Плазменного — Метка (original) (raw)
Патенты с меткой «плазменного»
Способ измерения и регистрации температуры в установках плазменного электронагрева
Номер патента: 181845
Опубликовано: 01.01.1966
Авторы: Басалаев, Всесоюзный, Лозинский, Оборудовани, Френкель
МПК: G01J 5/52
Метки: плазменного, регистрации, температуры, установках, электронагрева
...датчик, источник сравнения которого состоит из образцовой температурной лампы и импульсного источника, д прнемццк - из одного фотоумножителя. В процессе измерения оптической системе датчика сообщают механическое перемещение, например качание, относительно контролируемой зоны с амплитудой, превышающей размеры контролируемой 30 ны, В направлении, цормдльцох к оптической оси датчика.В результате в периоды прохождения оптической оси датчика через коцтролируемуо зону ца фотоумножителе формируются рабочие сигналы, а в периоды пребывания датчика за пределами этои зоны - калибровочные сигналы. Эти сигналы пересчитываются специальным устройством по обобщенному методу обращения спектральных линий и стати стически усредняются в непрерывный...
Питатель для подачи порошка в установки плазменного напыления
Номер патента: 221453
Опубликовано: 01.01.1968
МПК: B05B 7/16
Метки: напыления, питатель, плазменного, подачи, порошка, установки
...отверстие 5 и там задерживаются. Питатель для подачи порошка,в установки плазменного напыления, содержащий электромагнитный вибратор и бункер, От,гссчасосссиссся тем, что, с цслью повышения качества покрытия путем выделения из массы порошка мелкодисперс 1011 фракции, питатсль снаожсн сспаратОрОм, Выполнен 111 м В в 11 дс резерв",ара и канала, в с 1 енкс 1 Оторого 11 о 1 естся сообщающееся с полостью резервуар 1 отверстие,Известно питающее устроиство, содержащее электромагнитный вибратор и бункер.Предложенный питатель отличается от известного устройства нал 1 чием сепаратора, выполненного,в виде резервуара и канала, в стенке которого имеется сообщающееся с полостью резервуара отверстие. Это обеспечивает высокое качество покрытий путем...
Способ плазменного нанесения покрытия
Номер патента: 254300
Опубликовано: 01.01.1969
Авторы: Афонин, Иванов, Кузовиткин, Мишин, Назаров
Метки: нанесения, плазменного, покрытия
...мощность 12 квт.При таком режиме плотность покрытия равна 3 5 - 3 б ггсаПредложенный спосоо повышает качество покрытия и уменьшает потери напыляемого м атер и ал а.т я зооретени ПоедмеСпосоо плазмен разделенем пото за и напыляемого тем, что, с целью тия: леньшенп Изооретение относится к области нанесениязащитных покрытий плазменным напылением.Известен способ плазменного нанесения покрытий с разделением потоков плазмообразующего газа и напыляемого материала. 5Предложенный спосоо отличается от известного тем, что разделение потоков газа осуществляют путем подачи напыляемого материала в начало формирующего канала доанодного пятна, и процесс ведут при возрастающей интенсивности подачи напыляемого материала, что позволяет улучшить...
Устройство для подачи сыпучих материалов установкам плазменного напыления
Номер патента: 278344
Опубликовано: 01.01.1970
МПК: B05B 7/16
Метки: напыления, плазменного, подачи, сыпучих, установкам
...раьиомсрцость подачи материала к установке.1-1 Я ерте)ке изооражецо Гредло)кениое устройство и разрезы по 1 - А и Ь - Б.Устройство содержит герметичный корпус 1 с вьОдць) каналом 2 и узел дозировация, выполненный в виде регулировочцой иглы ) с центральным каналом 4 для подачи газа. В игле,3 ца расстоянии от ее нижнего конца равным ее оду имеются отверстия 5, расположенные в радиальном цаправлеииц,Перед загрузкой регулировочиая гайка 6 стяВитс 51 В положение Открьто. ВОЗВра 1 тиа 51 пружина 7 поднимает регулировочцуо цглу, котОрая открывает канал 2, Засыка пороцка через выодной канал 8 происодГг после поворота устройства ца 180 г вертикальной плоскости. После этого гайка 6 ставится в положение закрыто, и регулировочная игла...
