Рельефов — Метка (original) (raw)
Патенты с меткой «рельефов»
Способ изготовления обращенных матричных рельефов
Номер патента: 82278
Опубликовано: 01.01.1950
Автор: Тихонович
Метки: матричных, обращенных, рельефов
...натр - 2 г, сода - 40 г, сульфатнатрия - 10 г, вода до 1 л.2. Промывка в проточной воде в течение 10 мин.3. Отбеливание в течение 3 - 5 мин до полного отбеливания.Отбеливающий раствор; перманганат калия - 1 г, серная кислота - 20 сяз (уд. в. 1,84), вода - до 1 л.4, Промывка в течение 5 ман.5. Осветление в течение 5 - 7 яин при 18.Осветляющий раствор: сульфат безводный - 50 г, вода - до 1 ь6, Промывка в течение 5 мин,82278 7. Засветка 100-ваттной лампой на расстоянии 50 см в течение1,5 - 2 мин.5. Второе проявление в течение 6 - 8 мин при 18,Ироявите.йв: метол - 5 г, гидрохинон - 6 г, сульфит - 40 г, бромисть 1 й, калий - 2 г, вода - до 1 л.9. Промывка в течение 1 мин.10. Фиксаж в 20%-ном растворе гипосульфита. Фиксировать еще5 мин...
Импульсное устройство для исследования подвижных потенциальных рельефов
Номер патента: 102993
Опубликовано: 01.01.1956
МПК: A61B 5/0476, G01R 19/28, H03F 3/38 ...
Метки: импульсное, исследования, подвижных, потенциальных, рельефов
...по ульс усиливается обым усилителем и поескоп, модулируя по гствующую ему светящуюся точку. Одновременно для контроля эти импульсы наблюдаются на экране катодного осциллографа О,.Частота следования импульсов задается симметричным мультивибратором переключателя. Импульс от мультивибратора поступает одновременно на все сдвигающие блоки, представляющие собой спусковые схемы (одновибраторы) с одним устойчивым состоянием. Все блоки спускаются одновременно, но длительность их действия выбирается различно (не менее Т).С помощью дифференцирующих ячеек и формирующих блоков обратные фронты импульсов от сдвигающих блоков преобразуются в кратковременные положительные прямоугольные импульсы, подаваемые на экранные сетки смесителей, Электронный...
Способ импульсного формирования магнитных рельефов символов и проводниковая головка для его осуществления
Номер патента: 135885
Опубликовано: 01.01.1961
Авторы: Бучек, Ковалелис, Малофеев, Мартинкенас, Ненишкис
МПК: G03G 19/00
Метки: головка, импульсного, магнитных, проводниковая, рельефов, символов, формирования
...формирования магнтных рельефов символов по предлагаемому способу.Запись магнитных рельефов символов на ферромагнитном материале 1 осуществляется с помощью проводниковых головок 2, Выполненных в виде проволочной матрицы с двойным контуром записываемого симВОла из изолированного провода. Для полуения В головке Оольш;х токов, неооходимых при бесконтактной записи через зазор о, головки питают через Воздушный промежуток 4 и гасящее сопротивлене б От Сто ика б высооо напряжения с ВклОченным на его выходе накоо 135885 пительным конденсатором. Запись осуществляется после пробоя воздушного промежутка 4 искровым разрядом и закорачивания напряжения конденсатора на сопротивление и на головку, посредством которой через зазор 3 происходит...
Способ получения рельефов на поверхности полупроводника
Номер патента: 165837
Опубликовано: 01.01.1964
Авторы: Гельтищева, Догадкин, Королев, Марков, Туто
МПК: H01L 21/027
Метки: поверхности, полупроводника, рельефов
...не только в полупроводниковой промышленности, но и в других областях техники (полиграфии точной механике и т. д). е- о- Г Предлагаемый фо риал позволяет пол 0,1 лиг) рельеф на по увствительныи матеть глубокий (более 15 хности полупроводниредмет изобретени Способ получения рел полупроводника путем стоящий в нанесении слоя на поверхность по нировании его через тра сунком и последующем отличающийся тем ния глубокого рельефа ствительного кислотоза псльзуют полимерный х чук. их рельефов пригот циклокаучука в бен па поверхность пол фуге (толщина сл 2 й подсушки в те рхность полупрово локаучука, через к пируют рисунок. оир- г дписная группаСпособ фотогравировки на полупроводниках известен. Он заключается в нанесении фоточувствительного...
