weblio英語例文検索 (original) (raw)

ムヒを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 286

<前へ 1 2 3 4 5 6 次へ>

例文

半導体基体の材料は、炭化珪素、窒化ガリウム、ダイヤモンドのいずれでも良いし、ヘテロ半導体領域の材料は、シリコン、シリコンゲルマニウム、ゲルマニウム、ガリウ**ムヒ素のいずれでも良い。例文帳に追加

A material of the semiconductor base material may be selected from silicon carbide, gallium nitride, and diamond, and a material of the hetero semiconductor region may also be selected from silicon, silicon germanium, germanium, and gallium arsenic. - 特許庁

式(1):で示されるルテニウム錯体を、当該ルテニウム錯体1モルに対して2モル未満のテトラアルキルアンモニウム=ヒドロキシドを含有するアルコール溶液で洗浄する。例文帳に追加

This method of purification is to wash the ruthenium complex expressed by formula (1) with an alcoholic solution containing <2 mol of tetraalkylammonium hydroxide based on 1 mol of the ruthenium complex. - 特許庁

この誘電材料はガリウ**ムヒ素あるいはチタン酸バリウムを要素としており、抵抗値またはコンデンサ容量は、エネルギースペクトルの分布に従って変化し、電気回路の動的なインピーダンスマッチングをとるために利用できる。例文帳に追加

This dielectric material contains gallium arsenic or barium titanate as its element and the resistance or capacitance varies depending on an energy spectrum distribution, so that it can be used for dynamic impedance matching in an electric circuit. - 特許庁

塩基反応性基は、典型的なフォトレジスト現像条件、例えば、0.26Nのテトラブチルアンモニウ**ムヒドロキシド現像剤組成物でのシングルパドル現像下で典型的に反応性である。例文帳に追加

The base reactive group is typically reactive under typical photoresist developing conditions, for example, in a single puddle development process with a 0.26 N tetrabutylammonium hydroxide developer composition. - 特許庁

例文

従来困難とされた、製造限界の厚みよりも薄い、圧電素子、及びシリコン、又はガリウ**ムヒ素などの電子材料、及びその他の物質を、加工するための、加工工具及びその加工方法を提供する。例文帳に追加

To provide a machining tool and machining method therefor for machining an electronic material such as a piezoelectric element, silicon or gallium arsenide and other materials thinner than the manufacturing limit thickness. - 特許庁

例文

ホスホニウムカルボキシレートは、ホスホニウ**ムヒドロキシドと脂環族ポリカルボン酸から製造することができるが、脂環族ポリカルボン酸の多くは固体であり取り扱いにくいという欠点がある。例文帳に追加

The phosphonium carboxylate is produced from phosphonium hydroxide and alicyclic polycarboxylic acid, however this method has a defect that many alicyclic carboxylic acids are solid and hard to handle. - 特許庁

製造限界の厚みよりも薄い、圧電素子、及びシリコン、又はガリウ**ムヒ素などの電子材料、及びその他の物質を、加工するための、加工工具及びその加工方法を提供する。例文帳に追加

To provide a processing tool and a method for processing a piezoelectric device thinner than manufacturing limit, an electronic material such as silicon or gallium arsenide, and other materials. - 特許庁

注型ポリアミド樹脂に対して酸化防止剤としてヨウ化銅、ヨウ化カリウム、ヒンダードフェノールから選ばれてなる少なくとも1種を添加したことを特徴とする。例文帳に追加

This RIM polyamide resin composition comprises at least one compound selected from the group consisting of copper iodide, potassium iodide and a hindered phenol. - 特許庁

a)カチオン性砥粒、 b)四級アンモニウ**ムヒドロキシド又は四級アンモニウム塩、 c)シュウ酸又はシュウ酸塩及び d)アニオン性ポリマーを含む、ポリシリコン膜とシリコン窒化物を同時に研磨可能な研磨用組成物。例文帳に追加

The polishing composition capable of simultaneously polishing the polysilicon film and a silicon nitride contains (a) cationic abrasive grains, (b) quaternary ammonium hydroxide or quaternary ammonium salt, (c) oxalic acid or oxalate, and (d) an anionic polymer. - 特許庁

