polishing pads - Weblio 英和・和英辞典 (original) (raw)

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polishing pads

研磨パッド

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「polishing pads」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 55件

例文

POLISHING PADS例文帳に追加

研磨パッド - 特許庁

COMPOSITION FOR POLISHING PADS AND POLISHING PAD USING THE SAME例文帳に追加

研磨パッド用組成物及びこれを用いた研磨パッド - 特許庁

Chemical mechanical polishing pads are provided, wherein the chemical mechanical polishing pads have a polishing layer comprising a polishing texture that exhibits a dimensionless roughness R between 0.01 and 0.75.例文帳に追加

０．０１〜０．７５の無次元粗さＲを示す研磨テキスチャを含む研磨層を有するケミカルメカニカル研磨パッドを提供する。 - 特許庁

To inhibit the staining of polishing pads at CMP(chemical mechanical polishing) of copper metal films.例文帳に追加

銅系金属膜をＣＭＰする際の、研磨パッド汚れを抑制する。 - 特許庁

Polishing pads S are arranged in a position in parallel to the guide rail 6.例文帳に追加

ガイドレール６と平行な位置には研磨パッドＳが配置されている。 - 特許庁

The above-described polishing step is performed by using the polishing liquid and the polishing pads which are adjusted such that a friction coefficient is within a range of 0.02 to 0.05.例文帳に追加

ここで、摩擦係数が０．０２〜０．０５の範囲内となるように調整された研磨液と研磨パッドを用いて上記研磨工程を行う。 - 特許庁

例文

Grooves 12a in each of the polishing pads 12 extend in the same direction as the drive direction of the surface plate 11, but the polishing pads 12 adjacently arranged in the drive direction of the surface plate 11 are stuck apart so that the grooves 12a of one polishing pad 12 are spaced not to be in line with the grooves 12a of the other polishing pads 12.例文帳に追加

該研磨パッド１２は、そのいずれもが溝部１２ａの延伸方向を定盤１１の走行方向と合わせると共に、該定盤１１の走行方向に隣接する研磨パッド１２同士を、互いに間隔をおき且つ互いの溝部１２ａが揃わないように貼り付ける。 - 特許庁

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「polishing pads」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 55件

例文

To provide a slurry for chemical mechanical polishing which inhibits the adhesion of polished products to polishing pads and yields fine polished products via a single polishing operation without interrupting the polishing operation, even when polishing a large amount of copper metals.例文帳に追加

多量の銅系金属を研磨する場合であっても、研磨パッドへの研磨生成物の付着を抑え、研磨操作を中断することなく１度の研磨操作で良好に研磨し得る化学的機械的研磨用スラリーを提供する。 - 特許庁

This chemical machinery polishing device is provided with at least an adjusting brush body and plural adhesive pads.例文帳に追加

化学機械研磨装置は、少なくとも、調節ブラシ本体と、複数の粘着パッドとを有する。 - 特許庁

Load between each of the polishing pads 16-18 and the wafer 1 is set independently.例文帳に追加

研磨パッド１６〜１８とウエハ１との間の各荷重が、それぞれ独立して設定される。 - 特許庁

To provide effective solution for preventing slurry leakage in polishing pads used for chemical/mechanical polishing device.例文帳に追加

ケミカルメカニカルポリシング装置に用いられるポリシングパッドのスラリー漏れの防止に対する効果的な解決法を提供する。 - 特許庁

Annular polishing pads 16, 17 and circular polishing pad 18 are attached to the respective bottom surfaces of the pad mounting parts 13-15.例文帳に追加

円環形状の研磨パッド１６，１７及び円形の研磨パッド１８が、パッド取り付け部１３〜１５の下面にそれぞれ取り付けられる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a polishing pad the opening holes of which are roughly uniformly and roughly evenly formed, and restraining fluctuation between the polishing pads.例文帳に追加

開孔が略均一かつ略均等に形成され研磨パッド間のバラツキが抑制された研磨パッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for polishing the surface of a soft magnetic layer formed on the surface of a substrate 15 for a perpendicular magnetic recording hard disk comprises putting a polishing slurry between polishing pads 10 and 10' of the soft magnetic layer of a substrate and moving the both surfaces of the soft magnetic layer of the substrate and the polishing pads relatively.例文帳に追加

垂直磁気記録ハードディスク用の基板１５の表面に形成した軟磁性層の表面を研磨するための方法は、基板の軟磁性層の表面と研磨パッド１０、１０´との間に研磨スラリーを介在させ、及びこの基板の軟磁性層の両面と研磨パッドとを相対的に移動させる。 - 特許庁

例文

To provide a composition for polishing pads, containing a substance having a specified functional group superior in hydrophilic properties, etc., and a polishing pad which has a superior water resistance and durability and a superior polishing performance with high polishing rate, etc.例文帳に追加

親水性等に優れた特定の官能基を有する物質を含有する研磨パッド用組成物、及び優れた耐水性、耐久性を有し、且つ高い研磨速度等の研磨性能に優れる研磨パッドを提供する。 - 特許庁

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「polishing pads」の意味に関連した用語

1

研磨パッド

(専門用語対訳辞書)

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