Устройство для построения пространственных рельефов
Номер патента: 498479
Опубликовано: 05.01.1976
Автор: Горохов
МПК: G01D 7/02
Метки: построения, пространственных, рельефов
...свободы, например в виде горизонтальных направляющих и свободно смещаемого под углом к ним штока, имеет постоянный контакт с поверхностью 2,Пишуший орган снабжен приводами и кинематическими передачами для смещения его на поверхности, Конструкция приводов аналогична приводам координатных самописцев,Поверхность 2 опирается на набор штырей 3. Штыри имеют резьбу и элементы, удерживающие их от вращения, папример продольный паз, взаимодействующий с упором.На каждом штыре установлены две сцепные полумуфты. Одна из полумуфт 4 сочленена резьбой со штырем и ограничена от продоль ного смещения. Вторая полумуфта 5 свободно498479 1/2. х179 аказ 423/11 Тираж 86 одпис ипографии, пр. Сапуиога, 2 посажена на штырь и по внешнему диаметру имеет...
Способ получения растровых рельефов
Номер патента: 554053
Опубликовано: 15.04.1977
Авторы: Вадылкин, Кутейников, Наконечный, Нижанковский, Чернозубов
МПК: B21J 5/06
Метки: растровых, рельефов
...сферические лунки, расположенные в шахматном порядке; на фиг. 4 - цилиндрический участок растрового рельефа гексагональной структуры,Сущность способа получения растровых рельефов раскрывается на следующих конкретных примерах осуществления,П р и м е р 1. Для получения на зеркальной поверхности барабана отрицательного (вогнутого) цилиндрического растрового рельефа тетрагональной структуры поступают следующим образом.Предварительно на зеркальной цилиндрической поверхности металлического цилиндрического барабана выдавливают растровый рельеф (фиг. 1), элементами которого являются вогнутые сферические лунки 1 (вид по оси симметрии лунки имеет почти форму круга, так как диаметр периферийной окружности 2 сферической лунки 1 бесконечно мал...
Проявитель для фотополимерных полиметилметакрилатных рельефов
Номер патента: 615446
Опубликовано: 15.07.1978
Авторы: Ивина, Свириденко, Хорт
МПК: G03C 1/68
Метки: полиметилметакрилатных, проявитель, рельефов, фотополимерных
...СССРпо делам изобретений и открытий113035 Москва ЖРаушская наб. д. 45 филиал ППП Патент, г. Ужгород, Ул. Проектная, 4 ростью необлученныеучастки фотополимерных слоев, а также по-разному воздействуют на облученные сшитые участки Фотополимеров.Четыреххлористый углерод практически не воздействует на сшитые участки полметилметакрилатных фото- полимеров, в то время как необлученные участки медленно растворяет.Трихлорэтилен быстро растворяет необлученные участки, но в то же время разрушает и сшитые (заполимеризованные).Изменяя количество трихлорэтилена, добавляемого к четыреххлористому углероду, можно регулировать избирательную растворяющую способность проявителей.П р и м е р. Проводят сравнительные испытания проявляющей способности...
Построитель пространственных рельефов
Номер патента: 706700
Опубликовано: 30.12.1979
Автор: Горохов
МПК: G01D 7/02
Метки: построитель, пространственных, рельефов
...пишущим узлом 8можно осуществлять с того же пульта 7.Процесс изготовления модели и включениярабочих органов устройства начинается с выдвн.ження штырей на величину, соответствующуюсигналам управления,Если выдвинуть концы штырей на разнуювеличину, то ряд соседних штырей образуетрельеф. Плавность перехода с одного уровняна другой и перекрывание зазоров между шты./ Тираж ЦНИИПИ Государственно по делам изобретений 3035, Москва, Ж - 35, Рауиал ППП "Патент", г, Ужгород, ул. Проектная, 4 3рями производится слоем материала 2, Откачка воздуха из под слоя материала посредством системы 6 подчеркивает особенности рель. ефа и способствует повышению точности модели.Посредством распыления формуемого ве. щества из емкости 5 наносят его на...
Способ изготовления защитных рельефов
Номер патента: 728109
Опубликовано: 15.04.1980
Авторы: Кузнецов, Погост, Тряпицын
МПК: G03C 1/68
Метки: защитных, рельефов
...кетон Михлера, бензофенон, метиловыйэфир бензоина, трихлордифенил или их смеси.Применение предлагаемого способа позволяетулучшить качество защитного рельефа безизменения существующей технологии их изготовления, а также. конструкции оборудования.Предлагаемый способ может использоваться40при изготовлении изделий из различных фольгированных диэлектриков, которые могут бытьперфорированными или сплошными, с двухили односторонним покрытием фольгой. Способ может быль реализован также при исполь 45эовании фольгированных диэлектриков, имеющих несштошное (локальное) покрытие фольгой) .В качестве сухих пленочных фоторезистов:могут использоваться, главным образом,негативные фоторезисты, имеющие сухой50светочувствительный слой на основе...
