second exposure - Weblio 英和・和英辞典 (original) (raw)
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意味・対訳 第二露光
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second exposure
「second exposure」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 922件
例文
an exposure of１/１２５ of a second 発音を聞く 例文帳に追加
１/１２５ 秒の露出時間. - 研究社 新英和中辞典
More specifically, the amount of exposure D1 is reinforced to perform the first exposure, and the amount of exposure D2 is suppressed to perform the second exposure.例文帳に追加
すなわち、露光量Ｄ１を増強して第１露光を行い、露光量Ｄ２を抑制して第２露光を行う。 - 特許庁
A normal exposure image of 1/60-second exposure and a short-time exposure image of 1/240-second exposure are alternately photographed at 60 fps by using a rolling shutter.例文帳に追加
６０ｆｐｓにおいて、１／６０秒露光の通常露光画像と１／２４０秒露光の短時間露光画像をローリングシャッタにて交互に撮影する。 - 特許庁
Each of first exposure and second exposure is performed by scanning exposure of an exposure head 16 emitting a plurality of light beams.例文帳に追加
第１露光及び第２露光のそれぞれを、複数の光ビームを照射する露光ヘッド１６の走査露光によって行う。 - 特許庁
The first exposure region and the second exposure region partly overlap on each other in scanning exposure.例文帳に追加
第１の露光領域と前記第２の露光領域とは、走査露光の際に一部分が重複している。 - 特許庁
In a second exposure process, the second divided pattern portion 20C is doubly exposed to an exposure region, which has been exposed in the first exposure process.例文帳に追加
第二露光工程において、第一露光工程で露光された露光領域に第二分割パターン部２０Ｃが二重露光される。 - 特許庁
例文
An amount of exposure D1 in the first exposure and an amount of exposure D2 in the second exposure satisfy a prescribed relationship, and the amount of exposure D1 is allowed to be different from the amount of exposure D2.例文帳に追加
かつ、第１露光における露光量Ｄ１と、第２露光における露光量Ｄ２とが所定の関係式を満たしつつ、露光量Ｄ１とＤ２とを異なった値とする。 - 特許庁
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「second exposure」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 922件
例文
A multiple-exposure lithographic process in which a developed resist pattern derived from a first exposure is present within a second resist layer that is exposed in a second exposure of the multiple-exposure lithographic process.例文帳に追加
第１の露光から得られる現像レジストパターンがマルチ露光リソグラフィ工程の第２の露光で露光される第２のレジスト層内に存在するマルチ露光リソグラフィ工程。 - 特許庁
The beam is guided to a second exposure object W2 during the stage transfer time for the first exposure object W1, to perform the second exposure process on the surface of the second exposure object W2.例文帳に追加
第１露光対象物Ｗ１に対するステージ移送時間の間、光を第２露光対象物Ｗ２に誘導して、第２露光対象物Ｗ２の表面に第２露光工程を行う。 - 特許庁
exposure of a film for a relatively long time (more than half a second)発音を聞く 例文帳に追加
相対的に長時間のフィルムの露光（0.5秒以上） - 日本語WordNet
To provide an imaging device that can know exposure state under exposure in a long second exposure.例文帳に追加
長秒露光における露光中の露光状態を知ることができる撮像装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
The exposure apparatus is provided with a control device capable of switching first exposure control and second exposure control.例文帳に追加
本発明の露光装置は、第１露光制御と第２露光制御とが切り換え可能である制御装置を備える。 - 特許庁
A first image captured with a first exposure amount and a second image captured with a second exposure amount higher than the first exposure amount are acquired.例文帳に追加
第１の露出量で撮像された第１の画像、及び第１の露出量よりも高い第２の露出量で撮像された第２の画像を取得る。 - 特許庁
A first resist S1, which reacts to exposure of light with a first exposure energy E1 and a second resist S2 which reacts to exposure of light with a second exposure energy E2 (E2=0.5 to 0.7E1) are applied, in this sequence on a substrate G.例文帳に追加
第１、第２の露光エネルギーＥ１、Ｅ２（Ｅ２＝０．５Ｅ１〜０．７Ｅ１）で露光反応する第１、第２のレジストＳ１、Ｓ２がこの順に塗布された基板Ｇを得ることができる。 - 特許庁
例文
When the second minimum size D_min2 is ≥1.3 time as large as the first minimum size D_min1, the exposure is carried out so that the exposure quantity of the second exposure stage is less than that of the first exposure stage.例文帳に追加
第２最小寸法Ｄ_min2が第１最小寸法Ｄ_min1の１．３倍以上になる場合に、第２露光工程の露光量が第１露光工程の露光量以下になるように行なう。 - 特許庁
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