Еда — Автор (original) (raw)

Еда

Способ изготовления селективно отражающегозеркала

Номер патента: 181792

Опубликовано: 01.01.1966

...существующего производственного оборудования, снабженного фотометрцческим контролем толщины слоев.Для изготовления зеркэнергию в интервале от 0,45цо использовать подложкищающий слой из черногоренционные покрытия,Ицтерферецционцое покрытие, получаемое физическим методом, состоит из чередующихся слоев прозрачных диэлектриков с высокими (г) 2,0) ц низкими (и ( 1,6) показателями преломления, цапример сульфида цинка (гг =- 2,3) и фтористого магния (а=1,4).Оптическая толщина Ха всех слоев, кроме первого и последнего равна л,(4; оптическая толщина первого слоя должна быть равна цли несколько меньше .18, я оптическая толщина последнего слоя равна цли несколько болыце г.,/8 (., - длина волны, соответствующая центру спектральной области...