Integrated circuit layout design protection (original) (raw)
Halbleiterschutz bzw. Topographienschutz ist der Schutz dreidimensionaler Strukturen (Topographien) von .
| Property | Value |
|---|---|
| dbo:abstract | Halbleiterschutz bzw. Topographienschutz ist der Schutz dreidimensionaler Strukturen (Topographien) von . (de) Layout designs (topographies) of integrated circuits are a field in the protection of intellectual property. In United States intellectual property law, a "mask work" is a two or three-dimensional layout or topography of an integrated circuit (IC or "chip"), i.e. the arrangement on a chip of semiconductor devices such as transistors and passive electronic components such as resistors and interconnections. The layout is called a mask work because, in photolithographic processes, the multiple etched layers within actual ICs are each created using a mask, called the photomask, to permit or block the light at specific locations, sometimes for hundreds of chips on a wafer simultaneously. Because of the functional nature of the mask geometry, the designs cannot be effectively protected under copyright law (except perhaps as decorative art). Similarly, because individual lithographic mask works are not clearly protectable subject matter; they also cannot be effectively protected under patent law, although any processes implemented in the work may be patentable. So since the 1990s, national governments have been granting copyright-like exclusive rights conferring time-limited exclusivity to reproduction of a particular layout. Terms of integrated circuit rights are usually shorter than copyrights applicable on pictures. (en) 배치설계권은 집적 회로 설계도에 대한 지식 재산권이다. 대한민국에서는 10년간 보호한다. (ko) Het chipsrecht (ook wel bescherming oorspronkelijke topografieën van halfgeleiderproducten) is een sui generis uitsluitend recht, in de familie van intellectuele eigendomsrechten, tot het verveelvoudigen van de beschermde , het vervaardigen van een halfgeleiderprodukt waarin het topografie is vervat, en een exemplaar van de topografie of het halfgeleiderprodukt waarin de topografie is vervat, te exploiteren. (nl) Fomento à pesquisa, investimento e produção de semicondutores e equipamentos de transmissão para a TV digital; Proteção à propriedade intelectual das topografias de circuitos integrados. Exige que seja aplicado pelo menos 5% do faturamento bruto P&D para a microeletrônica. Visa a atrair investimentos internacionais para o setor da economia. Circuito Integrado (micro chip) – material semicondutores como silício, germânio ou arseneto de gálio. Consiste de “wafers” de 8 ou 12 camadas. São utilizados como memórias ou processadores. A lei americana protege o traçado original de um semicondutor. Período de 10 anos de exploração ou 15 anos de criação (assim como lei do Japão, Reino Unido, Alemanha e França).Itens protegidos: Reprodução da máscaraReprodução da máscara para fins de ensino, análise ou avaliaçãoImportação ou distribuição de um micro chip com mask work protegidoItens livres:Importação, distribuição ou venda de um micro chip com mask work protegido, sem fins de reproduçãoAutorização a terceiros para praticar atividades exclusivasIncorporação de resultados anteriores numa máscara original Infração inocente Para muitos autores, o aspecto mais importante é o da Engenharia Reversa. Folheado cibernético – Chips, software, livros e marcas são fáceis de se copiar. A Fórmula americana – (em 1983)para o projeto do chipvários anos e até 100 milhões de dólarespara a cópiapoucos meses e 50 mil dólares 1959 a 1981 Domínio americanoEm 198647% Japonês39 % Americano (pt) Topografia układu scalonego – poddające się ścisłej definicji prawno-technicznej rozwiązanie polegające na przestrzennym rozplanowaniu elementów, z których co najmniej jeden jest elementem aktywnym, dla wszystkich lub części połączeń układu scalonego. Topografie opisane w dowolny sposób i zgłoszone do urzędu patentowego podlegają ochronie. (pl) Правова охорона топографії інтегральної мікросхеми — це система юридичних заходів, спрямованих на збереження інтегральних мікросхем та їх поширеного використання.