C23c 13/08 — C23C 13/08 — МПК (original) (raw)
285667
Номер патента: 285667
Опубликовано: 01.01.1970
МПК: C23C 13/08
Метки: 285667
...охлаждаемая цилиндрическая рубашка с черной наружной поверхностью, жестко скрепленная с расположенной внутри нее цилиндрической втулкой, снабженной каналами для впуска и выпуска циркулирующей охлаждающей жидкости. Это позволяет улучшить качество покрытий.На фиг. 1 представлено устройство в общем виде; на фиг. 2 - общий вид барабана.Устройство состоит из вакуумной камеры 1, внутри которой расположены приспособления для испарения 2, приводные ролики 8 и 4 и охлаждаемые барабаны б и 6.Охлаждаемый барабан выполнен в виде полого тонкостенного цилиндра 7 с полированной наружной поверхностью и черной внутренней поверхностью, внутри которого помещена охлаждаем а я цилиндрическая рубашка 8 с черной наружной поверхностью, жестко скрепленная с...
Установка для нанесения покрытий в вакууме на ферромагнитные детали
Номер патента: 301380
Опубликовано: 01.01.1971
МПК: C23C 13/08
Метки: вакууме, детали, нанесения, покрытий, ферромагнитные
...устройство, выполненное в виде размещенных параллельно друг другу по кривой полых цилиндров 2, внутри которых установлены электромагнитыс чередующимся направлением 5 полюсов, причем внешняя по отношению к испарителям сторона цилиндров охвачена ярмом 4 магнитопровода, а магнитные оси смежных электромагнитов смещены на постоянный угол в направлении против вращения ци- О линдров 2. К крайним цилиндрам примыкают механизмы 5 и б для загрузки и выгрузки деталей,Детали 7, подлежащие покрытию, с на правляющей питателя поступают на поверхность первого цилиндра, где либо прилипают к нему, либо попадают в щель механизма 5 для загрузки, возвращающего их на поверхность цилиндра. Детали, прилипшие к поверх ности первого цилиндра, вращаются вместе...
Устройство для подачи порошкообразных материалов в испаритель
Номер патента: 438727
Опубликовано: 05.08.1974
Авторы: Готра, Нашиванко, Родионов
МПК: C23C 13/08
Метки: испаритель, подачи, порошкообразных
...- осуществление напыления различных материалов в одном технологическом процессе.Это достигается тем, что трубопровод снабжен цилиндром с отверстиями различного диаметра по образующей, причем цилиндр расположен коаксиально трубопроводу и кинематически связан с бункером.На чертеже представлено устройство.Устройство состоит из бункера 1, трубопровода 2, поршня 3, лотков 4, цилиндра 5 с отверстиями 6 различного диаметра по образующей. Цилиндр 5 расположен коаксиально трубопроводу 2 и механической передачей 7 связан с бункером 1. Испарители 8 укрепляются на турели 9, кинематически связанной с 5 бункером.Устройство работает следующим образом.При подводе на рабочую позицию испарителя 8 цилиндр 5 одновременно с бункером 1...
Устройство для нанесения покрытий в вакууме
Номер патента: 444833
Опубликовано: 30.09.1974
Авторы: Голубева, Григорьев, Кириенко, Клочков, Левинских, Павлов, Сергеев, Шапочкин
МПК: C23C 13/08
Метки: вакууме, нанесения, покрытий
...включающих проекционные линзы 10, приемники 11, фильтры 12 и лампы накаливания 13. Маска 4 приводится во вращение приводом 14 и устанавливается на неподвижном плато 15.Описываемое устройство работает следующим образом.Заготовки 7, подлежащие асферизации, помещают в установочные позиции поворотного диска 6 и центрируют относительно оси маски 4, В отверстия вспомогательного диска 8закладывают контрольные плоскопараллельные пластинки 9. Источники испарения 2 и 3 заряжают испаряемыми веществами и начинают очистку вакуумной установки. При достижении необходимой степени разрежения начинают цикл асферизации всех заготовок 7.Диск снабжен нечетным количеством позиций, например семью, для установления асферизуемых заготовок.Полный цикл...
