислоты, а затемо О перемешивании при температуре 5 С дляют по каплям 100 г жидкой трехокисисеры, разбавленной 1000 г четыреххлористого углерода для получения осадка сульфированного полистирола, Этот осадок уда...
Подложка для крепления листового материала
Номер патента: 608735
Опубликовано: 30.05.1978
Авторы: Вайнштейн, Гусев, Литван, Любавин, Мазанько, Царев
МПК: B65H 9/08
Метки: крепления, листового, подложка
...крепления листового материала, содержащая пластину со сквозными отверстиями и расположенные под ней полые камеры, связанные с насосной системой.Недостатком известной подложки является ненадежное и неравномерное крепление листов различного формата, так как величина подсоса в разных ее точках неодинакова, что требует выполнения отверстий большого диаметра,Целью изобретения является обеспечение надежности и равномерности крепления листов различного формата.Это достигается тем, что на лицевой поверхности пластины выполнены канавки, связанные с отверстиями, при этом конец каждой канавки расположен к кромке пластины ближе, чем крайнее из отверстий.На фиг. 1 изображена предлагаемая подложка, вид сверху; на фиг. 2 - сечение по А - А на фиг. 1;...
Подложка для микроскопических препаратов
Номер патента: 626120
Опубликовано: 30.09.1978
МПК: C12K 1/10
Метки: микроскопических, подложка, препаратов
...и исслсдова 11 с. 11 рн зто:(1 размеры самих мазков В сл час нсобходимост могут быть существенно увслнчсны,1 сог - раннчснность длинь кинопл(ч(кн О(с(нсч 1- наст непрерыв(юс иансссннс мазков, на пример, п нровслсВн различных исследований.Использование В качестве подложкитриацетатной к 11 ВО(ленки с В 1 н 510 Г а качество мазков.15 Оорстси Еа Формуенсниее подлоатов.ИстоЯТЫС ВОои;Ескаяй микр:(1 нкроб 1 Олог я11 Есс 1(н." иссг 1(.ЕОВ(197", С. 30 НЕ К 11 Н ВННМ;1 11 а схнпк( ий, Ч А. С бнО 10 нна)5,Изобретение относится к области медицины и касается подлоя(ск, используемых для приготовлс 1 шя препаратов, подлежащих микроскопировани:о, например, при массовых обследования.(.ИзвсстЕа под,ножка для мЕкроскопичсских прсп, выполненная в виде...
Подложка для размещения реагента
Номер патента: 695528
Опубликовано: 30.10.1979
Автор: Гюдрюн
МПК: A61B 19/00
Метки: подложка, размещения, реагента
...гелевой среде и может быть уложен в полосу 1 в виде отдельных мерных доз 2 (фиг. 1) или в виде непрерывного потока 3 О (фиг, 2),Кроме того, подложка может быть выполнена в виде трубки 4, закрытой с торцов крышками б и б. Причем тр бка 4 выполнена из инертного матери ала, а в ее стенках размещен намагничивающий материал, выполненный в виде ферромагнитной проволоки 7. В этом варианте подложки реагент в виде цилиндра заполняет внутренний объем трубки 4.20 При использовании йолложки, выполненной в виде полосы, последняя разрсзается тем или иным сообо па отрезки, заключающие в себе необходимую лозу 25 реагента. В случае использования подложки, выполненной в виде трубки, гослелняя перед использованием освобождается от крышек. Наличие в...
Подложка для исследования политерм поверхностного натяжения металлических расплавов
Номер патента: 700824
Опубликовано: 30.11.1979
Автор: Озниев
МПК: G01N 13/02
Метки: исследования, металлических, натяжения, поверхностного, подложка, политерм, расплавов
...сшибки самой методики измерения.700824 формула изобретения 30 ЦНИИПИ Заказ 7386/35 аж 1073 одписное лиал ППП Патент,тна город, ул. Указанные выше недостатки не позвбляют точно измерять поверхностноенатяжение в широком диапазоне концентраций двух-или многокомпонентныхрасплавов в одних и тех же условияхэксперимента,Целью изобретение является повышение достоверности результатов исследов ани я и с окращение времени пров еде-,ния эксперимента.Для этого подложка снабжена обечайкой с несколькими кольцевыми ребрами разных диаметров, расположенныМи в одной плоскости, образуя, какбы подложку с ребром дискретно-переМенного диаметра (Фф "Сфд) . Нижйяя плоскость обечайки выполнена стро го параллельно плоскости, проходящейчерез острые кромки...