例文

部材のデータ、例えばサーボエンコーダのフィードバックデータを使用し、製品プリント配線基板アセンブリに関するリアルタイ**ムヒストグラムを計算する技術を提供する。例文帳に追加

A technique that uses component data, such as servo encoder feedback data and calculates real time histograms on a production printed wire board assembly is provided. - 特許庁

例文

フォトレジストを含むテトラアルキルアンモニウ**ムヒドロキシド(TMAH)含有廃水を効率よく処理し、TMAHを再生、回収することができる上記廃水の処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for treating waste water containing a tetraalkylammonium hydroxide (TMAH) by which waste water containing the tetraalkylammonium hydroxide and containing a photoresist is efficiently treated and the TMAH can be regenerated and recovered. - 特許庁

アスペクト比が0.1〜1であり、平均粒径が1〜44μmであり、且つテトラブチルアンモニウ**ムヒドロキシド水溶液で処理したときに薄葉状に微細化しない、マクロ多孔質である塊状グラフェンオキサイド。例文帳に追加

The graphene oxide is a macro-porous massive graphene oxide having an aspect ratio of 0.1-1, an average particle size of 1-44 μm, and not being pulverized to a thin leaf form when treating with an aqueous tetrabutylammonium hydroxide solution. - 特許庁

ジメチルスルホキシドと共にモノエタノールアミン、イソプロピルアルコール、テトラメチルアンモニウ**ムヒドロキシド等の有機物を含む排水を効率的に嫌気性処理して、TOCの低い高水質処理水を得る。例文帳に追加

To provide high quality treated water with low TOC (Total Organic Carbon) by efficiently anaerobically treating wastewater containing organic matter such as monoethanol amine together with dimethylsulphoxide, isopropyl alcohol, tetramethyl ammonium hydroxide, or the like. - 特許庁

この剛性コンポーネントは一般に金属で形成されるとともに一般にカルシウ**ムヒドロキシアパタイト又は燐酸三カルシウムを主成分とする生体反応性材料の層(3)で少なくとも部分的に被覆されている。例文帳に追加

This rigid component is generally formed of metal and is at least partly coated with the layer (3) of the bioreactive material essentially consisting of calcium hydroxy apatite and tricalcium phosphate in general. - 特許庁

テトラアルキルアンモニウ**ムヒドロキシドとフッ素系有機化合物とを含む原水の処理において、両者を効率よく処理することができる水処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a water treatment method capable of efficiently treating both of tetraalkylammonium hydroxide and an organofluorine compound in the treatment of raw water containing both compounds. - 特許庁

ガリウ**ムヒ素(GaAs)単結晶基板の基板温度TをT1に設定し、単結晶基板と同一組成のホモ層をエピタキシャル成長させる。例文帳に追加

Temperature T of a gallium arsenide (GaAs) single crystal substrate is set to T1 and a homogeneous layer having the same composition as the single crystal substrate is epitaxially grown. - 特許庁

菌体を、蒸留水で洗浄し、蒸留水に分散させた後、ショ糖が、トレハロース、グルタミン酸ナトリウム、ヒスチジン、リンゴからなる水溶液2mlを加え、菌体分散液を調製。例文帳に追加

The bacteria are washed with distilled water and dispersed in the distilled water, and then 2 mL of an aqueous solution with sucrose comprising trehalose, sodium glutamate, histidine and apple is added to prepare a cell dispersion. - 特許庁

例えば、回路構成の一部は、放射線適合材料、絶縁層上にシリコンを形成する技術、および/またはガリウ**ムヒ素技術を用いて加工することができる。例文帳に追加

For example, some portion of the circuitry can be fabricated utilizing radiation compliant material(s), silicon-on-insulator technology, and/or gallium arsenide technology. - 特許庁

mを2以上の整数とし、導電膜フィル**ムヒーター上で温度制御すべき領域を2m領域に分け、それぞれの領域に温度センサーを2m個配置する。例文帳に追加

A region to be temperature controlled on a conductive film heater is divided into 2m regions (m is an integer of 2 or more), and 2m temperature sensors are arranged in each region. - 特許庁

ウェハ処理室10において、露光されたレジスト膜17に対して、テトラメチルアンモニウ**ムヒドロキシド水溶液を用いて現像を行なってレジストパターンを形成する。例文帳に追加

