Гаильман — Автор (original) (raw)
Гаильман
Устройство для нанесения покрытий в вакууме на керамические основания резисторов
Номер патента: 415338
Опубликовано: 15.02.1974
Автор: Гаильман
МПК: C23C 14/26, H01C 17/08
Метки: вакууме, керамические, нанесения, основания, покрытий, резисторов
...19, Внутри шлюзов 8 ц 9 расположены емкости 20 и 21, в которые подаются основания резисторов: перед загрузкой в барабан 2 из загрузочного приспособлсция 4 в емкость 20 при открытом затворе 22 ц после металлизации из барабана 2 в емкость 21 прц открытом затворе 17.Емкости 20 и 21 снабжены рычагами 23 ц24, служащими для поворачивания этих емкостей вокруг оси, проходящей вдоль емко сти. Такая конструкция шлюзов позволяет подавать основания резисторов при открытых затворах 16 и 25 в барабан 2 и емкость разгрузочного приспособления 5, Беличье колесо испарителя закреплено на основании 26 цспарителя. Основание испарителя после каждого цикла металлизации (прогрев спирали и испарение сплава) поворачивается ца угол 90-60. При этом к токоведущим...