PV値 - Weblio 英和・和英辞典 (original) (raw)
例文
To provide a molding material capable providing a ball bearing with a high limit PV value and a low friction coefficient.例文帳に追加
限界PV値が高く、かつ低摩擦係数を有する軸受けを与え得る成形材料を提供する。 - 特許庁
To provide a method for simply estimating limit sliding speed and a limit PV value of a one-side intermittent slide from limit PV values of a bicontinuous slide measured by a combination of hollow cylinder test pieces.例文帳に追加
、中空円筒試験片同士の組合せで測定された両連続摺動の限界PV値から片側間欠摺動の限界すべり速度および限界PV値を簡便に推算する方法を提供する。 - 特許庁
The slide condition (1) is that the slide partner is a molded product consisting of a polyoxymethylene resin and sliding is carried out with a PV value (surface pressure×linear velocity) of 1.0 MPa cm/s or more.例文帳に追加
（１）摺動相手がポリオキシメチレン樹脂からなる成形品であり、PV値（面圧力×線速度）が1.0MPa・cm/s以上での摺動。 - 特許庁
In step (1), a limiting PV value Pv of a standard specimen formed from the same material as two slide components is measured under standard conditions, and a limiting slide linear velocity Vc is found.例文帳に追加
(１)二つの摺動部品と同じ材料の標準試験片の限界PV値Pvを標準条件中で測定し、限界滑り線速度Vcを求める。 - 特許庁
The substrate for an information recording medium is characterized in that a cycle of the microscopic waviness falls within 2 μm to 4 mm, wa of the substrate main surface is 5 nm or less and Rmax is 12 nm or less, where a maximum height of this microscopic waviness is wa (95% PV value) and a maximum height measured by an atomic force microscope is Rmax.例文帳に追加
情報記録媒体用基板は、微小うねりの周期が２μｍ〜４ｍｍであって、この微小うねりの最大高さをwa（95％PV値）とし、原子間力顕微鏡によって測定した最大高さをRmaxとしたとき、該基板主表面のwaが5nm以下、Rmaxが12nm以下であることを特徴とする。 - 特許庁
This substrate for information recording medium is characterized in that the period of the microscopic waviness is in 2 μm to 4 mm, wa of the substrate main surface is 5 nm or less and Rmax is 12 nm or less, where a maximum height of this microscopic waviness is wa (95% peak value) and a maximum height measured by an atomic force microscope is Rmax.例文帳に追加
情報記録媒体用基板は、微小うねりの周期が２μｍ〜４ｍｍであって、この微小うねりの最大高さをwa（95％PV値）とし、原子間力顕微鏡によって測定した最大高さをRmaxとしたとき、該基板主表面のwaが5nm以下、Rmaxが12nm以下であることを特徴とする。 - 特許庁
例文
The period of micro waviness of this substrate for an information recording medium is 2 μm to 4 mm, and the main surface of the substrate has a wa of 5 nm or less and an Rmax of 12 nm or less, where wa (95% PV value) is the maximum height of the microwaviness and Rmax is the maximum height measured by an atomic force microscope.例文帳に追加
情報記録媒体用基板は、微小うねりの周期が２μｍ〜４ｍｍであって、この微小うねりの最大高さをwa（95％PV値）とし、原子間力顕微鏡によって測定した最大高さをRmaxとしたとき、該基板主表面のwaが5nm以下、Rmaxが12nm以下であることを特徴とする。 - 特許庁