Immersion lithography (original) (raw)
Immersion lithography is a photolithography resolution enhancement technique for manufacturing integrated circuits (ICs) that replaces the usual air gap between the final lens and the wafer surface with a liquid medium that has a refractive index greater than one. The resolution is increased by a factor equal to the refractive index of the liquid. Current immersion lithography tools use highly purified water for this liquid, achieving feature sizes below 45 nanometers. ASML and Nikon are currently the only manufacturers of immersion lithography systems.
| Property | Value |
|---|---|
| dbo:abstract | Die Immersionslithografie ist eine Technik im Produktionsprozess der Mikroelektronik zur schärferen Abbildung bei der fotolithografischen Strukturierung. Die Technik nutzt dabei dasselbe Prinzip wie die Immersionsmikroskopie, sie dient aber nicht der Betrachtung eines Objekts, sondern der verkleinerten Projektion einer auf einer Fotomaske vorhandenen Struktur in eine Fotolackschicht, vgl. Fotolithografie (Halbleitertechnik). Es handelt sich dabei um eine Verbesserung der Projektionsbelichtung, bei der die Luft im Spalt zwischen der letzten Linse und der Wafer-Oberfläche durch eine Immersionsflüssigkeit (transparente Flüssigkeit mit möglichst hohem Brechungsindex) ersetzt wird. Dies erlaubt im Vergleich zu bauähnlichen Anlagen ohne Immersionsmedium die Herstellung von kleineren Strukturen, da eine größere numerische Apertur (NA) und Abbildungstiefe (engl. depth of focus, DOF) erreicht werden. Die Einführung der Immersionslithografie ermöglichte es, bestehende Lithografiesysteme (Kombination aus Linsensystem, Fotomasken, Fotolacke usw.) auf Basis von ArF-Excimerlasern – nach deren Wellenlänge auch 193-nm-Lithografie genannt – weiterhin zu nutzen und dennoch kleinere Strukturen zu fertigen. Damit konnte die Einführung kostenintensiver und noch nicht für die industrielle Massenproduktion tauglicher Alternativen, wie die EUV- oder Elektronenstrahllithografie, vorerst weiter verschoben werden. In der Evolution der Lithografiesysteme ist es nach derzeitigem Wissen das letzte, das auf Brechung basiert. Die Immersionslithografie ist die gängigste Technik, um integrierte Schaltkreise mit Strukturgrößen von 28 nm bis zu 10 nm in der industriellen Massenproduktion zu fertigen und stellt damit eine Schlüsseltechnik für die Herstellung von Produkten der Mikroelektronik wie Hauptprozessoren von Computern, System-on-a-Chip von Smartphones usw. dar. (de) Immersion lithography is a photolithography resolution enhancement technique for manufacturing integrated circuits (ICs) that replaces the usual air gap between the final lens and the wafer surface with a liquid medium that has a refractive index greater than one. The resolution is increased by a factor equal to the refractive index of the liquid. Current immersion lithography tools use highly purified water for this liquid, achieving feature sizes below 45 nanometers. ASML and Nikon are currently the only manufacturers of immersion lithography systems. (en) 액침 노광(液浸露光, 영어: Immersion Lithography)은 렌즈와 웨이퍼 표면 사이의 공간을 굴절률이 큰 액체의 매질로 대체하여 포토리쏘그래피의 분해능을 증가시키는 기술이다. 액체의 굴절률이 늘어남에 따라 각도 분해능도 늘어나게 된다. 최근의 액침 노광 장치들은 이 액체로 순도 높은 물을 사용하여 37 나노미터 이하의 폭에 도달했다. , Nikon, Canon만이 액침 노광을 사용하는 공장이다. (ko) Immersielithografie is een techniek om de details, die ten behoeve van de chipsfabricage op een wafer worden geëtst, te verkleinen. (nl) Иммерсионная литография (англ. Immersion lithography) — в фотолитографии для микроэлектроники — способ повышения разрешающей способности за счёт заполнения воздушного промежутка между последней линзой и плёнкой фоторезиста жидкостью с показателем преломления более 1 (метод иммерсии). Угловое разрешение увеличивается пропорционально показателю преломления. Современные литографические установки используют в качестве жидкости высокоочищенную воду, позволяя работать с техпроцессом менее 45 нм. Системы с использованием иммерсионной литографии выпускаютсялишь ASML, Nikon и Canon. Улучшением данной технологии можно считать методику HydroLith, в которой измерения и позиционирование производится на сухой пластине, а экспонирование — на «мокрой». (ru) Імерсія (лат. immersio, від immergo — занурюю, рос. иммерсия, англ. immersion, нім. Immersionsflüssigkeit f) — введення рідини (кедрової олії, вазеліну, водного розчину гліцерину) між розглядуваним предметом і об'єктивом мікроскопа, щоб підвищити освітленість зображення. Імерсія використовується також у фотолітографії, де введення рідини з показником заломлення, більшим від одиниці, між об'єктивом і поверхнею, дозволяє збільшити роздільну здатність. Принцип імерсії розробив у XIX столітті італійський астроном, ботанік і оптик Джованні Амічі. (uk) |