Устройство для нанесения покрытий в вакууме
Номер патента: 300079
Опубликовано: 05.01.1975
Авторы: Вахминцев, Ермолов, Клебанов, Никитин, Петров, Рыкалин, Токаев, Чадов, Шоршоров
МПК: C23C 13/08
Метки: вакууме, нанесения, покрытий
...подаче ускоряющего потенциала от высоковольтного источника между катодом 3 и испарителем 5 материала создается электрическое полепод действием которого электро статически фокусируемый поток электроновбомбардирует поверхность материала испарнтеля 5, в результате чего он нагревается и испаряется. Испаряемый поток 9 состоит из нейтральных атомов, лоложительных ионов и 15 вторичных электронов. Помещение катода 3 внепосредственной близости от испаряемого материала облегчает нейтрализацию отрицательного пространственного заряда у катода положительными ионами. В межэлектрод ном пространстве создаются условия для возникновения несамостоятелыного электрического разряда в парах осаждаемого материала.С помощью системы 7 коммутации высоковольтный...
Испаритель металла в вакууме
Номер патента: 461163
Опубликовано: 25.02.1975
Авторы: Генис, Кириченко, Медведников, Чифоненко
МПК: C23C 13/08
Метки: вакууме, испаритель, металла
...чертеже изображена схема предлагаемого испарителя.Она содержит силовой трансформатор питания дугового разряда 1, трехфазный управляемый выпрямитель 2, имеющий два выхода:-и общий +. Выход + выпрямителя подключен к аноду 3, которым обычно является корпус вакуумной камеры, а выходы-к токоподводам катода 4, располагаемым на его концах, На катоде 4 установлены датчики положения 5 и 6 электрической дуги,О Источник управляющего тока выполнен изуправляемого выпрямителя 16, трансформатора 17 и регулятора напряжения 18, Выпрямитель 16 подключен к токоподводам катода 4 и ток управления проходит по нему в на правлении, определяемом полярностью источника в заданный момент.При возбуждении электродугового разрядамежду анодом 3 и катодом 4 дуга...
Экранирующее устройство
Номер патента: 473770
Опубликовано: 15.06.1975
Авторы: Гордеев, Луковников, Фадеев, Яшуков
МПК: C23C 13/08
Метки: экранирующее
...устройство в закрытом состоянии; на фиг. 2 - экранирующее устройство в открытом состоянии; ца фиг, 3 - управляющий ггаз рычага с эксцентричным пальцем; на фиг. 4 - шарнирное крепление рычага к несущему распределительному кольцу; на фиг. 5 - несущее распределительное кольцо в призматических направляющих.Экран црующее устройство состоит из нескольких равномерно расположенных по окружности лепестков 1, закрепленных на двуплечик рычагах , шарнирно связанных в центре т цесущи.,1 распределительных кольцоч 3, вращающимся цо призматическим нацравлякцццм 1,юрой которых служит кронштейн 5, жестко связанный с вакуумной камерой 6. Двуцлечие рычаги снабжены уцрагзляющим цазоч 7, взаимодействующим с пальцем 8, выполненным в виде эксцентрика для...
Устройство для нанесения покрытий в выкууме
Номер патента: 427612
Опубликовано: 05.07.1975
Авторы: Жиглинский, Путилин
МПК: C23C 13/08
Метки: выкууме, нанесения, покрытий
...плоский испаритель 2 ложкодержатели 3, выполненные в виде расположенных друг под другом колец, параллельных испарителю и имеющих с ним общую ось вращения. Положение центров подложек 4 задано формулой:(Ь - 1,056) + о = 1,056-,где й - расстояние от испарителя до подложкодержателя;о - расстояние от осиложкодержателей доподложек,При таком расположении испарителя нподложкодержателей толщина слоя в центреподложек не зависит от ее местоположения вмомент начала и конца испарения. При обычной геометрии толщина слоя в центре разныхподложек может отличаться на величину до 1- где и - число оборотов подложкод Зи жателя за время напыления слоя. Обыличина и равняется 300 в 5 оборотаэтому полосы пропускания интерферных фильтров, полученных на...
