Шпулак — Автор (original) (raw)

Шпулак

Способ получения фотополимеризуемых элементов

Номер патента: 570871

Опубликовано: 30.08.1977

Авторы: Хорт, Шпулак

...происходит только в облученных участках, т. е. там, где образуется резистивное изображение, в участках, закрытых от воздействия ультрафиолетового света, прочного соединения фотополимерного слоя с подложкой нс происходит,вслсдствие чего при проявке резистивногоизображения указанные участки подложкилегко освобождаются от фотополимсра.Холодный перенос фотополимсризующихсяизображений позволяет:не вводить в состав низкоплавкую компоненту, ингибитор термополимеризации и пластификатор - все это упрощает и удешевляет фотополимеризующуюся композицию, ускоряет процесс приготовления и повышаетстабильность состава при хранении;использовать широкий ассортимент фотополимерных составов в качестве пленочныхфоторезистов, причем для этой цели...