Etude numérique et expérimentale de la croissance de couches minces déposées par pulvérisation réactive (original) (raw)

L’objectif de ce travail est de determiner experimentalement les parametres d’entree des logiciels de simulation, puis de comparer les resultats experimentaux et numeriques pour differents metaux ainsi que pour leurs oxydes. La configuration GLAD a ete volontairement choisie pour les structures inclinees particulieres qu’elle permet.Le processus de formation de depot en phase vapeur (PVD) peut etre divise en trois etapes : l'ejection d'atomes de la cible, le transport vers le substrat et la croissance des couches minces. Chacune est simulee par un logiciel : SRIM pour l’ejection de matiere de la cible suite a l’impact avec un ion, SIMTRA pour le transport des atomes de la cible jusqu’au substrat et Simul3D pour la croissance des depots. L’evolution des proprietes des couches inclinees (angle d’inclinaison des colonnes β, epaisseur de la couche, contraintes residuelles, etc) en fonction de la position et de l’angle d’orientation du substrat est etudiee.Les resultats experimen...

Sign up for access to the world's latest research.

checkGet notified about relevant papers

checkSave papers to use in your research

checkJoin the discussion with peers

checkTrack your impact