Інтегральна мікросхема (IMC) — мікроелектронний виріб кінцевої або проміжної форми, призначений для виконання функцій електронної схеми, елементи і з'єднання якого неподільно сформовані в об'ємі і (або) на поверхні матеріалу, що становить основу такого виробу, незалежно від способу його виготовлення.Топографія інтегральної мікросхеми (ТІМС, англ. Integrated circuit layout) — це зафіксоване на матеріальному носії просторово-геометричне розміщення сукупності елементів інтегральної мікросхеми та з'єднань між ними.На відміну від спеціального законодавства, ЦК України для позначення цього об'єкта інтелектуальної власності використовує термін «компонування інтегральної мікросхеми», який є синонімічним передбаченій законом «топографії інтегральної мікросхеми». ЦК України у ст. 420 також трактує дані категорії як тотожні. (uk) |
| dbo:wikiPageExternalLink | http://www.jus.uio.no/lm/ip.integrated.circuits.treaty.washington.1989/portrait.pdf |
| dbo:wikiPageID | 20165898 (xsd:integer) |
| dbo:wikiPageLength | 11720 (xsd:nonNegativeInteger) |
| dbo:wikiPageRevisionID | 1122521676 (xsd:integer) |
| dbo:wikiPageWikiLink | dbr:Canada dbr:Electronics dbr:Read-only_memory dbr:Brazil dbr:Hong_Kong dbr:Unicode dbr:Unicode_and_HTML dbr:United_Nations dbr:United_States dbr:Integrated_circuit dbr:Intellectual_property dbr:Computer_software dbr:Copyright_Act_of_1976 dbr:Member_states_of_the_United_Nations dbr:Copyright dbr:M dbr:Patent dbr:Sui_generis dbr:Trademark dbr:Australia dbr:Wafer_(electronics) dbr:Washington,_D.C. dbr:European_Union dbr:Fair_use dbr:Semiconductor_intellectual_property_core dbr:Video_game_console dbr:Resistor dbr:Reverse_engineering dbc:Integrated_circuits dbc:Intellectual_property_law dbr:Japan dbr:Backup dbr:TRIPS_Agreement dbr:Transistor dbr:Photolithography dbr:India dbr:Semiconductor_Chip_Protection_Act_of_1984 dbr:World_Intellectual_Property_Organization dbr:World_Trade_Organization dbr:Photomask dbr:Semiconductor_device dbr:Launch_title dbr:Exclusive_right dbr:Sonny_Bono_Copyright_Term_Extension_Act dbr:Agreement_on_Trade-Related_Aspects_of_Intellectual_Property_Rights dbr:First_sale_doctrine dbr:Directive_87/54/EEC dbr:Treaty_on_Intellectual_Property_in_Respect_of_Integrated_Circuits |
| dbp:wikiPageUsesTemplate | dbt:Intellectual_property dbt:As_of dbt:One_source dbt:Reflist dbt:Short_description dbt:UnitedStatesCode dbt:Use_American_English dbt:Use_mdy_dates |
| dct:subject | dbc:Integrated_circuits dbc:Intellectual_property_law |
| gold:hypernym | dbr:Field |
| rdf:type | yago:Artifact100021939 yago:Circuit103033362 yago:ComputerCircuit103084420 yago:Device103183080 yago:ElectricalDevice103269401 yago:Instrumentality103575240 yago:IntegratedCircuit103577090 yago:Object100002684 yago:PhysicalEntity100001930 yago:WikicatIntegratedCircuits yago:Whole100003553 |
| rdfs:comment | Halbleiterschutz bzw. Topographienschutz ist der Schutz dreidimensionaler Strukturen (Topographien) von . (de) 배치설계권은 집적 회로 설계도에 대한 지식 재산권이다. 대한민국에서는 10년간 보호한다. (ko) Het chipsrecht (ook wel bescherming oorspronkelijke topografieën van halfgeleiderproducten) is een sui generis uitsluitend recht, in de familie van intellectuele eigendomsrechten, tot het verveelvoudigen van de beschermde , het vervaardigen van een halfgeleiderprodukt waarin het topografie is vervat, en een exemplaar van de topografie of het halfgeleiderprodukt waarin de topografie is vervat, te exploiteren. (nl) Topografia układu scalonego – poddające się ścisłej definicji prawno-technicznej rozwiązanie polegające na przestrzennym rozplanowaniu elementów, z których co najmniej jeden jest elementem aktywnym, dla wszystkich lub części połączeń układu scalonego. Topografie opisane w dowolny sposób i zgłoszone do urzędu patentowego podlegają ochronie. (pl) Layout designs (topographies) of integrated circuits are a field in the protection of intellectual property. In United States intellectual property law, a "mask work" is a two or three-dimensional layout or topography of an integrated circuit (IC or "chip"), i.e. the arrangement on a chip of semiconductor devices such as transistors