Способ получения декоративных рельефов на швейных изделиях
Номер патента: 1564237
Опубликовано: 15.05.1990
Авторы: Иконников, Кирсанова, Поляков
МПК: D06J 1/10
Метки: декоративных, изделиях, рельефов, швейных
...размещают на ней заготовку изделия, расправляют ее, усилие прессования регулируют давлением воз духа под мембраной. 3 ил.1126 В следующей последовательности,На поверхности мембраны 1 размещали упругие направляющие 2 в соответствии с видом получаемыш рельефов. Затем в мембранное устройство подавали -1 воздух, происходило изменение формы. На полученную матрицу укладывали заготовку материала 3, увлажняли лос пе чего дополнительно подавали воз щух заготовка материала приобрета ла волнообразную форму 6. Поверх материала размещали клеевой материал 4 арт. 75069 и проводили прессование Сс помощью плиты 5, нагретой до 14015 ОС. В результате были получены рельефы 7 высотой 0,5 см с расстоянием, изменяющимся от 0,5 до 2,0 см.К П р и м е р 2....
Способ изготовления фотополимеризующейся композиции для защитных рельефов
Номер патента: 1259846
Опубликовано: 20.04.1995
Авторы: Быстров, Веселовский, Кузнецов, Пергамент, Погост, Тряпицын
МПК: G03C 1/72
Метки: защитных, композиции, рельефов, фотополимеризующейся
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩЕЙСЯ КОМПОЗИЦИИ ДЛЯ ЗАЩИТНЫХ РЕЛЬЕФОВ путем проведения процесса в две стадии, на первой из которых в реакционном объеме проводят конденсацию эпоксидной смолы с бифункциональным конденсирующим агентом в присутствии катализатора 4,4'-бис-(диметиламино)бензофенона при нагревании, а на второй стадии в реакционный объем вводят эпихлоргидрин и метакриловую кислоту, отличающийся тем, что, с целью повышения устойчивости получаемых из фотополимеризующейся композиции защитных рельефов к кислым гальваническим электролитам, на первой стадии процесса в качестве эпоксидной смолы используют смесь соединений формул I и II
Способ изготовления защитных рельефов
Номер патента: 1222073
Опубликовано: 20.04.1995
Авторы: Валеев, Зверева, Кузнецов
МПК: G03C 1/72
Метки: защитных, рельефов
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЗАЩИТНЫХ РЕЛЬЕФОВ путем нанесения на печатную плату сухого пленочного фоторезиста, экспонирования фоторезиста, проявления метилхлороформом, термообработки при 115 120oС, нанесения жидкого отверждаемого состава, включающего ароматическую эпоксидную смолу и аминный отвердитель, сушки нанесенного состава и его термоотверждения, отличающийся тем, что, с целью повышения электрической прочности и устойчивости к циклическому воздействию повышенных и пониженных температур, в качестве сухого пленочного фоторезиста используют фоторезист толщиной 85 140 мкм на основе тройного сополимера стирола с метилметакрилатом и акрилонитрилом с соотношением звеньев стирол метилметакрилат акрилонитрил 40 52, 5 7,5 и мол.м. 85000...
Способ изготовления защитных рельефов
Номер патента: 1340398
Опубликовано: 20.04.1995
Авторы: Быстров, Веселовский, Кузнецов, Пергамент, Погост, Тряпицын
МПК: G03C 1/72
Метки: защитных, рельефов
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЗАЩИТНЫХ РЕЛЬЕФОВ путем нанесения сухого пленочного фоторезиста, состоящего из полиэтилентерефталатной основы и светочувствительного слоя, включающего ненасыщенные соединения акрилового ряда, пленкообразующий компонент полиметилметакрилат, фотоинициатор смесь бензофенона с 4,4'-бис-(диметиламино)бензофеноном, -ингибитор гидрохинон, - краситель и фталевую кислоту, на поверхность медной фольги, экспонирования УФ-излучением через фотошаблон, отслоения полиэтилентерефталатной основы фоторезиста и проявления светочувствительного слоя, отличающийся тем, что, с целью повышения разрешающей способности получаемого защитного рельефа, достижения стабильной устойчивости к отслоению его от медной подложки и повышения выхода годных...
Способ получения фотополимеризующейся композиции для защитных рельефов
Номер патента: 1417626
Опубликовано: 20.04.1995
Авторы: Кузнецов, Морозов, Тряпицын, Шурупов
МПК: G03C 1/72
Метки: защитных, композиции, рельефов, фотополимеризующейся
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩЕЙСЯ КОМПОЗИЦИИ ДЛЯ ЗАЩИТНЫХ РЕЛЬЕФОВ с использованием метакриловой кислоты и эпихлоргидрина в две стадии, на первой стадии проводят конденсацию эпоксидной смолы, представляющей собой смесь эпоксисоединений формулы I(мол.м. 340 и содержание эпоксидных групп 25,3 мас.) и формулы IIмол. м. 624 и содержание эпоксидных групп 13,8 мас.) в массовом соотношении 2,5 1,0, с адипиновой кислотой в присутствии кетона Михлера, сокатализатора и гидрохинона и на второй стадии процесса вводят метакриловую кислоту, процесс на второй стадии ведут при 95...