Прибор для измерения интенсивности плазменного потока
Номер патента: 327407
Опубликовано: 01.01.1972
Авторы: Бурцев, Литуновский
МПК: G01N 27/62
Метки: интенсивности, плазменного, потока, прибор
...оценитг, количество содержащихся,в нем заряженных частиц. Последняя оценка производится путем непосредственного осциллографирования напряжения на конденсаторе, изменение, которого пропорционально электрическому заряду, поступившему в прибор (оценка справедлива для достаточно чистых,плаз,мевных сгустков) .На фиг.показан оощий,вид прибора; ца фиг. 2 - сечение по Л - Л на фиг. .Предлагаемый прибор, содержит электроды 1, наружный проводник 2 коаксиального токопроводавнутренний проводник 3 токопровода с пленочной изоляцией 4, фторопластовую втулку 6, корпус 6, тройник 7, шунт 8, внутренний ггроводник 9 тройника, рулонные,ковгденсаторные секциями 10, внутренние вкладыши 11, наружные вкладыши секг 1 ий 12, пластинчатый диэлеыгрик 13,...
Способ плазменного нанесения пленок
Номер патента: 217552
Опубликовано: 15.05.1975
Авторы: Гольдфарб, Гончаров, Крячко, Сыноров
МПК: H01F 41/14
Метки: нанесения, плазменного, пленок
...с целью упрощения процесса и улучшения его контролируемости и увеличения плотности покрытия, изготовляют твердый вкладыш из наносимого материала и вводят его в разрядную камеру плазматрона, а скорости эрозии вкладыша и нанесения пленки регулируют изменением температуры плазмы,о Известные способы плазменного нанесенияпленок заключаются в расплавлении наносимого вещества в разрядной камере высокочастотного безэлектродного плазматрона итранспортировке его к обрабатываемой поверхности с помощью струи инертного рабочего газа, например аргона,Однако в этих способах сложна система подачи наносимого вещества, мала контролируемость процесса и качество наносимых пленок 10невысокое.Для упрощения процесса и улучшения егоконтролируемости, а также...
Автоматическая система удержания плазменного шнура
Номер патента: 782554
Опубликовано: 23.01.1982
Автор: Нафтулин
МПК: G21B 1/00
Метки: автоматическая, плазменного, удержания, шнура
...в обмотках управления будут создавать управляющие магнитные поля, компенсирующие отклонениеплазменного шнура.Однако в известном устройстве имеются недостатки.При работе инвертора сида тока вобмотке управления определяется суммой напряжения источника питания инапряжения коммутирующего конаенсатора. Если плазменный шнур удерживается в одном направлении, то полярностьнаправления сигнала смещения сохраняет определенный знак и работает одининвертор. Когда плазменный шнур изме;- фняет направление движения, то полярность направления сигнала смещенияизменяется и начинает работать другойинвертор. Первый импульс тока в другой обмотке управления определяется сумЗфмой напряжения источника и напряжениемуже цругого коммутирующего коиденсатора,...
Способ определения работы выхода коллектора плазменного прибора
Номер патента: 900750
Опубликовано: 23.08.1982
МПК: H01J 9/42
Метки: выхода, коллектора, плазменного, прибора, работы
...равиои температуре эсмнттера, ом см-.Процесс определения работы выхода коллектора плазменного прибора, например, инедокомпенсированном режиме состоит и;1 пследующем: в прибор при установленныхтемпературе эмиттера и давлении газонаполнителя подается ионизирующий импульс с длительностью зад 1 с 1 его фронта существенно меньше времени распада плаз- .11)мы в приборе. 11 о окончании ионизирующего импульса на коллектор подают напряжение Уи измеряют зависимость тока наколлектор от времени. Эти зависимостиснимают при различных значениях Удо .1 зтех пор, пока на зависимости тока от времени не образуется плато, причем ток через прибор должен быть значительно меньше тока эмиссии с эмиттера. По измеренному значению тока в точке перехода с э...