Вакуумная установка для нанесения покрытий
Номер патента: 479826
Опубликовано: 05.08.1975
Авторы: Архипов, Васецкий, Ковалев, Королев, Смирнов, Шитов
МПК: C23C 13/08
Метки: вакуумная, нанесения, покрытий
...10 и , 11 смонтирована карусель подложек 12, кото, рая имеет возможность вращения вокруг горизонтальной оси. На карусели закреплены 1держатели подложек 18 с подложками 14,причем держатели подложек имеют собствен ную ось вращения и на конце жестко закреп, ленные на оси ролики 15. С помощью пружин1 б ролики держателей подложек прижимао ются к неподвижной кольцевой направляющей 17, жестко закрепленной на корпусе на: пылительной камеры. На крышке камерыустановлен испаритель 18. Кольцо 19, расположенное на карусели, несет на себе по движные ширмы 20, 21 и 22, которые имеютвозможность фиксации с помощью винта 28 , . относительно ширм 24, 25 н 2 б, закрепленныхнеподвижно на спицах карусели 27, что по. зволяет регулировать зазор, по которому...
Шлюзовое устройство
Номер патента: 490872
Опубликовано: 05.11.1975
Авторы: Минайчев, Минхевич, Одиноков, Пупко
МПК: C23C 13/08
Метки: шлюзовое
...в виде пронутренней стенке хся с боковыми атрубка для оттройства 9,обретен аку мсодержа ш,ыми откадами дляы промежя тем, чти уменьш еечцв емымц портиой отцельюнатес нцНа фиг, 1 ппоперечный иА - А.Устройство состоит из вак1 с торцовыми крышками 2гнездами 5 для транспортиркамеры промежуточной откадольных каналов б и 7 во вкорпуса камеры, сообщающиоткачиваемыми полостями, пкачки 8, уплотцительного ус ноков, В. Е. Минайчев и В. А. Михневи Ротор с продольными каналами 10 образуетс корпусом щелевой зазор, а в верхней части корпуса находятся окно 11 загрузки транспортируемых изделий ц окно 12 выгрузки цх в 5 вакуумную камеру 13 (показана пунктиром).Устройство работает следующим образом.Из окна загрузки 11 изделия попадают вгнездо 5 ротора....
Устройство для нанесения покрытий в вакууме
Номер патента: 378119
Опубликовано: 05.10.1976
Авторы: Вахминцев, Ермолов, Никитин
МПК: C23C 13/08
Метки: вакууме, нанесения, покрытий
...земли, а на электрод 4 подаеся положительный потенциал от источника378119и выталкивает ионизированный пар по направлению к подложке 11. В электрическомполе электродов 4 и 7 поток дополнительно подфокусируется и ускоренный в продольном поле электромагнита 12 осаждаетсяна подложку 11,Режим испарения устанавливается потоку в датчике 14 при закрытой заслонке13.ЭУстановив требуемую скорость испарения, заслонку 13 открывают и напыляютметаллическое покрытие до заданной толщины. Затели с помощью игольчатого натекателя 15 через электрод 7 вводят в плазму испаряемого металла реактивный газ,например кислород, азот, углекислый газ,метан, до определенного парциального давления. Ионизированный в плазме газ соединяется на подложке 11 с поступающим...
Электродуговой испаритель материалов
Номер патента: 565949
Опубликовано: 25.07.1977
Авторы: Ефимов, Медведников, Погорелов
МПК: C23C 13/08
Метки: испаритель, электродуговой
...пятна ной магнит триперемеерживать ода, При атод 1 ив одном из Однако в известных устройствах материал к спаряется неравномерно из-ааинте изнеса осевой части катода.Бель изобретения - повышение равномерности испарения материала катода. Это дос-,тигается тем, что система сканированиякатодного пятна электродугового испарителя,материалов, содержащего цилиндрический катод, поджигающий электрод и систему сканирования катодного пятна, выполнена в виде двух соленоидов, размещенных соосно катоду с обеих его сторон.Яа чертеже представлен электродуговойиспаритель материалов,Испаритель содержит к с экран Скорость перемещения катопределяется суммарной величного поля обоих соленоидов.О При прохождении одинакового ческого тока по обоим соленоид...
