sacrificial oxide - Weblio 英和・和英辞典 (original) (raw)

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sacrificial oxide

犠牲酸化

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「sacrificial oxide」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 65件

例文

A sacrificial oxide film is formed by removing the SiN film 3 and, after the sacrificial oxide film is removed, a gate oxide film is formed.例文帳に追加

ＳｉＮ膜３を除去して犠牲酸化膜を形成し、所定のイオン注入を行った後、犠牲酸化膜を除去し、ゲート酸化膜を形成する。 - 特許庁

An oxide layer and a sacrificial layer are processed to constitute a recessed part.例文帳に追加

凹所を構成するべく酸化物層および犠牲層が処理される。 - 特許庁

Then, the sacrificial oxide film 5 is removed (process (d)) and a gate oxide film 6 is formed (process (e)).例文帳に追加

そして、犠牲酸化膜５を除去し（（ｄ）工程）、ゲート酸化膜６を形成する（（ｅ）工程）。 - 特許庁

Thereafter the epitaxial layer 2 is subjected to sacrificial oxidation and an oxide film formed by the sacrificial oxidization is removed to eliminate the damages by the RIE.例文帳に追加

その後、ｎ^- 型エピ層２を犠牲酸化したのち、この犠牲酸化によってできた酸化膜を除去し、ＲＩＥによるダメージを除去する。 - 特許庁

The upper sacrificial film pattern is preferably made of silicon oxide film or another material, having etching selectivity with respect to the lower sacrificial film pattern.例文帳に追加

また、上部犠牲膜パターンは下部犠牲膜パターンに対してエッチング選択性を有する物質、望ましくは、シリコン酸化膜で形成する。 - 特許庁

In a MIS type transistor, first, a sacrificial oxide film is formed, a resist pattern is formed on the formed sacrificial oxide film, and a well for controlling a threshold value voltage is formed in the upper part of a wafer by an ion implantation through the sacrificial oxide film.例文帳に追加

ＭＩＳ型トランジスタにおいて、まず、犠牲酸化膜を形成し、形成した犠牲酸化膜の上にレジストパターン及び犠牲酸化膜を介してイオン注入によりウェハの上部にしきい値電圧制御用のウェルを形成する。 - 特許庁

例文

STRAINED-SILICON CHANNEL CMOS WITH SACRIFICIAL SHALLOW TRENCH ISOLATION OXIDE LINER例文帳に追加

犠牲シャロートレンチアイソレーション酸化物ライナーを有する歪みシリコンチャネルＣＭＯＳ - 特許庁

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「sacrificial oxide」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 65件

例文

The corners of the trench are rounded by the initial molding and removal of a sacrificial oxide layer.例文帳に追加

トレンチの角には、最初の成形及び犠牲酸化物層の除去によって丸みが与えられる。 - 特許庁

A porous silicon layer or a porous silicon oxide layer is used as a sacrificial layer.例文帳に追加

犠牲層として多孔質シリコン層或は多孔質酸化シリコン層を採用する。 - 特許庁

To selectively remove a sacrificial or a mask oxide film, without damaging metal film.例文帳に追加

犠牲及びマスク酸化膜を、メタル膜を侵すことなく選択的に除去する。 - 特許庁

While filling the recessed part and removing the filling material layer, the oxide layer is protected by the sacrificial layer.例文帳に追加

凹所の充填および充填材層の除去中、犠牲層によって酸化物層が保護される。 - 特許庁

Then, when the MOS transistor formation region is subjected to sacrifice oxidation and a sacrificial oxide film 5 is formed (process (c)), the factor 3 for preventing oxidation is taken into the sacrificial oxide film 5.例文帳に追加

次に、ＭＯＳトランジスタ形成領域を犠牲酸化して犠牲酸化膜５を形成する（（ｃ）工程）と、酸化を阻害する要因３が犠牲酸化膜５中に取り込まれる。 - 特許庁

In a method for removing each organic matter, the sacrificial oxide film is disposed to the atmosphere containing oxygen, while an excimer light is irradiated on the sacrificial oxide film, thereby baking the organic matter to remove it.例文帳に追加

各有機物の除去方法は、犠牲酸化膜を酸素を含む雰囲気にさらしながら、犠牲酸化膜にエキシマ光を照射することにより、有機物を燃焼して除去する。 - 特許庁

At the side part 18, a protective film 16 is formed of a material having an etching selection ratio to the sacrificial oxide film 29 larger than the etching selection ratio of the surface film 11 to the sacrificial oxide film 29.例文帳に追加

次いで、側部１８に、犠牲酸化膜２９とのエッチング選択比が、表面膜１１の犠牲酸化膜２９とのエッチング選択比よりも大きい材料からなる保護膜１６を形成する。 - 特許庁

例文

Next, a dielectric is provided on a side wall of each column, a part of the sacrificial oxide layer, and a part of the field oxide region.例文帳に追加

次に，各コラムの側壁上，並びに犠牲酸化物層及びフィールド酸化物領域の一部分の上に誘電体を設ける。 - 特許庁

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「sacrificial oxide」の意味に関連した用語

1

犠牲酸化

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