Материал для напыления для газопламенного или плазменного способа напыления и способ его производства
Номер патента: 960144
Опубликовано: 23.09.1982
Авторы: Бартушка, Звержина, Кроупа, Сабо
МПК: C04B 41/06
Метки: газопламенного, материал, напыления, плазменного, производства, способа
...изобретения заключается в том, что материвп для напыпения образо- . ван агломератами по меньшей мере двух основных окиспов, гпавным образом АЩ МО, СаО, Ввс, Сгсъ, тО ипи г О3,49 в количестве 50-99 вес.%, и по меньшей мере одним стеклообразуюшим окиспом. с температурой плавления на 50-1100 оС ниже температур основных окислов, главным образом. 810, в количестве 14 50 вес.%. Материал для напыпения моЖет содержать агломераты вес,%; 50-80 СаО, 1 5 Р 5 уО и 18-45 610 ипи 50-90 М(О, фф 1-5 оСаО и 5-45 810, или 90-95 СгО, 2 8 Т 101 и 1-3 5101, ипи 65- 75 Сг 10, 20-30 М(0 и 210 ВО или 30-40 АбгОЗ, 15-23 СаО и 35-50 ;5101, или 25-30 АР 0,40-45 СаО иИ 25-35 В 10, или 46-51 А 90133-41 2"О и 8-21 10, или 25-30 АВОз, 2530 СгОЬ, 25-30 2 г О и...
Система управления положением плазменного шнура в токамаке
Номер патента: 991851
Опубликовано: 23.12.1983
Автор: Нафтулин
МПК: G21B 1/00
Метки: плазменного, положением, токамаке, шнура
...формирующие устройства и распределитель импульсов, соединенныес раздельными выходами преобразователя аналогового сигнала. Обе группы тиристоров работают поочередно.К управляющим входам переключателя полярности тока подключены формирующие устройства, соединенные стеми же выходами преобразователяаналоговогосигнала непосредстненно,Направление тока н обмотке заниситот полярности напряжения смещения 45шнура. Однако такое устройство не обеспечивает поочередного включения групп тиристоров переключателя тока, необ ходимого для получения переменного синусоидального тока.Целью изобретения является расширение функциональных возможностейсистемы,. 55Поставленная цель достигается тем, что система управления положением плазменного шнура в...
Устройство для измерения поперечной скорости вращения плазменного шнура
Номер патента: 953892
Опубликовано: 23.11.1984
МПК: G01J 3/26
Метки: вращения, плазменного, поперечной, скорости, шнура
...виде экрана со щелью вформе дуги, фотоприемник и регистрируюшсе устройство, в экране дополнительно выполнена вторая щель в виде дуги симметрично первой щели от 45восительно оптической оси устройствавведен дополнительный фотоприемник,оитичсеки связанный с дополнительнойщслью, регистрирующее устройствовынолнено двухканальным, а первый50второй фотоприемники подключеныеоответотвснно к первому и второмуканалам регистрирующего устройства,Нн Аиг. 1 представлена схема устройства, на фиг, 2 - изображениея кодной диафрагмы со сформирован 55ной интерференционной картиной.устройетво содержит светофильтр 1,освс" итс ьную систему 2, входную 2 гдиафрагму 3, коллиматорный объектив 41сканирующий интерферометр Фабри-Перо5, камерный объектив 6,...
Рабочая камера плазменного лазера
Номер патента: 620160
Опубликовано: 23.03.1985
Авторы: Аблеков, Денисов, Козлов, Любченко, Огородников, Протасов, Прошкин
МПК: H01S 3/22
Метки: камера, лазера, плазменного, рабочая
...остальные соседние соленоиды, - по полю.На Фиг. 1 Й фиг. 2 изображенарабочая камера плазменного лазерадля случая п = 1, соответственноплан и вид сбоку на фиг. 3 - схемапоперечного сечения рабочей камерыдля случая и = 2. Рабочая камера плазменного лазера состоит из плоских плазменных ускорителей 1 с коаксиальнымн анодами 2 и катодами 3, вводами 4 рабочего газа и соленоидами 5. Ускорители 1 симметрично состыкованы с камерой 6 торможения, соединенной со сверхзвуковым соплом 7, которое сообщено с полостью оптического резонатора 8 с зеркалами 9. Резонатор 8 сообщается с атмосферой через выхлопной диффузор 10. Аноды.2 и катоды 3 подключены к источнику 11 электропитания. Пунктирными линиями на чертеже показаны силовые линии магнитного...