In the wafer treatment chamber 10, development is carried out, by using tetramethylammonium hydroxide aqueous solution on an exposed resist film 17, to form a resist pattern. - 特許庁

エッチング耐性、耐熱性及び接着性が優れるだけでなく、現像液であるテトラメチルアンモニウ**ムヒドロキシド(TMAH)水溶液に現像可能であるフォトレジスト重合体を提供する。例文帳に追加

To produce a photoresist polymer which not only is excellent in etching resistance, heat resistance, and adhesive properties but also is developable with an aqueous tetramethylammonium hydroxide(TMAH) solution as a developing solution. - 特許庁

ヒューズプログラム回路58において1/0論理値を出力する各回路ユニット60は、PMOSトランジスタ62と、NMOSトランジスタ64と、プログラ**ムヒューズ66とを含む。例文帳に追加

Each circuit unit 60 outputting a 1/0 logical value in a fuse program circuit 58 comprises a PMOS transistor 62, a NMOS transistor 64, and a program fuse 66. - 特許庁

本化学機械研磨用水溶液は、砥粒を含有せず、電気伝導度が0.5〜5000μS/cmである(クエン酸水溶液、テトラメチルアンモニウ**ムヒドロキシド水溶液等)。例文帳に追加

The aqueous solution for non-chemical mechanical polishing does not contain abrasive grain and has an electric conductivity of 0.5-5,000 μS/cm (aqueous solution of citric acid, tetramethyl ammonium hydroxide, and the like). - 特許庁

TEAOH(テトラエチルアンモニウ**ムヒドロキシド)を有機添加剤として加え、かつアルカリ成分をNa_2O/SiO_2=0〜0.09とすることにより、SiO_2/Al_2O_3比=30〜100のハイシリカモルデナイト型ゼオライトを合成する。例文帳に追加

High silica mordenite type zeolite satisfying an SiO_2/Al_2O_3 ratio of 30 to 100 is synthesized by adding TEAOH (tetraethylammonium hydroxide) as an organic additive, and also controlling alkali components so as to satisfy Na_2O/SiO_2=0 to 0.09. - 特許庁

前記ロースター庫2内のうち前記受け皿2よりも上方には上下ヒータ8,9が設けられ、前記ロースター庫2の下部にはスチー**ムヒータ17が設けられている。例文帳に追加

Upper and lower heaters 8, 9 are provided above the receiving tray 2 in the roaster chamber 2 and a steam heater 17 is provided at the lower part of the roaster chamber 2. - 特許庁

更に、薄膜発熱層9の両端の所定の範囲に、銀ペーストを塗布し、乾燥させることにより、電極層11を形成し、フィル**ムヒータ1を完成した。例文帳に追加

Silver paste is coated on the thin film heating layer 9 in the predetermined range of both ends thereof, and dried to form an electrode layer 11, and the film heater 1 is thereby finished. - 特許庁

画像形成装置は、感光ドラム309、帯電器310、ドラ**ムヒータ333、遮蔽部材335、マイクロスイッチ343、CPU340等を備える。例文帳に追加

An image forming apparatus includes a photoreceptor drum 309, a charger 310, a drum heater 333, a shielding member 335, a microswitch 343, a CPU340, and the like. - 特許庁

作業者の労務コストを低減することできる、熱交換器のスラッジ除去工事における能率的な給排水方法及び給排水システム、ヒドラジン検出装置、洗浄装置を提供することを課題とする。例文帳に追加

To provide an efficient water supply and drainage method in sludge removing work for a heat exchanger and its system for reducing labor costs of workers, a hydrazine detecting device, and a washing device. - 特許庁

蓋コイル17と直列にフィル**ムヒーターよりなる面状の補助ヒーター19を接続し、且つ温度ヒューズよりなる過昇温度防止装置20に前記補助ヒーター19を巻き付けている。例文帳に追加

A sheet auxiliary heater 19 made up of a film heater is connected to the lid coil 17 in series, and the auxiliary heater 19 is wrapped around an overheat prevention device 20 comprised of a temperature fuse. - 特許庁