Диэлектрическая подложка для высокочастотной сварки полимерных материалов
Номер патента: 764992
Опубликовано: 23.09.1980
МПК: B29C 27/04
Метки: высокочастотной, диэлектрическая, подложка, полимерных, сварки
...эначительнай часть тепла ввиде лучистой энергии теряется нанагрев высокочастотного электрода,что увеличивает продолжительностьпроцесса сварки,щего изобретения явие времени процессаых материалов за.тепловых потерь, иду сокочастотного электЭта цель достигается применением известной металлизированной свето- отражающей полимерной пленки в каче-,2 стве диэлектрической подложки.Особенностью применения металлизированной светоотражающей полимерной пленки при сваривании является то, что пленка может служить как 3 ки,На фиг 1 схемат о устройство для высо о ки; на фиг. 2 - кри ч зависимости роста тмени сварки.Устройство для высокочасто сварки включает верхнюю плиту 1 пре са (на чертеже не показан), нижнюю плиту 2, высокочастотный электрод 3 и...
Подложка для наплавления кварцевого стекла
Номер патента: 781182
Опубликовано: 23.11.1980
Авторы: Коннов, Крючков, Опыхтин, Парменов, Паушкин
МПК: C03B 5/00
Метки: кварцевого, наплавления, подложка, стекла
...ох лалдаетсн неравномерно. Наиболее эффективно охлаждаются периферийные зоны подложки, тогда как по центру поверхность подложки перегревается, что ведет к нарушению целостности конструкции и образованию течи, а соответственно и к срыву плавки.Цель изобретения - равномерное охлаждение подложки.Цель достигается тем, что в под-, ложке длВ наплавлениВ кварцевого стекла радиальные трубки длн подачи воды выполнены с сужением на конце и отверстиями по образующей со стороны зоны наплавления, причем сумма поперечных сечений выходных отверстийбольше или равна сечению трубки.На фиг. 1 схематически изображена подложка, на фиг. 2 - узел 1 на Фиг, 1.Она состоит из полого диска 1 радиальных трубок 2, стойки 3,Вода длВ охлаждения подложки поступает...
Подложка для наплавления кварце-вого стекла
Номер патента: 796192
Опубликовано: 15.01.1981
Авторы: Коннов, Крючков, Парменов, Шутников
МПК: C03B 5/00
Метки: кварце-вого, наплавления, подложка, стекла
...кварцевого стекла,включающая полый охлаждаемый диск с внут.ренними радиальными трубками для подачиводы, смонтированный на стойке с воэмож.постыл вращения от привода, снабжена герметичным кожухом, установленным вокруг диска,а пространство между диском и кожухом заполнено теплоиэоляцией,Ликвидация непосредственного контакта охлаждающей воды с наружными стенками под. ложки, достигаемая такой конструкцией, устраняет конденсацию паров на стенках подложки, так как за счет слоя теплоизоляции температура стенок подложки выше температуры конденсации паров, В то же время наружные стенки подложки не перегреваются, так как происходит непрерывный отвод тепла через сой изоляции в охлаждающую воду,На чертеже изображена подложка для наплавления...
Подложка для наплавления кварцевогостекла
Номер патента: 796193
Опубликовано: 15.01.1981
Авторы: Кириллов, Крючков, Чугунова
МПК: C03B 5/00
Метки: кварцевогостекла, наплавления, подложка
...процессе наплавле вия стекла этот пар перегревается, так как охлаждение рабочей поверхности в этих зонах ухудшается. В результате, в этих зонах проис. ходит вздутие ра ислучаи разрыва евом,Цель изобретения - обеспечение надежностив работе.Поставленная. цель достигается тем, чтоподложка для направления кварцевого стекла,выполненная в виде полого охлаждающегодиска, снабженного радиальными трубкамидпя подачи воды и смонтированного на стойкес возможностью вращения от привода, снабжена стержнями, соединянхцими верхний и нижний листы дискарвномерно по всей площади.На чертеже изображенаподложка, разрез.Листы 1 и 2 и обечайка 3 образуют полыйводоохлаждаемый диск. Внутри диска расположены распределительные трубки 4, Листы 1и 2 соединены между...
