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resist laminationの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 23件

例文

PERMANENT MASK RESIST, METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND PERMANENT MASK RESIST LAMINATION SUBSTRATE例文帳に追加

永久マスクレジスト、永久マスクレジストの製造法及び永久マスクレジスト積層基板 - 特許庁

Solder resist 38 is arranged at the lower surface 32 side of the wiring lamination part 30.例文帳に追加

配線積層部３０の下面３２側には、ソルダーレジスト３８が配設されている。 - 特許庁

Furthermore, a resist coating shape can be rectangular, lamination of the film and printed wiring board can be performed by lamination in vacuum, and the resist can be completely dried after both are closely pressed.例文帳に追加

また、レジスト塗布形状を方形にしたり、フィルムとプリント配線基板の貼り合わせを真空貼付式で行ったり、両者の加圧密着後にレジストを完全乾燥させることもできる。 - 特許庁

Further, a lamination step and a press step are performed after the solder resist formation step and before the exposure step.例文帳に追加

なお、ソルダーレジスト形成工程後かつ露光工程前には、ラミネート工程及びプレス工程が行われる。 - 特許庁

例文

Further, the magnetic tape lamination body is positioned by using a resist pattern formed by lithography.例文帳に追加

更に、リソグラフィにより作製されたレジストパターンを用いて磁性体テープ積層体の位置決めを行う。 - 特許庁

例文

To provide a lamination method for laminating a resin layer such as a color resist layer or the like on a base plate in good yield.例文帳に追加

カラーレジスト層などの樹脂層を基板上に歩留り良く積層する積層方法を提供する。 - 特許庁

That is, a resist pattern in processing an MTJ lamination film is formed by the lattice-shaped dense pattern.例文帳に追加

すなわち、ＭＴＪ積層膜を加工する際のレジストパターンを格子状の密集パターンによって形成する。 - 特許庁

A resist layer is laminated on a substrate by a laminating device 2, and information on a lamination time is exposed on the substrate.例文帳に追加

ラミネート装置２が基板にレジスト層をラミネートするとともに、ラミネート日時を表す情報を基板に露光する。 - 特許庁

The transcription film for forming a barrier rib is formed by forming a lamination layer composed of a resist film and a barrier rib forming material on a supporting film.例文帳に追加

隔壁形成用転写フィルムは、レジスト膜と隔壁形成材料層との積層膜が支持フィルム上に形成されている。 - 特許庁

例文

Nano imprint lithography method is used for carrying out a step of imprinting a concavity and convexity pattern formed on a mold on a resist film applied on a lamination structure of a semiconductor.例文帳に追加

ナノインプリントリソグラフィー法を用いて、モールドに形成された凹凸パターンを、半導体の積層構造上に塗布したレジスト膜に転写する工程を行なう。 - 特許庁

例文

Then a resist 15 is patterned, and the wiring material lamination layer 12 is anisotropically etched, by utilizing a resist pattern containing a hard mask HM of the first and second insulating films 13 and 14, to form a wiring pattern 12 (Fig. 1 (b)).例文帳に追加

次に、レジスト１５をパターニングし、第１、第２絶縁膜１３，１４のハードマスクＨＭを含むレジストパターンに従って配線材料積層１２が異方性エッチングされ配線パターン１２が形成される（図１（ｂ））。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition allowing an excellent cured film to be formed, the film having good circuit embedding property, work efficiency, easy peelability from a support, and various properties required by a solder resist and a permanent resist, to provide a photosensitive element using the photosensitive resin composition, and to provide a lamination method and a photosensitive permanent resist.例文帳に追加

良好な回路の埋め込み性、作業性、支持体からの易はく離性、及びソルダーレジスト・永久レジストに要求される諸特性を備えた優れた硬化膜を形成可能な感光性樹脂組成物と、それを用いた感光性エレメント、ラミネート方法、感光性永久レジストを提供する。 - 特許庁

Then, by processing the MTJ lamination film with the resist pattern, the element array formed by combining the MTJ elements 23 and dummy elements 28 are arranged in the lattice-shaped dense pattern.例文帳に追加

そして、このレジストパターンを用いてＭＴＪ積層膜を加工することで、ＭＴＪ素子２３とダミー素子２８とを合わせた素子アレイを格子状の密集パターンに配置する。 - 特許庁

To provide: a photosensitive resin composition which is excellent in plating resistance, stability after lamination and reduction of development residues and can inhibit discoloration in soldering; a photosensitive film; a permanent mask resist; and a method for producing the permanent mask resist.例文帳に追加

耐めっき性、ラミネート後の安定性及び現像残渣の抑制に優れ、且つ、はんだ処理時の変色を抑制することが可能な感光性樹脂組成物、感光性フィルム、永久マスクレジスト及び永久マスクレジストの製造方法を提供する。 - 特許庁

