第二露光 - Weblio 英和・和英辞典 (original) (raw)
例文
一次露光現像プロセスを利用して、第 二金属層に異なる厚さを持たせる。例文帳に追加
Afterwards, the second metal layer is allowed to have two different thicknesses by using a photolithographic process. - 特許庁
第 二動作状態の場合、露光中に振り分けゲートは他の振り分けゲートと重複して開く。例文帳に追加
In the case of a second operating state, the distribution gate is opened overlapping with the other distribution gates during the exposure. - 特許庁
半導体装置は、ウェハ状の半導体基板における、第１の露光でパターニングされる少なくとも１つのチップ領域１の周縁部に、第２の露光によって二重露光されてなり、第１の露光及び第２の露光における縦方向又は横方向の互いの位置の合わせずれ量を電気的に測定する検査用評価素子５ａｂを有している。例文帳に追加
The semiconductor device has an evaluating element 5ab for inspection which is formed by double exposure by second exposure on a peripheral edge of at least one chip region 1 patterned by first exposure in a wafer-like semiconductor substrate, and electrically measures the alignment shift amount in horizontal and vertical directions in the first and second exposures. - 特許庁
第一遮光パターンを所定の位置に位置合わせして第一露光を行い、第 二遮光パターンを前記所定の位置に位置合わせして**第二露光を行うこと。例文帳に追加
A first exposure is carried out by aligning the first light shielding pattern to a predetermined position, and a second exposure is carried out by aligning the second light-shielding pattern to a predetermined position. - 特許庁
方法は、基板の層上に要素サイズの要素の第一パターンを露光し、第一パターン上に異なる要素サイズの要素の第 二パターンを露光することを含む。例文帳に追加
The method includes exposing a first pattern of an element in an element size on a layer of a substrate and exposing a second pattern of an element in a different element size on the first pattern. - 特許庁
第三に、較正モジュールが、第一及び第 二センサデータに基づいて露光システムの焦点位置決めパラメータを較正する。例文帳に追加
Third, a calibration module calibrates focus-positioning parameters of an exposure system on the basis of the first- and the second-sensor data. - 特許庁
液体供給装置から供給される第一液体Ｌ１を介して基板に露光光を照射する露光装置において、液体供給装置は、第一液体Ｌ１を液送する複数の第一配管４４と、複数の第一配管４４を内包し第 二液体Ｌ２を液送する第 二配管６２ｂと、を備える。例文帳に追加
In the exposure apparatus which irradiates an exposure light to the substrate through first liquid L1 supplied from a liquid feeder, the liquid feeder is equipped with plural first pipings 44 distributing the first liquid L1, and a second piping 62b connoting the plural first pipings 44 and distributing second liquid L2. - 特許庁
例文
まず、絶縁基材１１上の導体層２１をパターンニング処理して配線層２１ａを形成し、ネガ型のレジストを塗布、乾燥、パターン露光してパターン露光された第一ネガ型感光層４１ａを、さらに、パターン露光された第一ネガ型感光層４１ａ上にパターン露光された第 二ネガ型感光層５１ａを形成する。例文帳に追加
A conductor layer 21 on an insulating substrate 11 is subjected to patterning treatment to form a wiring layer 21a, and a negative type resist is coated, dried and patternwise exposed to form a patternwise exposed first negative type photosensitive layer 41a, on which a patternwise exposed second negative type photosensitive layer 51a is also formed. - 特許庁