Способ стабилизации положения плазменного шнура в токамаке
Номер патента: 1119490
Опубликовано: 23.05.1985
Авторы: Грибов, Митришкин, Чуянов
МПК: G21B 1/00
Метки: плазменного, положения, стабилизации, токамаке, шнура
...произ" водной возмущения компенсирует статическую ошибку стабилизации положе" ния плазменного шнура,Как показано в прототипе, уравнение движения плазменного шнура с учетом вакуумной камеры можно пред" ставить в видеатгде Х - измеряемая величина смещения;Х - величина, пропорциональнаяуправляющему магнитному по",лю;Ь " внешнее неконтролируемоевозмущение.Данное возмущение вызвано изменением суммы величины: 1,.с 1 /2, где- отношение гаэокинетического давления плазмы к давлению магнитнот го поля плазменного тока; 1; " внут" реиняя индуктивность плазменного шнура. Уравнением (1) описывается динамическое звено первого порядка 35 . с передаточной функцией вида:1 оФФ- (2)1 Тгде К" 1/г - коэффициент усиления=143 " постоянная времени;р -...
Способ измерения направленных скоростей компонентов плазменного объекта
Номер патента: 1396061
Опубликовано: 15.05.1988
Автор: Деревщиков
МПК: G01P 3/38
Метки: компонентов, направленных, объекта, плазменного, скоростей
...спектральных компонент излучения . одного из выделенных потоков по линейному закону относительно центральной частоты выделенного спектрального диапазона, а по разности яркостей двух изображений объекта, полученных одновременно в каждом канале, судят о профиле скоростей. Изобретение относится к способамдиагностики плазмы и может быть использовано для определения профилянаправленных скоростей компонентовпри исследовании плазменных ускорите 5лей, истечения плазмы в вакуум,взаимодействия лазерного излученияс веществом и т,п.Цель изобретения - измерение профиля скоростей компонентов плазменного объекта.На чертеже показана принципиаль"ная оптическая схема устройства, реа лизующего способ измерения,Способ осуществляют...
Способ стабилизации положения плазменного шнура в токамаке
Номер патента: 1399824
Опубликовано: 30.05.1988
Авторы: Грибов, Митришкин, Чуянов, Шаховец
МПК: G21B 1/00
Метки: плазменного, положения, стабилизации, токамаке, шнура
...возмущения У и их временные Йх дюпроизводные в -"-, в формируютс(1 сся моделью 8 движения плазменного шнура и моделью 9 возмущения. Блок 1 О сравнения создает раэностный сигнал путем сравнения величины измеряемого смещения Х и его модельного значения Х. Выход блока 11 формирования корректирующего сигнала подклрчен к входу исполнительного устройства 3. Блок 12 формирования критерия качества адаптации для определения величины отклонения коэффициента К модели 8 от коэффициента К объекта 1 подключЕн двумя входами к выходам объекта Х и модели движения плазменного шнура Хд, а входом через фильтр 13 и интегратор 14 - к первому параметрическому входу модели 8. Блок 15 формирования критерия качества адаптации для определения величины отклонения...
Устройство для стабилизации положения плазменного шнура в токамаке
Номер патента: 1418817
Опубликовано: 23.08.1988
Авторы: Грибов, Косцов, Кузнецов, Митришкин, Шаховец
МПК: G21B 1/00
Метки: плазменного, положения, стабилизации, токамаке, шнура
...вспомогательной переменной модели возмущения.Поскольку множительное звено 29входит как во вторую, так и в первую модель объекта, то изменениелего входа К в соответствии с (3) и,непрерывное приближение К к величине коэффициента усиления объекта Кобеспечивает более точную оценкулвозмущения ь) в (4) при Т = Т,т.е. уменьшение величины 1 Г 1. Приэтом более точньм получается сигналобратной связи 2, в котором используются выходные величины модели возмущения Й и где К, Т - коэффициент передачи ипостоянная времени ка"тушки управления. 174модели 1 отслежива Рт коэффициент у(. ления объекта К,Величина ошибки оценки озмущецигю - д тем большем, чем боль. ше отклонение К от К. Это следует из уравнений динамики объекта (1), первой модели объекта и...