Вакуумный затвор для подачи полосового материала
Номер патента: 575380
Опубликовано: 05.10.1977
Авторы: Зачиняева, Крылов, Подольский, Попов, Сумский
МПК: C23C 13/08
Метки: вакуумный, затвор, подачи, полосового
...своими роликами 10 на за слонку 2 и соединены с ней пружинами 11. Гидроцилиндры 12 (фиг, 3) поворачивают О через зубчатые лары 13 вал 3.В подпружиненные поворачивающиеся упс ры 14, установленные на нижней стенке кор пуса затвора, упираются концы прижимных рычагов 9 при занирании заслонки 2. Упоры 1 Ь 15, установленные на боковых стенках корпуса, ограничивают угол поворота наклоняемой направляющей 4 Й ее крайнем нижнем положении, Уплотняюшие прокладки 16 крепятся на,заслонке 2, стационарная проклад ка 17 неподвижно закреплена в корпусе затвора.Наклоняемая направляющая для экраниза ции нагретой полосы выполнена пустотелой, охлаждаемой (на чертеже показана условно),25 охлаждение подводится через полые оси 6 поворота направляющей 4,...
Смотровое устройство для вакуумных установок
Номер патента: 581169
Опубликовано: 25.11.1977
Авторы: Батов, Никитин, Рогов, Шинкарев, Яковлев
МПК: C23C 13/08
Метки: вакуумных, смотровое, установок
...прорезями 3 и 4, смещенными относительно друг друга по утлу и привод вращенияведущего экрана 2 в виде вала 5 и втулки6, Устройство снабжено центробежным регулятором, содержащим грузы 7,8, На ведомомэкране 1 закреплены две шестерни 9 и 10,которые находятся в зацеплении с шестерней11, жестко связанной с валом 5 К осямшестерен 9 и 10 прикреплены грузы 7 и 8,связанные пружинами 12 и 13,Смотровое устройство для вакуумныхновок работает слепуюшим образом,В начальный периоп технологическогопроцесса, когда нагреваемый объект имеетмалую яркость,-скорость вращения экранов1 и 2 устанавливается такой, что грузы 7и 8 под действием пружин 12 и 13 ндхопятся в ближнем к оси вращения положении,Сдвиг ведомого экрана 1 относительно ведущего экрана 2 равен...
Вакуумная установка для нанесения пленок
Номер патента: 605860
Опубликовано: 05.05.1978
МПК: C23C 13/08
Метки: вакуумная, нанесения, пленок
...получают в ней рабочее разрежение и псдают на заглушки 10 напряжение, достаточное для разогрева вещества 9 до температуры испарения. Подвижная заслонка 4 до выхода испарителя 5 на рабочий режим перекрывает молекулярный поток между ним и подложкой 3, закрепленной на терморегулируемом подложкодержателе 2. В рабочем режиме в цилиндре 7 создается избыточное давление паров вещества 9 и молекулярный поток по паропроводу 8 направляется на подложку 3, где конденсируется в виде жидкой пленки. Время конденсации задается подвижной заслонкой 4 и определяет толщину препарируемой пленки.Сечение паропровода 8 влияет на скорость напыления, которая мало зависит от температуры испарителя. Подбором температуры испарителя 5 и подложкодержателя 2 создаются...