After the lamination of a polycrystalline ITO layer 20a and the formation of a resist mask by a photolithography process, the polycrystalline ITO layer 20a is etched using, for example, a hydrochloric acid-based etchant.例文帳に追加

多結晶ＩＴＯ層２０ａを積層し、フォトリソグラフ工程によりレジストマスクを形成した後、多結晶ＩＴＯ層２０ａを例えば塩酸系のエッチング液を用いてエッチングする。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition superior in film forming property, lamination property and tackiness and having various properties necessary for a solder resist, such as plating resistance, HAST resistance, soldering heat resistance, cracking resistance and resolution, and a photosensitive film and a photosensitive permanent resist using the photosensitive resin composition.例文帳に追加

フィルム形成性、ラミネート性及びタック性に優れ、耐めっき性、ＨＡＳＴ耐性、はんだ耐熱性、耐クラック性及び解像性等のソルダーレジストに要求される諸特性を十分に有する感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性フィルム及び感光性永久レジストを提供する。 - 特許庁

The photosensitive permanent resist film has a first photosensitive layer and a second photosensitive layer in this order on a support, and satisfies the formula: η_1>η_2 wherein η_1 represents a melt viscosity of the first photosensitive layer and η_2 represents a melt viscosity of the second photosensitive layer at a lamination temperature in lamination on a substrate.例文帳に追加

支持体上に、第１の感光性層、第２の感光性層をこの順に有し、基板上にラミネートする際のラミネート温度における、第１の感光性層の溶融粘度をη_１、第２の感光性層の溶融粘度をη_２としたとき、次式、η_１＞η_２、を満たすことを特徴とする感光性永久レジストフィルムである。 - 特許庁

Thereby, as the strong lamination body block which can resist sufficiently for processing by cutting, grinding, heat treatment, or the like is formed, looseness and peeling of a junction part is not caused, a magnetic head having high quality and high processing yield is obtained.例文帳に追加

このことによって、切断、研磨、熱処理等による加工にも十分耐え得る強固な積層体ブロックが形成されるので、接合部の緩みや剥離が生じなく、高品質、高加工歩留まりな磁気ヘッドが得られる。 - 特許庁

To provide a photopolymerizable resin composition showing excellent resolution of a resist pattern after being developed, edge fusing property during storage and lamination follow-up property to the substrate, having an excellent tenting property of the cured film and aggregation property when the composition is dispersed in a developer, and useful as a DFR (dry film resist) for the manufacture of an alkali developing type printed wiring board.例文帳に追加

現像後のレジストパターンの解像性に優れるとともに、保存時のエッジフューズ性と基板へのラミネート追従性とを両立しており、しかも硬化膜のテンティング性や現像液分散時の凝集性にも優れ、アルカリ現像型プリント配線板作製用ＤＦＲとして有用な光重合性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type radiosensitive composition with its resolution, defocus latitude (DOF) and line edge roughness(LER) improved on the basis of lithographic technology using a shortwave exposure illuminant enabling supermicro-fabrication, a lamination technique and a positive type chemically- amplified resist.例文帳に追加

超微細加工が可能な短波長の露光光源、薄膜化技術及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、解像力、デフォーカスラチチュード（ＤＯＦ）、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が改善されたポジ型感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁

A ground layer where the uppermost part, such as a metal lamination film 20 that is composed of a titanium nitride film 12, an aluminum film 13, and a titanium nitride film 14 is composed of the titanium nitride film, and an insulation film such as a silicon oxide film 15 are formed, and a resist pattern 17 is formed on it.例文帳に追加

窒化チタン膜１２，アルミニウム膜１３及び窒化チタン膜１４によって構成されるメタル積層膜２０のような最上部が窒化チタン膜によって構成される下地層と、シリコン酸化膜１５などの絶縁膜とを形成し、その上レジストパターン１７を形成する。 - 特許庁

In the method for forming a pattern to forming a thick film resist layer 21 by laminating a plurality of photosensitive films 20, each photosensitive film 20 is exposed at each time of lamination, and after all the photosensitive films 20 are laminated, they are developed.例文帳に追加

複数の感光性フィルム２０を積層することによって厚膜レジスト層２１を形成するパターン形成方法において、１枚の感光性フィルム２０を積層する毎に露光を行い、複数の感光性フィルム２０の全部を積層した後に現像を行うようにした。 - 特許庁

例文

To provide a photosensitive transfer material which suppresses deformation during lamination of a photosensitive resin layer, is free of resist film break on through holes, well exhibits meltability and also ensures good adhesiveness to a substrate, in the production of a printed circuit board, particularly in the production of a wiring pattern of copper on a copper clad laminate having through holes.例文帳に追加

プリント配線基板製造、特に、スルーホールを有する銅張積層板への銅の配線パターン製造において、感光性樹脂層のラミネート時の変形を抑制し、スルーホール上でのレジスト膜破れもなく、また、十分に溶融性を示し、基板との密着性も良好となる感光性転写材料を提供することである。 - 特許庁