監視への応用 - Weblio 英和・和英辞典 (original) (raw)
例文
機器異常監視機能を有する光応用計器用変圧器例文帳に追加
TRANSFORMER FOR LIGHT-APPLICATION INSTRUMENT HAVING MONITORING FUNCTION FOR EQUIPMENT ABNORMALITY - 特許庁
フィッシャー・トロプシュ（ＦＴ）合成反応用触媒の微粉末のアップグレーディング反応系への流入量を精度よく定量的に監視でき、同反応系での問題発生の予知を可能とする炭化水素油の製造方法を提供すること。例文帳に追加
To provide a method for producing hydrocarbon oil capable of accurately and quantitatively monitoring inflow of fine powder of a Fischer-Tropsch (FT) synthesis reaction catalyst into an upgrading reaction system and of predicting occurrence of problems in the reaction system. - 特許庁
ＯＣＴやＯＦＤＩによる光干渉断層像形成を応用して、バルーンによる血管壁の拡張状態、ステントの血管壁へ留置状態を監視し、血管の拡張及びステントの留置処置をより適切に行えるようにする。例文帳に追加
To suitably perform expansion of a blood vessel and indwelling treatment of a stent by applying an optical coherence tomographic imaging using OCT (Optical Coherence Tomography) and OFDI (Optical Frequency-Domain Imaging) to monitor the state of expanding a vascular wall by a balloon and the state of indwelling the stent in the vascular wall. - 特許庁
電気所に設置される電力監視端末を追加・変更することなしに、保護・制御・計測用の応用演算機能を自在に追加・変更可能な、経済性、信頼性、拡張性に優れた広域保護制御計測システムと方法を提供する。例文帳に追加
To provide a wide area protection control measurement system and a method therefor with excellent economical efficiency, reliability and scalability, which flexibly add and change an applied operation function for protection, control and measurement without adding or changing a power monitoring terminal mounted on an electric-supply station. - 特許庁
高分子圧電素子を用いて、外乱雑音の影響や漏れ電荷の影響を受け難く、静的な荷重や、ごく緩やかな変動荷重も長時間安定して測定でき、各種監視システムや自動計測等に応用できる荷重測定装置を提供する。例文帳に追加
To provide a load measuring device formed by using a polymer piezoelectric element, hardly influenced by a disturbance, noise or a leakage charge, capable of measuring a very mildly fluctuating load stably for long hours, and applicable to various monitoring systems, automatic measurements or the like. - 特許庁
例文
導電性膜の膜厚の変化をリアルタイムで監視して該導電性膜の研磨終点を高い精度で確実に検出し、ノイズの発生がなく、低消費電力で、さらにはコスト低減を図り得る共振現象を応用した終点検出方法、終点検出装置及びそれを搭載した化学機械研磨装置を提供する。例文帳に追加
To provide endpoint detecting method and apparatus wherein a resonance phenomenon is applied and which can monitor the change of the thickness of an electrically conductive film in real time and surely detect the polishing endpoint for the conductive film with high precision, produce no noise, and reduce power consumption and cost, and to provide a chemical mechanical polishing apparatus having the end point detecting apparatus mounted thereon. - 特許庁