Испаритель электропроводящих материалов
Номер патента: 614133
Опубликовано: 05.07.1978
Авторы: Дороднов, Минайчев, Мирошкин, Мубояджян, Помелов
МПК: C23C 13/08
Метки: испаритель, электропроводящих
...12 однополярныхимпульсов напряжения с регулируемой Юамплитудой, длительностью и частотойследования, Плоский катод 1, охлаждаемыйсистемой охяаждения 13 (входи выход охлаждающей жидкости показанна чертеже стрелками), расположен над 15полюсными наконечниками б и 7 магнитной системы и изолирован от нее припомощи изолятора 14. Подача охлаждающей жидкости в анод 2 осуществляетсячерез токовводы 15 и 1 б. 3) Испаритель работает следующим образом,При подаче напряжения на катод 1и анод 2 происходитпробой по поверхности 4 изолятора 3, на которую предварительно нанесена проводящая пленка, и на границе раздела катод-изолятор, вынесенной иэ области максимуманеоднородного магнитного поля, создаваемого полюсными нЬконечниками б и7, возбуждается...
Устройство для получения покрытий в вакууме
Номер патента: 567341
Опубликовано: 05.09.1978
Авторы: Дороднов, Минайчев, Мирошкин, Мубояджян, Панкратов, Помелов
МПК: C23C 13/08
...7, полыйкатод 9 и анод 11 снабжены нагревателями 14, 15 и 16 соответственно,Ионизованные пары 17 испаряемого мате;риала 4 конденсируются на подложке 18, 20установленной в подложкодержатепе 19.Перед запуском устройства после достижения требуемого разрежения в технологическом обьеме, где промэводится напыление, предварительно црогреваются нагреватели 14, 15 и 16, паропровод 7,. полый катод 9 и анод 11, а затем прогревают испаритедь 1 с закрытым затвором Э при помощи нагревателя 2. Регулируя мощности нагревателей 2, 14, 15 з 0н 16 устанавливают температуру испарителя 1, соответствующую давлению паровисаряемого материала 4 0,510- 10 мм рт. ст., температуру паропровода7, полого катода 9 и анода 11, превыша- Иющую температуру испаритедя 1, ддя...
Устройство для защиты смотрового окна в вакуумных плавильных печах
Номер патента: 627182
Опубликовано: 05.10.1978
Авторы: Мирошниченко, Орлов, Полищук, Ульянов, Яковлев
МПК: C23C 13/08
Метки: вакуумных, защиты, окна, печах, плавильных, смотрового
...смотрового стекла от ионизационноотклоняющей системы с учетом коэффициента запаса на разброс частиц парапо энергиям должно быть не менее удвоенного радиуса новой траектории полетакаждой частицы в данном магнитном поле. сЧтез 2 К= гН 8огде С - коэффициент, равный 3-10 см/сек,/ скорость движения частиц пара ввакууме при определенной температуре МЯ-масса ионизационной частицы пара,Н - напряженность отклоняющегомагнитного поля;ае - заряд иона,Удлиненный тубус устройства с узким З 5входным сечением у плавильной камерыустраняет также возможность попаданияна смотровое стекло брызг и капельметалла, выбрасываемых с поверхностирасплава, так как радиус траектории40их полета, как правило, не вписываетсяв полную длину тубуса устройства. Отклоненный...
Электродуговой испаритель металлов
Номер патента: 636266
Опубликовано: 05.12.1978
Авторы: Гетман, Гольдинер, Долотов, Саблев
МПК: C23C 13/08
Метки: испаритель, металлов, электродуговой
...на фиг. 1; на фиг. 6 дано поперечное сечение катода на фиг. 5.Злектродуговой испаритель высоковакуумного насоса (фнг. 1) содержит анод 1, служащий одновременно камерой испарителя; катод 2 в виде цилиндра диаметром 250 мм, выполненный из титана и размещенный симметрично относительно оси камеры- анода на конце токоподвода 3, представ. яющего собой медный стержень диаметром 25 мм, изогнутый под прямым углом. Второй конец токоподвода выведен нз камеры-анода через вакуумноплотпый изолятор 4 и электри.чески соединен с отрицательным полюсом источника питания 5. Положительный полюс источника электрически соединен с камерой. анодом. Экран Б, изготовленный из магнит. ного материала, охватывает нерабочую поверхность катода, На поверхности...