アモルファスシリコン感光体を用いた、ドラ**ムヒーターを使用しない中高速機複写機において、高湿下での画像流れが発生しないクリーニング方法を提供することにある。例文帳に追加

To provide a cleaning method which ensures no image deletion at high humidity in a medium- or high-speed copying machine using an amorphous silicon photoreceptor but not using a drum heater. - 特許庁

電解質溶液としては、少なくとも炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア、テトラメチルアンモニウ**ムヒドロキシドのいずれか一又は二以上を含有するのが好適である。例文帳に追加

Preferably, the electrolytic solution comprises one of a potassium carbonate, a sodium carbonate, ammonia and a tetramethyl ammonium hydroxide, or two of them. - 特許庁

フォトレジストパターンを処理するための組成物であって、第四級アンモニウ**ムヒドロキシド溶液と第一級または第二級アミンとを含み、アルカリ性である組成物。例文帳に追加

The composition for treating a photoresist pattern is an alkaline composition containing a quaternary ammonium hydroxide solution and a primary or secondary amine. - 特許庁

ホスホニウ**ムヒドロキシドと有機スルホン酸から合成したホスホニウムスルホン酸塩を、液状の酸無水物に溶解して希釈することを特徴とする、エポキシ樹脂用硬化促進剤のマスターバッチ品の製造方法。例文帳に追加

The manufacturing method of a master batch article of a curing accelerator for an epoxy resin is characterized in that a phosphonium sulfonate synthesized from a phosphonium hydroxide and an organic sulfonic acid is dissolved in a liquefied acid anhydride to be diluted. - 特許庁

有機アミン(A)、第4級アンモニウ**ムヒドロキシド(B)、キレート剤(C)および水(W)を必須成分とし、pHが7.0〜14.0であることを特徴とするタングステンおよびタングステン合金配線半導体用洗浄剤を用いる。例文帳に追加

The cleaning agent for a semiconductor provided with tungsten and tungsten alloy wiring contains organic amine (A), quaternary ammonium hydroxide (B), a chelating agent (C), and water (W) as essential ingredients, and its pH is 7.0-14.0. - 特許庁

加飾部材が飛散したり、加飾部材に使用可能な材料の種類が大きく制限されたりするのを抑制しつつ、ボト**ムヒンジ部を支点とする扉部を大きく開かせる。例文帳に追加

To open a door widely, which uses a bottom hinge as a fulcrum, while preventing a garnish member from being scattered or types of usable materials for the garnish member from being limited exceedingly. - 特許庁

光学部品のくもりを効率よく防止することができると共に省スペース化を図ることができる柔軟性に優れたフィル**ムヒーターを提供すること。例文帳に追加

To provide a film heater capable of efficiently preventing fogging of an optical component, and of saving space, and excelling in flexibility. - 特許庁

このように、第1のヒューズ回路11は、プログラ**ムヒューズ自体の切断の有無によって使用状態又は不使用状態の判定を行っていることから、イネーブルヒューズが不要となる。例文帳に追加

An enable fuse becomes unnecessary because the first fuse circuit 11 determines a use state or unuse state depending on whether the program fuse itself is cut or not as above described. - 特許庁

フィル**ムヒータ2は、刃先3aの最高到達温度に合せて、抵抗が1Ω〜10Ω、厚さが0.3mm〜1.0mmの範囲内で適宜選択する。例文帳に追加

The film heater 2 is properly selected in a range of resistance of 1 Ω to 10 Ω, and the thickness of 0.3 mm to 1.0 mm in response to the maximum ultimate temperature of an edge 3a. - 特許庁

通電制御装置、標準時刻合わせ込み装置、貯湯式電気温水器システム、ヒートポンプ式給湯機システム、電力量計、貯湯式電気温水器およびヒートポンプ式給湯機例文帳に追加

CURRENT-CARRYING CONTROL DEVICE, STANDARD TIME MATCHING DEVICE, HOT WATER STORAGE TYPE ELECTRIC WATER HEATER SYSTEM, HEAT PUMP TYPE WATER HEATER SYSTEM, WATT-HOUR METER, HOT WATER STORAGE TYPE ELECTRIC WATER HEATER, AND HEAT PUMP TYPE WATER HEATER - 特許庁

