スキャン式投影露光装置 - Weblio 英和・和英辞典 (original) (raw)
例文
ステップ＆*スキャン式投影露光装置、その保守方法並びに同*装置**を用いた半導体デバイス製造方法および半導体製造工場例文帳に追加
STEP-AND-SCAN TYPE PROJECTION ALIGNER, MAINTENANCE METHOD THEREFOR, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PLANT USING THE ALIGNER - 特許庁
ステップアンドスキャン方式の露光 装置において、露光非点収差の発生を防ぎ、大きな焦点深度と良好な光学性能が得られる投影 露光 装置を提供する。例文帳に追加
To provide a projecting aligner capable of preventing the generation of exposure astigmatism and capable of obtaining large focal depth and effective optical performance in a step and scanning type aligner. - 特許庁
ステップ駆動プロファイルを、スキャン同期誤差に基づいて、ステップ駆動毎に設定する制御装置を備えるステップ＆**スキャン式投影露光装置。例文帳に追加
This step-and-scan type projection aligner is provided with a controller for setting the step drive profile for each step drive, based on scan synchronization errors. - 特許庁
ステップアンドスキャン方式を用いた露光 装置で露光光吸収によるレンズの熱的変化に伴う光学特性を補正し、高解像度のパターン像が得られる投影 露光 装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。例文帳に追加
To provide a projection aligner, which corrects the irrotational symmetric property of the optical characteristics of a lens that accompanies a thermal change in the lens due to the absorption of exposure light by an aligner using a step-and scan system and can obtain a high-resolution pattern image, and to provide a method of manufacturing a device using the projection aligner. - 特許庁
例文
スリットスキャン 露光方式の投影 露光 装置において、照明領域を設定する光学手段（５）とは別に、その光学手段（５）によって設定された照明領域内における走査方向と直交する非走査方向の照度分布を可変とする照度分布制御手段（４）を設ける。例文帳に追加
In a projecting light exposure apparatus of a slit scanning light exposure type, there is provided, other than optical means (5) for setting an illumination area illumination distribution control means (4), luminance distribution control means (4) for making variable luminance distribution in a nonscanning direction extending perpendicularly to a scanning direction in an illumination area set by the optical means (5). - 特許庁