Thermal ionization (original) (raw)
La ionización térmica, también conocida como ionización de superficie o ionización de contacto, es un proceso físico por el cual los átomos se desorben de una superficie caliente, y en el proceso se ionizan. La ionización térmica se utiliza para hacer simples, para espectrometría de masas y para generar haces de iones. La ionización térmica ha sido ampliamente utilizada para determinar los pesos atómicos, además de ser utilizada en muchas aplicaciones geológicas/nucleares.
| Property | Value |
|---|---|
| dbo:abstract | La ionización térmica, también conocida como ionización de superficie o ionización de contacto, es un proceso físico por el cual los átomos se desorben de una superficie caliente, y en el proceso se ionizan. La ionización térmica se utiliza para hacer simples, para espectrometría de masas y para generar haces de iones. La ionización térmica ha sido ampliamente utilizada para determinar los pesos atómicos, además de ser utilizada en muchas aplicaciones geológicas/nucleares. (es) Thermal ionization, also known as surface ionization or contact ionization, is a physical process whereby the atoms are desorbed from a hot surface, and in the process are ionized. Thermal ionization is used to make simple ion sources, for mass spectrometry and for generating ion beams. Thermal ionization has seen extensive use in determining atomic weights, in addition to being used in many geological/nuclear applications. (en) In spettrometria di massa la ionizzazione termica, comunemente indicata con la sigla TI, dall'inglese thermal ionization, è una tecnica di ionizzazione per desorbimento. Questa tecnica è stata molto usata per l'analisi delle composizioni isotopiche ma è stata soppiantata dall'ICP-MS. (it) Поверхностная ионизация — метод анализа. Метод поверхностной ионизации или термической ионизации молекул и атомов используют в масс-спектроскопии. Ток положительно заряженных ионов при поверхностной ионизации может быть определён в соответствии с формулой Саха-Ленгмюра: где – заряд электрона, –поток частиц на поверхность (атомов, кластеров или молекул), – индивидуальный коэффициент для i-тых десорбирующихся частиц, зависящий от конкретной взаимодействующей пары адсорбируемая частица-эмиттер, отражающий эффективность их образования и десорбции, – работа выхода, – площадь эмитирующей поверхности, – отношение полных статистических сумм для заряженной и нейтральной i-той частицы, – постоянная Больцмана, – температура эмиттера , – напряженность электрического поля у эмиттера. Величина ионного тока и наблюдаемый масс-спектр зависят как от свойств ионизирующегося соединения, так и свойств поверхности. В большинстве масс-спектрометров тянущее ионы электрическое поле составляет величину не более 104 В/см и тогда слагаемым можно пренебречь : Для тока отрицательно заряженных частиц можно записать где - сродство к электрону. В зависимости от знака приложенного тянущего ионы электрического поля регистрируются либо положительно заряженные ионы, либо отрицательно заряженные ионы. Из этой формулы следует, что можно выделить два случая поверхностной ионизации: 1. * Легкой ионизации, когда величина тогда ионизируется каждая падающая на поверхность частица. 2. Трудная ионизация, когда тогда единицей в знаменателе можно пренебречь и будет наблюдаться экспоненциальная зависимость тока ионов от температуры: Температура при которой наблюдается поверхностная ионизация атомов и молекул обычно более 700 K. В качестве эмиттера ионов используются тугоплавкие элементы, например, вольфрам, молибден или их окислы. Работа выхода эмиттера составляет величину от 4.5 эВ для вольфрамовой ленты до 5.8 эВ для иридиевой ленты. Для эмиттера из окисла вольфрама достигается максимальная величина работы выхода - 6.7 эВ. Такие значения работы выхода эмиттера создают ограничение ионизацию атомов и молекул: зарегистрировать частицы с потенциалом ионизации более 9.0 эВ затруднительно. (ru) |
| dbo:thumbnail | wiki-commons:Special:FilePath/Surface_ionization_of_cesium.svg?width=300 |
| dbo:wikiPageID | 30876908 (xsd:integer) |
| dbo:wikiPageLength | 5471 (xsd:nonNegativeInteger) |
| dbo:wikiPageRevisionID | 1068063921 (xsd:integer) |