Подложка для наплавления кварце-вого стекла
Номер патента: 798054
Опубликовано: 23.01.1981
Авторы: Кириллов, Сенников, Чугунова, Яров
МПК: C03B 5/00
Метки: кварце-вого, наплавления, подложка, стекла
...для подачи воды и смонтированного на стойке с 30 возможностью от привода, по краю подложки Установлен барьер из огнеупорного материала, в который введены радиальные трубки.Барьер иэ огнеупорного материала, расположенный по краю подложки, задерживает растекание стекломассы и формирует диск заданной толщины.На чертеже изображена предлагаемая подложка для наплавления кварцевого стекла, общий вид.Устройство содержит листы 1 и 2 и обечайку Зобразующие полый водоохлаждаемый диск. Внутри диска расположены распределительные трубки 4, которые выведены через обечайку 3 за пределы полого диска. Распределительные трубки образуют над подложкой водоохлаждаемые полукольца 5. Полукольцо заканчивается вводным патрубком б, который через обечайку...
Подложка для светочувствительныхфотоматериалов
Номер патента: 807199
Опубликовано: 23.02.1981
Авторы: Авербух, Пирожков, Терентьева, Чекушкин, Юсупов
МПК: G03C 1/76
Метки: подложка, светочувствительныхфотоматериалов
...иформальдегидом 3-8Двуокись титана 10-30Ьнтисептик 0,3-0,8Дубитель 0,4-1,0Смачиватель 0,5"1,0Краситель 0,1-6Вода обессоленная ОстальноеВ качестве антисептика контрслой содержит используемый .в технологии изготовления кинофотоматериалов антисептик, как формалин, в качестве дубителя - ацетат хрома в качествеУ15 смачивателя - СВ, в качестве красителя - краситель синий-К.Введение в состав отражающего контр- слоя белой водно-эмульсионной краси позволяет понизить,скорость седимеитации двуокиси титана, что приво дит к повьакению однородности контрелоя, а также позволяет повысить плоскостность подложки, улучшить ее физико-механические свойства,П р и м е р. Готовят 5-10-ный вод ио-желатиновый раствор,в который вводят порошок двуокиси...
Подложка для иммунолюминесцентных исследований
Номер патента: 862039
Опубликовано: 07.09.1981
Авторы: Воробьева, Кондратьева, Лучина, Мегрелишвили, Николаева
МПК: G01N 33/533, G02B 21/34
Метки: иммунолюминесцентных, исследований, подложка
...устойчивость полипропиленовой двухосноориентированной пленки при комнатной температуре приведена в табл. 1. Толщина пленки 15 мкм86 2039 Таблица еааеьащ ещ ев Реакционная среда30 30 30 Беэ измене-.нияТо же 1,4 1,8,2,6 та5 5ева и щ- 1 -60 0,31 0,44 0,48 0,35 60 60 60 0,48 60 0,15 Изменение рН среды в присутствии поли-толщиной 15пропиленовой двухосноориентированнойСоотношениепленки (стабилизатор ирганокс 10101г.рН, при разЛичном мкм приведено в табл. 2.поверхности к объемуВ/Ч = 2 г 1Т аблица 2 Цвет рН исх ный Температу-:г ра, гСреда 2.: 24 7-ный раствор альбумина Вез изменейия,То же,25 10-ный раств п аз мы ВЬдная вытяжк из стекла)кость 9 0,3- н -Водйая вытяжка из фторопласта емкост 5 80 Спирт этиловый, ректификационный...