Узел плазменного генератора
Номер патента: 1440354
Опубликовано: 23.11.1988
МПК: C21B 7/16
Метки: генератора, плазменного, узел
...может выполняться в едином блоке вместе с фурмой 5. За счет этого можно осуществить совместную подачу охлаждающего агента, 30 а также облегчить сборку и разборку и т.д.Перепускной клапан 7 выполнен в передней части фурмы 5 и состоит из клапанного диска 8, а впереди клапана перепускного находится уплотнительный фланец 9.Кроме того, схема содержит генератор 10 плазмы с головкой 11 и обмоткой б возбуждения, введенной в Фурму 5. 40 Головка 11 генератора плазмы также содержит расположенный далее по ходу электрод (не показан), который имеет водяное охлажцение, Когда генератор 10 плазмы находится во введенном, ра бочем положении, электрическая обмотка возбуждения охружает этот электрод, за счет чего производится нужное вращение...
Способ плазменного напыления покрытий
Номер патента: 1502655
Опубликовано: 23.08.1989
Авторы: Васильев, Линников, Ягудин
МПК: C23C 4/12
Метки: напыления, плазменного, покрытий
...загитных покрытий, в частности плазменным методом и мокет быть использовано н различных отраслях промышленности.Целью изобретения является расширение технологических воэможностей.Оуцность изобретения состоит в тсм, что в процессе плазменного напы.пения г окрытпи температуру напыляемой поверх ости контролируют посредством измерения разности потенциалоя между соплом плазмотрона и обрабатываемой поверхностью,1(я ретый поверхностный слой покрьтия является источ:пгком испуска.ия зле;.1 г.онов, Освобожденные из поерхнос-и напыпяемого слоя электроны движутся под действием электрического ттоя ч пламеннс н стр:е, обра - зуя ток, Между поверхностью подложки и анодом ппазмотрона появляется одимости плазменнои с определяется режимами оцность дуги,...
Способ плазменного нанесения покрытий
Номер патента: 1537240
Опубликовано: 23.01.1990
Авторы: Жуков, Марусин, Петерс, Худоногов
МПК: A61C 13/08, C23C 4/00
Метки: нанесения, плазменного, покрытий
...о АЬОз, имеет цвет от белого до светло-серого в зависимости от плотности тока. Покрытие прочно сцепляется с металлической основой протеза, имеет микротвердость 1800 - 2000 кг/мм, инертно к микрофлоре и среде полости рта.Пример, Цельнолитой или штампованный зубной протез из алюминия марки Д - 16 помещают в 96%-ный раствор серной кислоты, подают на него положительное напряже 80153724(54) СПОСОБ ПЛАЗМНИЯ ПОКРЫТИЙ(57) Изобретение отЦель изобретения - сннанесения покрытияДля этого исходныйтовле нный из алю ми н иродуговой плазмой в рты при плотности тока20 - 40 мин. ключают источник питания, плавно повыт напряжение на нем до достиженияности тока 5 - 15 А/дм. Процесс ведутпостоянной плотности тока 10 А/дм-.пенно повышая напряжение на...