また、遮蔽部材335が感光ドラム309と帯電器310との間の遮蔽位置にあることをマイクロスイッチ343により検知した場合は、ドラ**ムヒータ333に対する通電を遮断する。例文帳に追加

Also, if it is detected by the microswitch 343 that the shielding member 335 exists at a shielding position at which it is between the photoreceptor drum 309 and the charger 310, the energization of the drum heater 333 is interrupted. - 特許庁

いかなる場合においても、目標とする給湯温度に安定して到達できることのできる給湯システム、ヒートポンプ装置の制御方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a hot water supply system that allows water to be supplied to stably reach a target temperature in any case, and a method of controlling a heat pump device. - 特許庁

フィル**ムヒーター1は、難燃性を有する絶縁性材料からなる基材フィルム2と、基材フィルム2の一方の面に積層した10μm以下の厚みの金属層3とを有する。例文帳に追加

The film heater 1 includes a base material film 2 formed of an insulating material having flame resistance, and a metal layer 3 stacked on one-side surface of the base material film 2 and having a thickness not larger than 10 μm. - 特許庁

サイドヒート、ボト**ムヒートのいずれの姿勢で使用されたとしても、少量の冷媒で適正な冷媒液面を得ることが可能な沸騰冷却装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an ebullient cooler capable of providing an appropriate refrigerant liquid face with a small quantity of refrigerant in both working attitudes of side heat and bottom heat. - 特許庁

透明性と発熱機能および柔軟性と加工性に優れた透明フィル**ムヒーターを提供することにあり、さらには、それを用いた製造コストが改善されたヒーター機能付きガラスを提供する。例文帳に追加

To provide a transparent film heater excellent in transparency, heating function, flexibility and workability, and to provide a pane with a heater function using the transparent film heater and being improved in manufacturing cost thereof. - 特許庁

凹凸がない平坦な構造を有すると共に,疲労による断線が発生せず,かつ使用の際に捻れが発生することのない金属製フィル**ムヒータを提供する。例文帳に追加

To provide a metal film heater having a flat structure without curves, preventing line breakage due to fatigue, and suppressing deformation during use. - 特許庁

アー**ムヒンジ40の後端部40Bとドア32とは第1長孔36、第2長孔38、第1ピン46、第2ピン48によって相対変位可能に連結されている。例文帳に追加

The rear end 40B of the arm hinge 40 and the door 32 are connected by a first long hole 36, a second long hole 38, a first pin 486 and a second pin 48 in relatively displaceable relation. - 特許庁

a−Siドラムを搭載した複写機・プリンターにおいてドラ**ムヒ−タを使用しなくても、高温高湿条件下で画像流れのない鮮明な画像を得る。例文帳に追加

To obtain a sharp image which is free of an image flow at high temperature and high humidity without using a drum heater, in a copying machine or printer, in which an a-Si drum is mounted. - 特許庁

自然エネルギーによる発電システム、ヒートポンプ、電気ヒータ、地中熱交換器および熱利用システムからなる自然エネルギー・地中熱併用システムおよびその運転方法を提案する。例文帳に追加

This system for using natural energy/underground heat together is formed of a power plant system using the natural energy, a heat pump, an electric heater, an underground heat exchanger and a heat utilizing system and an operating method thereof is provided. - 特許庁

通電すると発熱する透明なフィル**ムヒータ(3)が貼られた強化ガラス(4)からなる表皮層の下側に、所定の間隔をいて太陽光発電用パネル(5)を設け、所定面積のユニットを構成する。例文帳に追加

A photovoltaic power generation panel (5) is arranged, at a predetermined interval, under a surface layer made of reinforced glass (4) having a transparent film heater (3) bonded thereto which generates the heat by turning on the electricity, so that the unit having a predetermined area may be structured. - 特許庁

例文

電子写真装置は、前記電子写真感光体又は前記プロセスカートリッジを搭載し、且つドラ**ムヒーターを設けず、且つトナーの定着温度が120℃未満である。例文帳に追加

The electrophotographic device is mounted with the electrophotographic photoreceptor or the process cartridge and is not provided with a drum heater, and the fixing temperature is lower than 120°C. - 特許庁

<前へ 1 2 3 4 5 6 次へ>