Электродуговой испаритель металлов
Номер патента: 597246
Опубликовано: 25.01.1979
Авторы: Ключко, Саблев, Ступак
МПК: C23C 13/08
Метки: испаритель, металлов, электродуговой
...(ВО 5. СОЛЕКОИД 3 ПОДКЛЮ- чают ис, Ояк,кся(аня, создающем Б ма: кнтксм псле соле(сида катсдкоепятке Д 1 Г вра:;.=ется Б Награвлекин нс 5 омалькс. склсвьз( пкккям поля, т,е,скружкс, т (,. Цсн (5 опу"к анки пс ши не Й тока в 5 б 200 Й на пОверхности като:а вблизи чсн(ы появляется составляющая поля. Нс,мапьная полю ссле- К- = Г пЗ. Ьта Е СКПОБЫЕ ПИКНИполя в Гайск - п,свод(нка с током кр(яв.(:-ются(: ка-Огксе пятно ; ещает597246 инФормации принятые Ваэкспертизе ни ание паи15 дед Р 3694691 р д 70 1,. Патентс 1 108,Составитель О.БогомоловТехред С,Кигай Корректор 14.Демч Редактор Т.Коладцева/1 Тираж 1119 ЦНИИПИ Государственного кампа делам изобретений и о 113035, Иосква, Ж, Раушск Заказ 7870 Подпитета СССРкрытийя наб д,4/ Филиал ППП...
Вакуумная установка для нанесения покрытий
Номер патента: 467641
Опубликовано: 28.02.1979
Авторы: Биктигиров, Бондаренко, Коньков, Окунас, Подвигалкин, Страздас, Шайхутдинов, Янкаускас
МПК: C23C 13/08
Метки: вакуумная, нанесения, покрытий
...дисков 11, на которых веерообразно и с возможностью вращения укреплены направляющие 12 пластин, в пазы которых вставляются покрываемые пластины. Нижние направляющие 12 жестко связаны с кулачками 13, которые удерживаются в положении равновесия пружинами 14. Пружины 14 обеспечивают равновесный угол раствора между направляющими 12, равный а, зависящий от числа направляющих 12.При вращении ведущего вала 5 о з роликов 15, укрепленных на диске 1 дин и 1, вхо467641 С 1) О р м 1 л а и;5 О с) р с 1 с и и 51 Го 17 Составитель А. КоньковРедактор Т. Колоднева Техред Н. Строганова Корректоры: И, Позняковскаяи О. Тюрин Заказ 11502 Изд.250 Тираж 1138 Подппспо НПО Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж,...
Установка для нанесения покрытий на порошки
Номер патента: 657086
Опубликовано: 15.04.1979
Автор: Зеберинь
МПК: C23C 13/08
Метки: нанесения, покрытий, порошки
...на своеивнутренней поверхности слой металлизируемого-материала 7. По оси барабаназакреплен обращенный шнек 8, конецкоторого охватывает носик лотка пита 4теля сыпучим материалом 9. Механизм5 электрически соединен с источникомнапряжения (не показан) через высоковольтный ввод 10.Представленный на фиг. 3,4 механизмМ5 состоит, в основном, из двух, обьединенных коробом рядов электропроводных пластин, которые ориентированы вовзаимно перпендикулярных плоскостях,Пластины первого ряда 11 имеют постоянный наклон в радиальной плоскостибарабана 6 и расположены с зазоромотносительно движущегося с барабаномслоя 7, Пластины второго ряда 12 снабжены осями 13, закреплены с возможностью поворота в этих осях в аксяальной плоскости барабана я соецинены...
Устройство для нанесения покрытий в вакууме
Номер патента: 659641
Опубликовано: 30.04.1979
Автор: Латышев
МПК: C23C 13/08
Метки: вакууме, нанесения, покрытий
...экрана, а на другом плече размещена пластина из магнитного материала, 659641На черте)кс изображен всртикальньй разрез экранируюшего устройства в положении, кОГда,1 епесткОВый экран зак 1)ыВд. ет испаритель,Держателем 1 к стеклянному цилцндрнсССКО) ЭКраиу 2, ) СТдисБ;цдЕМОМдый раз внутрь камеры-ба,лона 3, рц напылении прикрепляется лсисстковьи экран 4 с помопью зажима 5.С противоположной стороны дсржатсля 1 на предусмотренную на цилиндрическом экране 2 фаску с помощьо крючка зацепляется Ч-образный фиксатор 6 с отопутым концом, на кот 01)ом Б гориЗОнтально ИО- ложенци перед каждым напылеием устанавливается лепестковый экран 4.Для обеспечения открывацця лецс(гкоБого экрана 4 к )-обрдзному фиксатору б ПРНс 1 РНВЯСТС 51 ИЗ .сГНИ 1...