Устройство для исследования плазменного токосъема
Номер патента: 1558722
Опубликовано: 23.04.1990
Авторы: Лысак, Михеев, Свешников
МПК: B60L 5/00
Метки: исследования, плазменного, токосъема
...образом.Вдоль имитатора 1 путевой структу" ры по команде с блока 3 управления 45 двигатель 2 начинает двигаться возвратно-поступательно и перемещать изолированную платформу 5 с плазменным токоприемником 6 вдоль электродугового токосъемного элемента 12, на ,который через шлейфы 1 1 от источника 10 электропитания подается потенциал оиловой цени заданной полярности, а потенциал обратной полярности от источника 10 через поглотитель 9 энергии подается на электрод плазменного55 токоприемника 6. По команде с блока 7 управления поджигом силовой дуги в токоприемнике начинает работать плазмотрон. По командам с блока 15 узлы 14 начинают опускать электрод 12 до момента зажигания силовой дуги над работающим пл змотроном и перехода в зону магнитного...
Устройство для формирования плазменного факела
Номер патента: 1508938
Опубликовано: 30.06.1990
Авторы: Анисимов, Бушман, Великович, Ковальский, Крюков, Ландин, Либерман, Минин, Пергамент
МПК: H05H 1/00
Метки: плазменного, факела, формирования
...излучения наповерхность усеченного конуса происходит абляционное ускорение его малого основания и одновременно ради.альное схождение стенок конуса к оси.В результате течение становится регулярным по всей длине образующей конуса и в процессе струеобразонания 20участвует вся его поверхность. Кроме того, еще до схлопывания на ось,материал боковой стенки конуса подподпирающим" действием донышка - малого основания конуса. - приобретает 25значительную осевую составляющую компоненту скорости.При использовании в качестве материала вершины конуса металла сбольшей плотностью его "подпирающее" 30дейстние становится более существенным, Иасса этой пластины ограничена:условием движения поршня совместнос точкой разворота потока. Исследования...
Способ получения порошков для плазменного напыления
Номер патента: 1585070
Опубликовано: 15.08.1990
Авторы: Алексеенко, Баранова, Варигин, Владимиров, Захаров, Иванов, Кузовиткин, Орехова, Склизков, Усатиков
МПК: B22F 1/02
Метки: напыления, плазменного, порошков
.... 1 85, 1 87 1,92 2,00 35 30 венного от 2628 35 32 27 30 25 коса, град Свойства покрытий:открытая по" ристость Хкажущаясяплотность,г/см 31 42 41 40 49 35 3,7 4,5 2,5 3,0 3,5 3,55 3,63 3,60 ,3,45 3,40 3,45 3,35 3,57 365 3,61 3,47 на прокаленное вещество Т 1 О,Х на прокаленное вещество Азотнокислый висмут, Х Фенольный лак, Х исходи, Стеарокс-Ь, Ж Поливиниловьй спирт, Х Полиэтиленгликоль Х Свойства порошков:текучесть, с коэФфициент использования, 7.насыпная плотность, г/см Угол естестния текучести, коэ 4 дициента использования порошков и снижения пористостипокрытий, порошки после классиФикацииподвергают смачиванию раствором азотнокислого, висмута концентрацИей 0,52,2%, а затем раствором антистатического водорастворимого...
Мишень для торможения плазменного или корпускулярного потока
Номер патента: 1384181
Опубликовано: 23.08.1990
Авторы: Лысенко, Скибенко, Юферов
МПК: H05H 1/00
Метки: корпускулярного, мишень, плазменного, потока, торможения
...напуск рабочего газа, например водорода, во внутреннюю полость камеры 2, где он превращается либо в жидкий, либо в твердый криоконденсат 5 в зависимости от температуры стенок камеры 2.На этапе торможения открывается тепловой ключ 12 (разрывают тепловой контакт между криостатом 1 и камерой 2) и задвижки 6 и 7. Плаэменный или корпускулярный поток попадает внутрь мишени, При-этом крйоконден/сат 5 в камере 2 плавится и переходит в газообразное состояние, эаполняя равномерно все пространство внутри корпуса иишени, Торможение плазменного или корпускулярного потока происходит частично за счет потерь энергии на фазовых переходах(криоконденсат - криожидкость - пар),но в основном за счет элементарныхпроцессов иониэации, диссоциации,возбуждения...
