130 nm process (original) (raw)
130 nanòmetres (130 nm) és una tecnologia de fabricació de semiconductors en què els components tenen una dimensió de 130 nm. És una millora de la tecnologia de 180 nm. La llei de Moore diu que la superfície és redueix a la meitat cada 2 anys, per tant el costat del quadrat de la nova tecnologia serà de . Sabent que els àtoms de silici tenen una distància entre ells de 0,543 nm, llavors el transistor té de l'ordre de 240 àtoms de llargada.
| Property | Value |
|---|---|
| dbo:abstract | 130 nanòmetres (130 nm) és una tecnologia de fabricació de semiconductors en què els components tenen una dimensió de 130 nm. És una millora de la tecnologia de 180 nm. La llei de Moore diu que la superfície és redueix a la meitat cada 2 anys, per tant el costat del quadrat de la nova tecnologia serà de . Sabent que els àtoms de silici tenen una distància entre ells de 0,543 nm, llavors el transistor té de l'ordre de 240 àtoms de llargada. (ca) The 130 nanometer (130 nm) process refers to the level of semiconductor process technology that was reached in the 2000–2001 timeframe, by most leading semiconductor companies, like Intel, Texas Instruments, IBM, and TSMC. The origin of the 130 nm value is historical, as it reflects a trend of 70% scaling every 2–3 years. The naming is formally determined by the International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS). Some of the first CPUs manufactured with this process include Intel Tualatin family of Pentium III processors. (en) 130 nm désigne la technologie de gravure de microprocesseurs qui a été atteinte dans les années 2000-2001 par les principaux fabricants, à savoir Intel, AMD, Infineon, Texas Instruments, IBM, et TSMC. Parmi les microprocesseurs gravés en 130 nm figurent le PowerPC 970, l'Intel Pentium M ou Pentium 4, l'AMD Athlon XP et MP. (fr) 130 nanómetross se refiere a una tecnología de proceso de semiconductores producidos entre los años 2002 y 2003 por las principales empresas de ese sector, tales como las estadounidenses Intel, AMD, IBM, Texas Instruments y la taiwanesa TSMC. Asimismo, la tecnología de proceso de 45 nanómetros reflejó una tendencia histórica, la cual estipula que la densidad (en términos prácticos, el número de transistores) de los microprocesadores, o en general de los circuitos integrados se incrementa a un ritmo aproximado de un 70% cada 2 o 3 años (básicamente manteniendo el mismo tamaño del núcleo del mismo). (es) 130 nm(나노미터) 공정 또는 0.13 µm(마이크로미터) 공정은 회로선 폭이 130 nm인 반도체를 다루는 공정 기술 수준이다. 2000년에서 2001년 경 인텔, IBM, 텍사스 인스트루먼트, TSMC 등의 회사가 달성하였다. 130 나노미터라는 값의 기원은 매 2 ~ 3년마다 반도체의 게이트 길이를 이전 세대의 공정에 비해 70% 수준으로 축소하는 것을 반영한 동향에서 나왔다. 130 나노미터의 공식적인 명칭은 (ITRS)에서 확정하였다. 인텔 펜티엄 III의 투알라틴은 이 공정으로 제조된 최초의 CPU 중 하나이다. (ko) Il 130 nm (130 nanometri o 0,13 µm) evoluzione del precedente processo a 180 nm è un processo produttivo della tecnologia dei semiconduttori con cui vengono prodotti i circuiti integrati a larghissima scala di integrazione (VLSI). Il valore 130 nm deriva della tendenza storica di riduzione a circa il 70% ogni 2-3 anni. Il nome è stabilito formalmente dall' (ITRS). Il processo è stato introdotto negli anni 2000-2001 dalle maggiori