and passive electronic components such as resistors and interconnections. The layout is called a mask work because, in photolithographic processes, the multiple etched layers within actual ICs are each created using a mask, called the photomask, to permit or block the light at specific locations, sometimes for hundreds of chips on a wafer simultaneously. (en) Fomento à pesquisa, investimento e produção de semicondutores e equipamentos de transmissão para a TV digital; Proteção à propriedade intelectual das topografias de circuitos integrados. Exige que seja aplicado pelo menos 5% do faturamento bruto P&D para a microeletrônica. Visa a atrair investimentos internacionais para o setor da economia. Circuito Integrado (micro chip) – material semicondutores como silício, germânio ou arseneto de gálio. Consiste de “wafers” de 8 ou 12 camadas. São utilizados como memórias ou processadores. Infração inocente (pt) Правова охорона топографії інтегральної мікросхеми — це система юридичних заходів, спрямованих на збереження інтегральних мікросхем та їх поширеного використання.Інтегральна мікросхема (IMC) — мікроелектронний виріб кінцевої або проміжної форми, призначений для виконання функцій електронної схеми, елементи і з'єднання якого неподільно сформовані в об'ємі і (або) на поверхні матеріалу, що становить основу такого виробу, незалежно від способу його виготовлення.Топографія інтегральної мікросхеми (ТІМС, англ. Integrated circuit layout) — це зафіксоване на матеріальному носії просторово-геометричне розміщення сукупності елементів інтегральної мікросхеми та з'єднань між ними.На відміну від спеціального законодавства, ЦК України для позначення цього об'єкта інтелектуальної власності використовує (uk) |
| rdfs:label | Halbleiterschutzrecht (de) Integrated circuit layout design protection (en) 배치설계권 (ko) Chipsrecht (nl) Topografia układu scalonego (pl) Topografia de circuito integrado (pt) Правова охорона топографії інтегральної мікросхеми (uk) |
| owl:sameAs | freebase:Integrated circuit layout design protection yago-res:Integrated circuit layout design protection wikidata:Integrated circuit layout design protection dbpedia-de:Integrated circuit layout design protection dbpedia-ko:Integrated circuit layout design protection dbpedia-nl:Integrated circuit layout design protection dbpedia-pl:Integrated circuit layout design protection dbpedia-pt:Integrated circuit layout design protection dbpedia-uk:Integrated circuit layout design protection https://global.dbpedia.org/id/51Y2G |
| prov:wasDerivedFrom | wikipedia-en:Integrated_circuit_layout_design_protection?oldid=1122521676&ns=0 |
| foaf:isPrimaryTopicOf | wikipedia-en:Integrated_circuit_layout_design_protection |
| is dbo:wikiPageRedirects of | dbr:Mask_work dbr:Mask_work_copyright dbr:Mask_work_right dbr:Rights_in_semiconductor_topologies dbr:Circuit_design_rights dbr:Integrated_Circuit_Protection dbr:Integrated_circuit_copyright_protection dbr:Integrated_circuit_topographies dbr:Layout-designs_(topographies)_of_integrated_circuits dbr:(M) dbr:Semiconductor_Integrated_Circuits_Layout_Design_Protection dbr:Semiconductor_integrated_circuits_layout_design_protection dbr:Mopyright |
| is dbo:wikiPageWikiLink of | dbr:Industrial_design_right dbr:Industrial_property dbr:Intellectual_Property_High_Court dbr:Sui_generis dbr:Law_of_Indonesia dbr:Semiconductor_intellectual_property_core dbr:Topography_(disambiguation) dbr:Semiconductor_Chip_Protection_Act_of_1984 dbr:IPIC dbr:Photomask dbr:Related_rights dbr:Outline_of_intellectual_property dbr:Mask_work dbr:Mask_work_copyright dbr:Mask_work_right dbr:Rights_in_semiconductor_topologies dbr:Circuit_design_rights dbr:Integrated_Circuit_Protection dbr:Integrated_circuit_copyright_protection dbr:Integrated_circuit_topographies dbr:Layout-designs_(topographies)_of_integrated_circuits dbr:(M) dbr:Semiconductor_Integrated_Circuits_Layout_Design_Protection dbr:Semiconductor_integrated_circuits_layout_design_protection dbr:Mopyright |
| is rdfs:seeAlso of | dbr:Related_rights |
| is foaf:primaryTopic of | wikipedia-en:Integrated_circuit_layout_design_protection |