Способ формирования фоторезистивной маски для плазменного травления
Номер патента: 1099776
Опубликовано: 23.10.1990
Авторы: Бугай, Ткаченко, Ярандин
МПК: H01L 21/3105
Метки: маски, плазменного, травления, формирования, фоторезистивной
...д.ттель) тьГнтес(о)ГО дик:аГОТГОе: .. Г Г.зцстивной маски; з-а цскб р Н,Г," ПРОВЕДЕНИЯ ДОНОГНИТЕЛЬН т( СПР) :;нанесения заципого слоя па Б 1 С)нанесения втсрогс ело 1:тоар(:3 с -его экипопироватптя рояв.Генц исушки, реак гивно. о ионного тра;1 сБ 102 и слоя толе:ого фоторетц.т;,11 елью изобретения явгтяегс;5 сстНИЕ ТЕХНОЛОгтНЕСКОГО 1 ИК 51;.эгт,:ния фоторезстВпойт аски спрофил"м ооковых с тонок11(.,ГЬ д 3 С Т 1РТ.бе формиров анЯ фос р=3 и гив,ОКИ ДЛЯ ЫаЗМЕННОГО ттэаВНЕПГГ ".К,щем операции Янесэ 5 фо Орес:сна ;Од 110)(к у . сушкус нонн с: Гц."Гспроявлс.ние эо бра кс:.я о-ле,эо,;пения изобракения проводят театнО,5-5 мин плсз."еп:у",. обработку;к. -.рЕЗИСта В БЧ дОдНО с 1 Сто:Е .- :ной среде прц павлецп. 0-, .1 ОС ПВтудельной мощности О...
Ионно-оптическая система плазменного источника ионов
Номер патента: 1496614
Опубликовано: 23.11.1990
Метки: ионно-оптическая, ионов, источника, плазменного
...отверстиемдиаметром й = 0,25-0,40 и выполне,ние выходного электрода линзы длиной .10,2-0,3 П, где 0 - апертура линзы,приводят к такому распределению радиальной компоненты Еэлектрическогополя в последнем ускоряющем зазорелинзы, что осуществляется согласование пространства линзы с ионнооптическими характеристиками пчка,поступающего на ее вход. При этомформируется пучок с малым эффективным эмиттансом правильной эллиптической .формы, В то же время в аналогич"ных ионно-оптических системах, содержащих одиночные линзы, фазовыйпортрет пучка частиц имеет Я-образнуюформу, что соответствует большемуэффективному эмиттансу,Формула и э о б р е т е н и я Ионно-оптическая система плазменного источника ионов, выполненная в виде одиночной...
Способ плазменного упрочнения изделий
Номер патента: 1615194
Опубликовано: 23.12.1990
МПК: C21D 1/09
Метки: плазменного, упрочнения
...эне у, т.е ии на. о жается оплавление кромок режущег инструению каке инструмента не оплавляется ме а. че ению ГИУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТПО ИЭОВРатЯНИЯЧ И ОтНРЦтИПРИ ГИНТ СССР(57) Изобретение относитсястроению и может быть испсл Изобретение относится к машиностроению и металлообработке и может быть использовано для повышения износостойкости и срока службы цеталей машин и различного обрабатывающего инструмента, например пил.Цель изобретения - повышение качества упрочнения за счет устранения оплавленияСпособобразом.Сгораемую прокладку в виде, например, бумажной ленты устанавливают между соплом плазмотрона и острой кромкой обрабатываемого режущего инструмента. Под воздействием плазменной струи прокладка загорается, а продукты сгорания...
Порошковый материал на основе железа для плазменного напыления покрытий
Номер патента: 1617036
Опубликовано: 30.12.1990
Авторы: Болотина, Волчок, Ларионов, Литовка, Милохин, Шевченко
МПК: C22C 38/32, C22C 38/36, C23C 4/04 ...
