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例文

Meanwhile in the waveform W2, since complex predicted value Pab(100) of amino acid residue of sequence numbers j=100 is Pab(100)=1.0, the amino acid residue of sequence numbers j=100 is determined as an antigenic determinant.例文帳に追加

一方、波形W2については、配列番号j=100のアミノ酸残基の複合予測値Pab[100]がPab[100]=1.0であるため、配列番号j=100のアミノ酸残基が抗原決定基に決定される。 - 特許庁

A calculating part 28 calculates difference ΔP between atmospheric pressure PAa and atmospheric pressure PAb detected by two sensors 9, 9a, respectively.例文帳に追加

算出部28は、二つのセンサ9,9aでそれぞれ検出された大気圧PAaと大気圧PAbとの差ΔPを算出する。 - 特許庁

An interleave composing means 11 produces a processed composite picture Pab from the processed pictures Pa, Pb.例文帳に追加

インタリーブ合成手段11は、これら処理ピクチャPa,Pbから合成処理ピクチャPabを生成する。 - 特許庁

To stabilize characteristics of PAB and PEB in resist coating-exposure-development consistent processing of a process of manufacturing a semiconductor integrated circuit device.例文帳に追加

半導体集積回路装置の製造プロセスにおけるレジスト塗布−露光−現像一貫処理において、PABとPEBの特性を安定化する。 - 特許庁

例文

To obtain an oligonucleotide useful for specifically cleaving or amplifying a pab gene encoding antigen protein pab of tubercule bacillus or a RNA derived from the gene and detecting and identifying them in high sensitivity.例文帳に追加

結核菌の抗原タンパク質pabをコードするpab遺伝子又はこれら遺伝子に由来するRNAを特異的に切断したり、増幅したり、これらの検出および同定を高感度で行なうために有用なオリゴヌクレオチドを提供すること。 - 特許庁

例文

This oligonucleotide is useful for cleaving, detecting or amplifying a pab gene of tubercule bacillus or a RNA derived from the gene, can specifically be bonded to the pab gene or the RNA derived from the gene and is composed of at least10 continuous bases in a specific sequence or an oligonucleotide complementary to the oligonucleotide.例文帳に追加

結核菌のpab遺伝子又は該遺伝子に由来するRNAを切断、検出または増幅するために有用なオリゴヌクレオチドであって、pab遺伝子または該遺伝子に由来するRNAと特異的に結合可能である、特定な配列中の少なくとも連続した10塩基以上からなるオリゴヌクレオチド又はそれらのオリゴヌクレオチドと相補的であるオリゴヌクレオチド。 - 特許庁

A pattern PA is divided into a plurality of partial patterns PAa and PAb with respect to the non-scan direction (X axis direction), the forming state of image is adjusted for each image (partial image) of the partial patterns PAa and PAb, and then the adjoining partial images out of the partial images are connected and formed on a wafer W.例文帳に追加

パターンPAを非走査方向(X軸方向)に関して複数の部分パターンPAa,PAbに分割し、部分パターンPAa,PAbの像(部分像)のそれぞれについて像の形成状態を調整するとともに、部分像のうちの互いに隣接する部分像を繋ぎ合わせて、ウエハW上に形成する。 - 特許庁

To provide a combination of oligonucleotides that is effective for carrying out a specific amplification of an RNA originating from a pab gene of Mycobacterium tuberculosis and achieving high-sensitivity detection and identification of the bacterium.例文帳に追加

結核菌のpab遺伝子に由来するRNAを特異的に増幅したり、検出及び同定を高感度で行なうために有効なオリゴヌクレオチドの組み合わせを提供する。 - 特許庁

A first comparison part 29 outputs an abnormal signal when difference ΔP between atmospheric pressure PAa and atmospheric pressure PAb detected by two sensors 9, 9a, respectively, is larger than a threshold value DP.例文帳に追加

第1比較部29は、二つのセンサ9,9aでそれぞれ検出された大気圧PAaと大気圧PAbとの差ΔPがしきい値DPより大きい場合に異常信号を出力する。 - 特許庁

A bake furnace used for PAB is provided with an exhaust hole in the center of a top plate, and a flow of dry air is formed from the center exhaust hole toward the center of a wafer 1.例文帳に追加

PABで使用するベーク炉では天板の中央に排気孔を設け、中心排気孔からドライエアがウエハ1の中心方向に向かう流れを形成する。 - 特許庁

In an expiratory period W2, inspiratory piping pressure Pae never becomes equal to or higher than the pump pressure Ps, thereby set expiratory pressure Pab is stably reached.例文帳に追加

また呼気期間W2においては、吸気管路圧力Paeがポンプ圧力Ps以上に高くなることがなく、安定的に設定呼気圧力Pabに達成させることができる。 - 特許庁

Auristatin peptides including Me Val-Val-Dil-Dap-Norephedrine (MMAE) and Me Val-Val-Dil-Dap-Phe (MMAF) are prepared and attached to ligands through various linkers, including maleimidocaproyl-val-cit-PAB.例文帳に追加

オーリスタチンペプチドとして、Me Val−Val−Dil−Dap−ノルエフェドリン(MMAE)およびMe Val−Val−Dil−Dap−Phe(MMAF)が挙げられ、これらは調製され、マレイミドカプロイル−val−cit−PABを含めた、種々のリンカーを介してリガンドに結合される。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for baking a resist, for reducing the time required for baking and enhancing the process ability while preventing coating defects such as coating irregularity and foaming, in baking (PAB: post applied bake) after application of a resist in the manufacture of a photomask.例文帳に追加

フォトマスク製造にて、レジストの塗布後のベーク(PAB)にて、塗布ムラや発泡といった塗布欠陥を発生させず、ベークに要する時間を短縮し工程能力を向上させるレジストのベーク方法、ベーク装置を提供する。 - 特許庁

For example, (1) information on the endpoint Po is deleted and other ends Pa, Pb of both line segments La, Lb are connected with a straight line Lab, or (2) with a line segment Lab' passing a point Pab on the region boundary of the straight line Lab and an intermediate point Pm of the end point Po.例文帳に追加

例えば、(1)端点Poの情報を削除して両線分La,Lbの他端Pa,Pb間を直線Labで連結したり、(2)直線Labの領域境界上の点Pabと端点Poの中間点Pmを通る線分Lab’で連結する。 - 特許庁

例文

In a baking apparatus 50 for subjecting PAB or PEB treatment to a chemically-amplified resist, the temperatures of a second hotplate 52 and subsequent hotplates are adjusted and held at a predetermined baking temperature, and the temperature of a first hotplate 51 is adjusted and held at a higher temperature than the predetermined baking temperature so that the temperature of the surface of a mask substrate 1 can reach the predetermined baking temperature within 90 seconds.例文帳に追加

化学増幅型レジストをPABまたはPEB処理するベーク処理装置50であって、90秒以内で所定のベーク温度にマスク基板1表面が到達するよう、2段目以降のホットプレート52は所定のベーク温度に調整保持し、1段目のホットプレート51の温度は所定のベーク温度より高い温度に調整保持する。 - 特許庁