Подложка для фотополимерных печатных форм
Номер патента: 934439
Опубликовано: 07.06.1982
Авторы: Мартынюк, Матюшова, Тремут
МПК: G03C 1/68
Метки: печатных, подложка, форм, фотополимерных
...марки ПФЛ-30,олифу марки ГКФ, касторовое масло, сиккатив, наполнитель, растворитель и пигмент. Ппастину белой жестигрунтуют эмалью марки АС, которая содержит эпоксидную смолу ЭД и акриловый сополимер марки 5 Б, двуокись титана, пигмент или красительи смесь органических растворителей.Толщина противоореольного грунтового покрытия в обоих случаях составляет 5-6 мкм, 20Затем сушку грунтового слоя производят в трехсекционном сушильномустройстве ( секция - 100 оС, П секция 120 С, 1 И секция - холодный обдув)0в течение 20 мин, На предварительно 25загрунтованные листы жести наносятадгезионный слой.В состав слоя входит эпоксиднаясмола, обработанная акриловой илиметакриловой кислотами формулы . щОбработка смолы ненасыщенными кислотами ведется...
Подложка для печатных плат
Номер патента: 959644
Опубликовано: 15.09.1982
МПК: H05K 1/02
Метки: печатных, плат, подложка
...таких как этилакрилат, бутилакрилат и 2-этилгексилакрилат,и меньшую часть акриловой или метакриловой кислоты,Другими пригодными связующими веществами являются термопластическиеполимеры, такие как полимеры основанные на еинилхлориде ( например,смола "Ч 1 пуоп", производимая фирмойцпоп СагЬ 10 е). Связующие веществане должны поглощать влагу, т.е, пленки из них не должны поглощать болеечем 3/ влаги при воздействии среды с653-ной относительной влажностью при21 оС в течение одного дня (послескрепления с волокнами, если связующий материал является реактивным).Кроме того, при разогревании до 230 Сосвязующее вещество должно противостоять быстрому расщеплению своей полимерной структуры. Связующее вещество обычно содержится в количестве...
Подложка для наплавления кварцевого стекла
Номер патента: 990691
Опубликовано: 23.01.1983
Авторы: Коннов, Кундухов, Сенников, Степанов, Суменков
МПК: C03B 5/00
Метки: кварцевого, наплавления, подложка, стекла
...наплава выполнена сферичепи вогнутой причем вы сота стрелы вогиутости составляет 0,05- 0,10 диаметра, подложки.В результате уменьшения в центральной части подложки теплоизоляционного слоя по сферической вогнутой линии тем-: 20 пература в центре к нанериферии диска выравнивается, диск охлаждается равномерно и исключается образование в немтепловых напряжений, причем лучшие результаты достигаются при высоте стрелы 23 вогнутости, равной 0,05-0,10 диаметраподложки.При стреле вогнутости подложки не более 0,05.диаметра подложки высота придонного слоя иаплавленного диска, за имеющего дефекты (газовые включения,Характеристика наплавленного диска разница между высотойдефектной зоны и стрелой вог.нутости), мм 46,0 0,01 0,02,11 ,12 Величина...
Подложка для переменных резисторов
Номер патента: 1054836
Опубликовано: 15.11.1983
Авторы: Дулицкая, Зинин, Кошкина, Малявкина, Меркушева, Размадзе, Тужникова, Чайкина
МПК: H01B 3/40
Метки: переменных, подложка, резисторов
...в подлодке для переменных резис" торов, содержащей слоистую целлюлоз" но-бумажную основу, пропитанную термореактивным связующим, на каждом из Вяешних слоев целлюлозно-бу" мажной основы дополнительно расположен слой лавсановой бумаги, про" питанной связующим на основе эпок,сидной диановой смоУЬ, причем массасвязующего на осйове эпоксидной диановой смолы составляет 0,8-2 массылавсановой бумаги, а толщина каждогослоя лавсановой бумаги - 0,125-0,5толщины слоев целлюлозно-бумажнойосновы,Изготавливают образцы подложекдля переменных резисторов из листовпропитанной бумаги, которые нарезают10 на резательной установке и собираютв пакет: внутренний слой содержитпропитанную целлюлоэную бумагу, анаружные слои - пропитанную лавсановую бумагу....