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例文

The resistance R_RE of a first electric lapping guide (ELG) 29 near the sensor 23 in the read head is correlated to the resistance R_WE of a second ELG 33 and to the width of a first optical lapping guide (OLG) 37 near the neck region 27 of the write head.例文帳に追加

再生ヘッドのセンサ２３近傍の第１の電気的ラッピングガイド（ＥＬＧ）２９の抵抗値Ｒ_REと、記録ヘッドのネック領域２７近傍の第２のＥＬＧ３３の抵抗値Ｒ_WEおよび第１の光学的ラッピングガイド（ＯＬＧ）３７の幅との相関をとる。 - 特許庁

The first exposure of an area R1 is performed for deciding both edges in the element height direction of the GMR element and two partial areas R2 and R3 for deciding both edges in the element height direction of the ELG element sensor film.例文帳に追加

１回目に、ＧＭＲ素子の素子高さ方向の両端縁を規定する領域Ｒ１、及び、ＥＬＧ素子のセンサ膜の素子高さ方向の両端縁をそれぞれ規定する部分領域Ｒ２、Ｒ３を、露光する。 - 特許庁

This is suited with a curve shown by TRa/TRb=(LRa/LRb)^nR, TGa/TGb=(LGa/LGb)^nG and TBa/TBb=(LBa/LBb)^nB, and the setting condition of the aging treatment of respective organic EL elements ELR, ELG, ELB for red, green, and blue are calculated.例文帳に追加

ＴＲａ／ＴＲｂ＝（ＬＲａ／ＬＲｂ）^ｎＲ、ＴＧａ／ＴＧｂ＝（ＬＧａ／ＬＧｂ）^ｎＧ及びＴＢａ／ＴＢｂ＝（ＬＢａ／ＬＢｂ）^ｎＢにて示される曲線で適合させ、各曲線に基づいて、それぞれ赤、緑及び青色用有機ＥＬ素子ＥＬＲ，ＥＬＧ，ＥＬＢのエージング処理の設定条件を算出した。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for lapping a magnetic head slider, by which lapping accuracy is furthermore improved, and generation of scratches and smears between gaps of magnetic resistance (MR) elements and electrical lapping guide (ELG) elements is prevented.例文帳に追加

ラッピング加工精度をさらに向上でき、ＭＲ素子やＥＬＧ素子のギャップ間にスクラッチやスミアが発生するのを防止できる磁気ヘッドスライダのラッピング加工方法および加工装置を提供する。 - 特許庁

例文

In the final floating surface polishing process of a rover 50, a resistance value of the ELG 2 and a resistance value of the real element 1 are detected (measured) in an area where the resistance value of the real element 1 is detectable (step 100).例文帳に追加

ローバー５０の最終浮上面研磨工程において、実素子１の抵抗値が検知可能な領域で、ＥＬＧ２の抵抗値と実素子１の抵抗値を検知（測定）する（ステップ１００）。 - 特許庁