| dbo:wikiPageWikiLink | dbr:Desorption dbr:Electrical_filament dbr:Mass_spectrometry dbr:Osmium dbr:Meghnad_Saha dbr:Chemical_element dbr:Electron_affinity dbr:Strontium dbc:Ionization dbr:Thermal_ionization_mass_spectrometry dbr:Ion dbr:Ion_source dbr:Ionization_energy dbr:Tungsten dbr:Ion_beam dbr:Ionization dbr:Irving_Langmuir dbc:Ion_source dbr:Lead dbr:Radiometric_dating dbr:Work_function dbr:Saha_ionization_equation dbr:Langmuir-Taylor_detector dbr:Boltzmann's_constant dbr:File:Surface_ionization_of_cesium.svg dbr:MC-ICP-MS |
| dbp:wikiPageUsesTemplate | dbt:Cn dbt:Distinguish dbt:Main dbt:Math dbt:Reflist dbt:Short_description dbt:Mass_spectrometry |
| dcterms:subject | dbc:Ionization dbc:Ion_source |
| gold:hypernym | dbr:Process |
| rdf:type | owl:Thing dbo:Election |
| rdfs:comment | La ionización térmica, también conocida como ionización de superficie o ionización de contacto, es un proceso físico por el cual los átomos se desorben de una superficie caliente, y en el proceso se ionizan. La ionización térmica se utiliza para hacer simples, para espectrometría de masas y para generar haces de iones. La ionización térmica ha sido ampliamente utilizada para determinar los pesos atómicos, además de ser utilizada en muchas aplicaciones geológicas/nucleares. (es) Thermal ionization, also known as surface ionization or contact ionization, is a physical process whereby the atoms are desorbed from a hot surface, and in the process are ionized. Thermal ionization is used to make simple ion sources, for mass spectrometry and for generating ion beams. Thermal ionization has seen extensive use in determining atomic weights, in addition to being used in many geological/nuclear applications. (en) In spettrometria di massa la ionizzazione termica, comunemente indicata con la sigla TI, dall'inglese thermal ionization, è una tecnica di ionizzazione per desorbimento. Questa tecnica è stata molto usata per l'analisi delle composizioni isotopiche ma è stata soppiantata dall'ICP-MS. (it) Поверхностная ионизация — метод анализа. Метод поверхностной ионизации или термической ионизации молекул и атомов используют в масс-спектроскопии. Ток положительно заряженных ионов при поверхностной ионизации может быть определён в соответствии с формулой Саха-Ленгмюра: В большинстве масс-спектрометров тянущее ионы электрическое поле составляет величину не более 104 В/см и тогда слагаемым можно пренебречь : Для тока отрицательно заряженных частиц можно записать Из этой формулы следует, что можно выделить два случая поверхностной ионизации: 1. * Легкой ионизации, когда величина (ru) |
| rdfs:label | Ionización térmica (es) Ionizzazione termica (it) Поверхностная ионизация (ru) Thermal ionization (en) |
| owl:differentFrom | dbr:Thermionic_emission |
| owl:sameAs | freebase:Thermal ionization wikidata:Thermal ionization http://bn.dbpedia.org/resource/তাপীয়_আয়নীকরণ_তত্ত্ব dbpedia-es:Thermal ionization dbpedia-et:Thermal ionization http://hy.dbpedia.org/resource/Ջերմաիոնային_էմիսիա dbpedia-it:Thermal ionization dbpedia-no:Thermal ionization dbpedia-ru:Thermal ionization dbpedia-tr:Thermal ionization https://global.dbpedia.org/id/hCGb |
| prov:wasDerivedFrom | wikipedia-en:Thermal_ionization?oldid=1068063921&ns=0 |
| foaf:depiction | wiki-commons:Special:FilePath/Surface_ionization_of_cesium.svg |
| foaf:isPrimaryTopicOf | wikipedia-en:Thermal_ionization |
| is dbo:wikiPageRedirects of | dbr:Thermal_ionisation dbr:Contact_ionization dbr:Surface_ionization dbr:Thermal_Ionisation dbr:Thermal_Ionisation_(TIMS) |
| is dbo:wikiPageWikiLink of | dbr:Electron_ionization dbr:List_of_atheists_in_science_and_technology dbr:Bengalis dbr:Doping_(semiconductor) dbr:Index_of_physics_articles_(T) dbr:Mass_spectrometry dbr:List_of_mass_spectrometry_acronyms dbr:Gaseous_fission_reactor dbr:Crystallographic_defects_in_diamond dbr:Thermal_ionisation dbr:Thermal_ionization_mass_spectrometry dbr:Ion_source dbr:Isotope-ratio_mass_spectrometry dbr:Hare_School dbr:Ionization dbr:Thermospray dbr:Field_desorption dbr:Rhenium–osmium_dating dbr:Contact_ionization dbr:Surface_ionization dbr:Thermal_Ionisation dbr:Thermal_Ionisation_(TIMS) |
| is foaf:primaryTopic of | wikipedia-en:Thermal_ionization |