industrie di semiconduttori come Intel, Texas Instruments, IBM, e TSMC. Il successore di questo processo utilizza una larghezza di canale di 90 nanometri. (it) O processo de 130 nanômetros (130 nm ou 0,13 µm) se refere ao nível da tecnologia do processo de fabricação de semicondutores que foi alcançado entre os anos 2000 e 2001 por maior parte das companhias líderes de semicondutores como a Intel, Texas Instruments, IBM, e TSMC. A origem do processo de 130 nm tem valor histórico, como reflete uma tendência de redução de 70% a cada 2 ou 3 anos. O título é formalmente determinado pela , sediado pela . Alguns dos primeiros CPUs fabricados com esse processo incluem a família Intel Tualatin de processadores Pentium III. Exemplos de processadores usando a tecnologia de fabricação de 130 nm: * Elbrus 1891ВМ4Я (1891VM4YA) - 27 de abril de 2008 * MCST 1891BM3 - 27 de julho de 2008 (pt) 130纳米制程，又稱0.13微米製程，是半导体制造制程的一个水平，大约于2000年至2001年左右达成。 这一制程由当时领先的半导体公司如英特尔、德州仪器、IBM和台積電所完成。 一些CPU最初是由这个制程所制造。其中包括英特尔奔腾III Tualatin处理器。这是第一个沟道长度小于用于光刻的光的波长的制程。 (zh) |
| dbo:wikiPageID | 8214741 (xsd:integer) |
| dbo:wikiPageLength | 2669 (xsd:nonNegativeInteger) |
| dbo:wikiPageRevisionID | 1119949194 (xsd:integer) |
| dbo:wikiPageWikiLink | dbr:Pentium_4 dbr:Pentium_M dbr:Duron dbr:International_Technology_Roadmap_for_Semiconductors dbr:Pentium_III dbr:180_nanometer dbc:International_Technology_Roadmap_for_Semiconductors_lithography_nodes dbr:Gekko_(microprocessor) dbr:Opteron dbr:Elbrus_2000 dbr:MCST-R500S dbr:Celeron dbr:Tualatin_(microprocessor) dbr:90_nanometer dbr:Nintendo_GameCube dbr:Athlon_64 dbr:Banias_(microprocessor) dbr:Texas_Instruments dbr:Athlon_XP dbr:TSMC dbr:CMOS dbr:IBM dbr:Intel dbr:CPU dbr:Sempron dbr:Xeon dbr:VIA_C3 dbr:Semiconductor_manufacturing dbr:PowerPC_7447a dbr:PowerPC_G5 |
| dbp:list | CMOS manufacturing processes (en) |
| dbp:next | 90.0 |
| dbp:prev | 180.0 |
| dbp:wikiPageUsesTemplate | dbt:CMOS_manufacturing_processes dbt:Nano-tech-stub dbt:Refimprove dbt:Reflist dbt:Sequence |
| dcterms:subject | dbc:International_Technology_Roadmap_for_Semiconductors_lithography_nodes |
| rdfs:comment | 130 nanòmetres (130 nm) és una tecnologia de fabricació de semiconductors en què els components tenen una dimensió de 130 nm. És una millora de la tecnologia de 180 nm. La llei de Moore diu que la superfície és redueix a la meitat cada 2 anys, per tant el costat del quadrat de la nova tecnologia serà de . Sabent que els àtoms de silici tenen una distància entre ells de 0,543 nm, llavors el transistor té de l'ordre de 240 àtoms de llargada. (ca) The 130 nanometer (130 nm) process refers to the level of semiconductor process technology that was reached in the 2000–2001 timeframe, by most leading semiconductor companies, like Intel, Texas Instruments, IBM, and TSMC. The origin of the 130 nm value is historical, as it reflects a trend of 70% scaling every 2–3 years. The naming is formally determined by the International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS). Some of the first CPUs manufactured with this process include Intel Tualatin family of Pentium III processors. (en) 130 nm désigne la technologie de gravure de microprocesseurs qui a été atteinte dans les années 2000-2001 par les principaux fabricants, à savoir Intel, AMD, Infineon, Texas Instruments, IBM, et TSMC. Parmi les microprocesseurs gravés en 130 nm figurent le PowerPC 970, l'Intel Pentium M ou Pentium 4, l'AMD Athlon XP et MP. (fr) 130 nm(나노미터) 공정 또는 0.13 µm(마이크로미터) 공정은 회로선 폭이 130 nm인 반도체를 다루는 공정 기술 수준이다. 2000년에서 2001년 경 인텔, IBM, 텍사스 인스트루먼트, TSMC 등의 회사가 달성하였다. 