前後工程 - Weblio 英和・和英辞典 (original) (raw)
例文
この浸漬工程と乾燥、加工工程は前後させてもよい。例文帳に追加
The immersing step and the drying and processing step can be conducted in the reverse order. - 特許庁
成膜工程と相前後して、層間絶縁工程において層間絶縁膜を形成する。例文帳に追加
In tandem with the film formation process, an interlayer insulation film is formed in an interlayer insulation process. - 特許庁
イオン注入工程 前後のレジスト工程が不要とし、半導体装置の製造工程数を削減する。例文帳に追加
To reduce the number of manufacturing processes for a semiconductor device by eliminating resist processes before and after an ion implantation process. - 特許庁
一連のプロセスフローにおける各工程名、或いは工程名とその工程名の直前の先工程名とが入力されると、自動的に、各工程名の前後関係を解析し、前後関係が判明した部分から順に各工程名の配置位置・接続線を決定して表示していく。例文帳に追加
When each process name in a series of process flows or a process name and a precedent process name, just before this process name are inputted, the context of each process name is automatically analyzed, and the arrangement position/connection line of each process name is determined and displayed, in the order from the part the relation of which has become clear. - 特許庁
（Ａ）→（Ｂ）の第一の据え込み工程と、（Ｂ）→（Ｃ）の前後方押し出し工程と、（Ｃ）→（Ｄ）の第二の据え込み工程と、（Ｄ）→（Ｅ）のバリ取り工程と、（Ｅ）→（Ｆ）に示した打ち抜き工程とを経て、素材１６を最終段中間素材２５に加工する。例文帳に追加
A material 16 is worked into a final stage intermediate material 25 through a first upsetting step of (A) → (B), a longitudinal extrusion step of (B) → (C), a second upsetting step of (C) → (D), a deburring step of (D) → (E), and a punching step of (E) → (F). - 特許庁
（Ａ）→（Ｂ）の第一の据え込み工程と、（Ｂ）→（Ｃ）の前後方押し出し工程と、（Ｃ）→（Ｄ）の第二の据え込み工程と、（Ｄ）→（Ｅ）のバリ取り工程と、（Ｅ）→（Ｆ）に示した打ち抜き工程とを経て、素材１６を第五中間素材２５に加工する。例文帳に追加
A stock 16 is worked into a fifth intermediate stock 25 through: a first upsetting stage shown by (A)→(B); a front-rear extrusion stage shown by (B)→(C); a second upsetting stage shown by (C)→(D); a deburring stage shown by (D)→(E); and a blanking stage shown by (E)→(F). - 特許庁
例文
動作合成装置２は、動作レベル記述から幾つかの工程を経てRTL記述を導出する際、各工程 前後の中間レベル記述と各工程 前後の記述の対応関係を出力する。例文帳に追加
The operation synthesizer 2 outputs correspondence relation among intermediate descriptions before and after the respective processes and descriptions before and after the respective processes when the RTL description is introduced via several processes from the operation level description. - 特許庁