Метки: железа, материал, напыления, основе, плазменного, покрытий, порошковый
...ГОСТ 4755-70 и медный порошок ПМСпо ГОСТ 4960-75), предварительно измельченные (размер частиц 40 - 100 мкм) и перемешанные, используются в виде шихты порошковой проволоки с оболочкой из малоуглеродистой стальной ленты 08 кп по ГОСТ 503-71 диаметром 1,8 - 2,0 мм с коэФ- фициентом заполнения ),35 - 0,40 Содержание углерода и кремния в покры(из"вестный) 0,8 тии регулируют содержанием высоко- и низкоуглеродистого Феррохрома, а также Ферробора. Алюминий, содержащийся в ферроборе, в процессе напыления подвергают окислению и распылению.Нанесение покрытий осуществляют методом плазменно-дуговой металлизации на установке типа УПУ-ЗД при следующих основных параметрах режима:Сила тока, А 200-220Напряжение, В 90-110Расход аргона, м /с...
Способ плазменного упрочнения режущего инструмента
Номер патента: 1622409
Опубликовано: 23.01.1991
Авторы: Скрипкин, Токмаков, Фетисов
МПК: C21D 1/06
Метки: инструмента, плазменного, режущего, упрочнения
...метода контроля положенияи стабильности качества упрочнения,2 табл,кромок плазменной струей качество упрочнения зависят от взаимного расположения продольной оси обрабатываемого режущего элемента и от плазмообраэующей струи газа, Наилучших результатов по износостойкости после упрочнений дереворежущих ййл достигают при смещении плазменной струи относительно продольной оси о рабатываемого элемента на 1-1,5 мм.1622409 Таблица 1 Покаэатели 0 1,0 1,5 950 950 950 950 500 400 45 50 Таблица 2 Спо с об упрочнения Контроль взаимного положениязуба и осиплазменной струи Минимальные эаЧувствительность метода (минимальное регистрируемое отклонение плазменной струи), мм траты временина коррекцию положения плазменной струи Предлагаемый...
Материал для плазменного напыления покрытий
Номер патента: 1636475
Опубликовано: 23.03.1991
Авторы: Буцан, Каденаций, Лисовская, Павлов, Ткаченко
МПК: C23C 4/12
Метки: материал, напыления, плазменного, покрытий
...на никелевой основе; ЭПсостава, 7: вольфрам 6.,0-7,5; м 8,5-10,5; молибден 6,5-8,0; ни ь - остальное (2); ЭИ 893 соста%: вольфрам 2,5-3,0; хром 3,8- молибден 2,5-3,0, никель - осьное (3);16364 25 Коэффициент трения Повреждаемостьпокоя ткани, дефекты/смй без проскальзыва" после проскальзывания 21"33 1 2 2 1 1 0,22 - 0,44 0,65 - О,2 0,64 - 0,69 0,65 - 0,72 Оф 65 - 0172 0,20 - 0,29 0,15 - 0,24 О, 15 - 0,24 0,17 - 0,27 0,20 - 0,26 0,20 - 0,26 0,20 " 0,29 0,20 - 0,29 3-7 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12.13 1 1 1 1 1 6,0-7,5; хром 8,5-10,5; молибден6,5-8,0; никель - остальное (4);смесь состава, Х: вольфрам 5,07,0 хром 6,0-16,5; молибден 4,06,5; никель - остальное (5);металлические порошки, выпускаемые серийно, и специально приготовленные смеси;...
Способ плазменного упрочнения пилообразного режущего инструмента
Номер патента: 1643621
Опубликовано: 23.04.1991
Авторы: Петухов, Скрипкин, Токмаков
Метки: инструмента, пилообразного, плазменного, режущего, упрочнения
...ущих пилзобретениясчет получепередн повышение я высокой режущей к звестный 3 8000 сти з Предлагамый 8200 8500 8500 к 25 30 твердости назуба,По ставленн азменное упрочненрежущих пилах из риведены значения твер кромки зуба пилы в заугла наклона плазмотротвердость стали 9 ХМФ что плазменную сстороны вершинысоставлякщем с покой угол 25 45При ме р,проводят на дерестали 9 ХМфаВ таблице пдости режущейвнснмости отна, Исходная3000 МПа,носится к металлуриспользовано дпяотки пилообразногонта, в частности цель достигается тем,трую направляют со зуба в направлении, ередней режущей кром Предлагаемый спУпрочнения пилообр инструмента по сра способом позволяет упрочнения режущих лее эффективного н кромки зуба, обусл контактом плазмы с кромкой,соб...