130 나노미터라는 값의 기원은 매 2 ~ 3년마다 반도체의 게이트 길이를 이전 세대의 공정에 비해 70% 수준으로 축소하는 것을 반영한 동향에서 나왔다. 130 나노미터의 공식적인 명칭은 (ITRS)에서 확정하였다. 인텔 펜티엄 III의 투알라틴은 이 공정으로 제조된 최초의 CPU 중 하나이다. (ko) Il 130 nm (130 nanometri o 0,13 µm) evoluzione del precedente processo a 180 nm è un processo produttivo della tecnologia dei semiconduttori con cui vengono prodotti i circuiti integrati a larghissima scala di integrazione (VLSI). Il valore 130 nm deriva della tendenza storica di riduzione a circa il 70% ogni 2-3 anni. Il nome è stabilito formalmente dall' (ITRS). Il processo è stato introdotto negli anni 2000-2001 dalle maggiori industrie di semiconduttori come Intel, Texas Instruments, IBM, e TSMC. Il successore di questo processo utilizza una larghezza di canale di 90 nanometri. (it) 130纳米制程，又稱0.13微米製程，是半导体制造制程的一个水平，大约于2000年至2001年左右达成。 这一制程由当时领先的半导体公司如英特尔、德州仪器、IBM和台積電所完成。 一些CPU最初是由这个制程所制造。其中包括英特尔奔腾III Tualatin处理器。这是第一个沟道长度小于用于光刻的光的波长的制程。 (zh) 130 nanómetross se refiere a una tecnología de proceso de semiconductores producidos entre los años 2002 y 2003 por las principales empresas de ese sector, tales como las estadounidenses Intel, AMD, IBM, Texas Instruments y la taiwanesa TSMC. (es) O processo de 130 nanômetros (130 nm ou 0,13 µm) se refere ao nível da tecnologia do processo de fabricação de semicondutores que foi alcançado entre os anos 2000 e 2001 por maior parte das companhias líderes de semicondutores como a Intel, Texas Instruments, IBM, e TSMC. A origem do processo de 130 nm tem valor histórico, como reflete uma tendência de redução de 70% a cada 2 ou 3 anos. O título é formalmente determinado pela , sediado pela . Alguns dos primeiros CPUs fabricados com esse processo incluem a família Intel Tualatin de processadores Pentium III. (pt) |
| rdfs:label | 130 nanòmetres (ca) 130 nm process (en) 130 nanómetros (es) 130 nm (fr) 130 nm (it) 130 nm 공정 (ko) 130 nanômetros (pt) 130纳米制程 (zh) |
| owl:sameAs | wikidata:130 nm process dbpedia-ca:130 nm process dbpedia-es:130 nm process dbpedia-fr:130 nm process dbpedia-it:130 nm process dbpedia-ko:130 nm process dbpedia-pt:130 nm process dbpedia-zh:130 nm process https://global.dbpedia.org/id/4wi1o |
| prov:wasDerivedFrom | wikipedia-en:130_nm_process?oldid=1119949194&ns=0 |
| foaf:isPrimaryTopicOf | wikipedia-en:130_nm_process |
| is dbo:wikiPageRedirects of | dbr:130_nanometer dbr:130nm dbr:130_nanometre dbr:130_nm dbr:.13_process dbr:0.13_process dbr:0.13_µm_process |
| is dbo:wikiPageWikiLink of | dbr:OpenPOWER_Microwatt dbr:130_nanometer dbr:130nm dbr:180_nm_process dbr:90_nm_process dbr:3_nm_process dbr:P6_(microarchitecture) dbr:List_of_Intel_CPU_microarchitectures dbr:Radeon dbr:Transistor_count dbr:X-Fab dbr:130_nanometre dbr:130_nm dbr:.13_process dbr:0.13_process dbr:0.13_µm_process |
| is foaf:primaryTopic of | wikipedia-en:130_nm_process |