Устройство для испарения электропроводящих материалов в вакууме
Номер патента: 661042
Опубликовано: 05.05.1979
Авторы: Дороднов, Минайчев, Мирошкин, Мубояджян, Помедов
МПК: C23C 13/08
Метки: вакууме, испарения, электропроводящих
...границе раздела катод.изолятор зарождается катодцое ц)гпгс. 110 д действием цеоднороднс)го магнитс)го ггс)ггя 1 гссеяния (см. пунктир в зазормежду НО- гОсцыми нс кс)неч цика ми Я) к)гто,гггое п)гт цо совершает сложное движение, быстро пс. - ремсшаясь Вдс),гь линий магнитного поля, т. е. по рсгдг)л В зону максимума суммарного поля. расположенного Вблизи оси зазора между полюсцыми цаконечниками 8с гцитцой сис."семы и поперек силовых ций магнитного поля, Достигнув зоны максимума поля, катодное пятно движется гс),г.- ко лишь поперек силовых линий, поля, т, е. совершает круговое врацгецие, т. к. в рассматриваемом примере зона магнитного поля замкнута по круговой траектории. (.корость перемещения катодцого пятна зависит от тока дуги и величины...
Шлюзовое устройство
Номер патента: 723000
Опубликовано: 25.03.1980
Авторы: Минайчев, Михневич, Одиноков, Савин
МПК: C23C 13/08
Метки: шлюзовое
...полость 3 соединена с откачиым патрубком 13 второй ступени откачки, который закреплен на корпусе 1. В корпусе 1 имеются загрузочное 14 и разгрузочное 15 отверстия дпя прохода транспортируемых иэделий. Для того, чтобы изделие не соприкасалось с внутренней поверхностью загрузочной полости 5 ротора 4, на направляюшей 10 установ лен держатель 16 и заслонка 17, кинематически соединенная с ротором 4.Устройство установлено на рабочей камере 18. Регулируемые упоры 19 предназначены для балансировки ротора 4 в корпусе 1.Устройство работает следуюшим образомЧерез загрузочное отверстие 14 происходит загрузка изделия в загрузочную полость 5 ротора 4. При этом изделие размещается в направляюшей 10 и упирается в держатель 16. При вращении. ротора 4...
Устройство для осаждения слоев
Номер патента: 796246
Опубликовано: 15.01.1981
Авторы: Воробьев, Гуров, Иванов, Корзинкин, Мытарев, Насонов, Помозов, Фомин
МПК: C23C 13/08
...всей окружности реактора, Трубки ввода реагентов 6 парогазовой смеси или пара и газов в отдельности) направлены на кольцевой экран под углом с целью закругки газа по образующей э"нв г: направлении конца трубы 3, Труба 3 в трубе 2 уплотнена с одной стороны уплотнением 7 из термостойких материалов, чем предотвращается проникновение парогазовой смеси в зазор между трубами реактора.Подложкодержатель, выполненный в виде лодочки 8 с подложками, размещен в центре рабочей зоны вакуумной камеры 1. На расстоянии не более 3 см от лодочки 8 заканчивается трубка ввода продувочного инертного газа О, размещенная в зоне вакуумного демпфирования, Водоохлаждае мый корпус вакуумной системы 5 соединен с механизмом 10 регулирования скоросги откачки.Механизм...
Устройство для нанесения покрытийв вакууме
Номер патента: 796247
Опубликовано: 15.01.1981
Авторы: Берзин, Ворошнин, Рудик, Стыркш, Федчук
МПК: C23C 13/08
Метки: вакууме, нанесения, покрытийв
...1 ими, выполне виде призмы с двумя пазами н дой из ее граней.На чертехе представлена конструк ция устройства.Устройство состоит иэ корпуса вакуумной камеры 1, вращающегося барабана 2, выполненного в поперечном разрезе направляющих 3, в которые 10 вставляются в виде решеток кассеты 4с обрабатываемыми изделиями 5. Межцу внешними и внутренними направляющими 3 установлены экраны 6. Барабан 2 размещен эксцентрично относительно корпуса камеры 1 на роликах 7 и получает вращение от привода (на чертеже не показан). Внутри камеры закреплены испарители 8 и 9, служащие для распыления и нанесения металла на поверхность изделий. Необходимое разрежение в камере 1 обеспечивается вакуумной системой (на чертеже непоказана),Устройство работает следующим...
Установка для обработки лен-точного материала b вакууме
Номер патента: 808555
Опубликовано: 28.02.1981
Авторы: Вигант, Городецкая, Мамаев
МПК: C23C 13/08
Метки: вакууме, лен-точного
...4 достаточно для преодолениясил трения, возникакщих нри смоткеленточного материала 6 со шпинделя 8и его протяжке в загрузочной камере 4, а усилие давления на материалролика 17 в загрузочной камере 5больше усилия давления на этот материал ролика 16 в загрузочной камере 4 на величину, превышающую силутяжести ролика 16 и суммарнуюсиуу трения, возникающую при перемещении материала через загрузочную 4, рабочую 1 и разгрузочную 5вакуумные камеры.Управляемые уплотнители 2,3,10и 11 шлюзовых камер 4 и 5 выполненыс возможностью попарного периодического открытия то со стороны.рабочей вакуумной камеры 1 (уплотнители 2 и 3),то со стороны атмосферы,Цля создания вакуума в рабочейкамере 1 и промежуточного вакуума в шлюзовых камерах 4 и 5...
Электродуговой испаритель металла
Номер патента: 268122
Опубликовано: 30.03.1981
Авторы: Атаманский, Горбунов, Долотов, Лунев, Луценко, Саблев, Усов
МПК: C23C 13/08
Метки: испаритель, металла, электродуговой
...испаритель, общий Испаритель состоит из катода 1, анода 2, выполненного в виде металлической оболочки произвольной Формы, обхватывающей рабочую поверх ность катода и поджигающего электрода 3. Анод 2 в виде металлической оболочки служит одновременно внутренней поверхностью вакуумной камеры 4.Дуга возбуждения кратковременным касанием поверхности катода 1 поджигающим электродом 3 горит в парах материала катода между рабочей поверхностью катода 1 и внутренней поверхностью оболочки анода 2 при любом низком давлении остаточных газов в вакуумной камере 4.Так как металлическая оболочка анода 2 со всех сторон обхватывает рабочую поверхность катода 1, то потоки металлической плазмы, образованные в катодной области дугового разряда,...
Вакуумный затвор
Номер патента: 834244
Опубликовано: 30.05.1981
Авторы: Захаров, Подольский, Савельев
МПК: C23C 13/08
...16, встроенных в каретку 5, и поджата д 5 к ней пружинами 17 (фиг,3); клинья прямого хода 18 и обратного 19 закреплены на заслонке 11. Регулируемые упоры - левый 20 и правый 21, расположенные на торцах корпуса 1, служат для фиксации заслонки 11 относительно отверстий 2. Направляющие 22 на корпусе 1 и направляющие 23 на каретке 4 служат для транспортировки.В исходном положении "Затвор открыт"Фиг. 1-4)каретка 5 находится в левом крайнем положении, при этом заслонка 11 прижата к левому упору 20, а гидроцилиндр 8 через кривошипно-вакуумный механизм 9 и каретку 40 5 перемещает шарики 16, которые с одной стороны упираются в корпус 1, а с другой давят на клинья прямого хода 18, в результате чего дополнительная уплотняющая плоскость 13 45...