| dbo:thumbnail | wiki-commons:Special:FilePath/Immersion_lithography_illustration.svg?width=300 |
| dbo:wikiPageID | 642936 (xsd:integer) |
| dbo:wikiPageInterLanguageLink | dbpedia-ja:液浸 |
| dbo:wikiPageLength | 8659 (xsd:nonNegativeInteger) |
| dbo:wikiPageRevisionID | 1120892656 (xsd:integer) |
| dbo:wikiPageWikiLink | dbc:Lithography_(microfabrication) dbr:Argon_fluoride_laser dbc:Taiwanese_inventions dbr:Optical_lithography dbr:Ghavam_Shahidi dbr:Multiple_patterning dbr:ASML_Holding dbr:Angular_resolution dbr:Nikon dbr:Numerical_aperture dbr:Photoresist dbr:Photolithography dbr:Antireflection dbr:IBM dbr:Refractive_index dbr:Silicon dbr:Ultraviolet dbr:Oil_immersion dbr:Water_immersion_objective dbr:Line-space dbr:Polarization_effect dbr:Burn_J._Lin dbr:20nm dbr:File:Immersion_lithography_illustration.svg dbr:File:Immersion_tool_throughput.png dbr:File:LELELE_patterning.png dbr:File:Pitch_splitting.png |
| dbp:date | November 2020 (en) |
| dbp:reason | "However" implies a contrast, but both sentences describe advantages. (en) |
| dbp:wikiPageUsesTemplate | dbt:Clarify dbt:Cn dbt:Reflist dbt:Short_description dbt:Unreferenced_section dbt:When |
| dct:subject | dbc:Lithography_(microfabrication) dbc:Taiwanese_inventions |
| gold:hypernym | dbr:Technique |
| rdf:type | dbo:TopicalConcept yago:BodyPart105220461 yago:Eye105311054 yago:Organ105297523 yago:Part109385911 yago:PhysicalEntity100001930 yago:WikicatGeometricalOptics yago:SenseOrgan105299178 yago:Thing100002452 yago:WikicatPhysicalOptics |
| rdfs:comment | Immersion lithography is a photolithography resolution enhancement technique for manufacturing integrated circuits (ICs) that replaces the usual air gap between the final lens and the wafer surface with a liquid medium that has a refractive index greater than one. The resolution is increased by a factor equal to the refractive index of the liquid. Current immersion lithography tools use highly purified water for this liquid, achieving feature sizes below 45 nanometers. ASML and Nikon are currently the only manufacturers of immersion lithography systems. (en) 액침 노광(液浸露光, 영어: Immersion Lithography)은 렌즈와 웨이퍼 표면 사이의 공간을 굴절률이 큰 액체의 매질로 대체하여 포토리쏘그래피의 분해능을 증가시키는 기술이다. 액체의 굴절률이 늘어남에 따라 각도 분해능도 늘어나게 된다. 최근의 액침 노광 장치들은 이 액체로 순도 높은 물을 사용하여 37 나노미터 이하의 폭에 도달했다. , Nikon, Canon만이 액침 노광을 사용하는 공장이다. (ko) Immersielithografie is een techniek om de details, die ten behoeve van de chipsfabricage op een wafer worden geëtst, te verkleinen. (nl) Иммерсионная литография (англ. Immersion lithography) — в фотолитографии для микроэлектроники — способ повышения разрешающей способности за счёт заполнения воздушного промежутка между последней линзой и плёнкой фоторезиста жидкостью с показателем преломления более 1 (метод иммерсии). Угловое разрешение увеличивается пропорционально показателю преломления. Современные литографические установки используют в качестве жидкости высокоочищенную воду, позволяя работать с техпроцессом менее 45 нм. Системы с использованием иммерсионной литографии выпускаютсялишь ASML, Nikon и Canon. Улучшением данной технологии можно считать методику HydroLith, в которой измерения и позиционирование производится на сухой пластине, а экспонирование — на «мокрой». (ru) Імерсія (лат. immersio, від immergo — занурюю, рос. иммерсия, англ. immersion, нім. Immersionsflüssigkeit f) — введення рідини (кедрової олії, вазеліну, водного розчину гліцерину) між розглядуваним предметом і об'єктивом мікроскопа, щоб підвищити освітленість зображення. Імерсія використовується також у фотолітографії, де введення рідини з показником заломлення, більшим від одиниці, між об'єктивом і поверхнею, дозволяє збільшити роздільну здатність. Принцип імерсії розробив у XIX столітті італійський астроном, ботанік і оптик Джованні Амічі. (uk) Die Immersionslithografie ist eine Technik im Produktionsprozess der Mikroelektronik zur schärferen Abbildung bei der fotolithografischen Strukturierung. Die Technik nutzt dabei dasselbe Prinzip wie die Immersionsmikroskopie, sie dient aber nicht der Betrachtung eines Objekts, sondern der verkleinerten Projektion einer auf einer Fotomaske vorhandenen Struktur in eine Fotolackschicht, vgl. Fotolithografie (Halbleitertechnik). Es handelt sich dabei um eine Verbesserung der Projektionsbelichtung, bei der die Luft im Spalt zwischen der letzten Linse und der Wafer-Oberfläche durch eine Immersionsflüssigkeit (transparente Flüssigkeit mit möglichst hohem Brechungsindex) ersetzt wird. Dies erlaubt im Vergleich zu bauähnlichen Anlagen ohne Immersionsmedium die Herstellung von kleineren Strukturen, (de) |
| rdfs:label | Immersionslithografie (de) Immersion lithography (en) 액침 노광 (ko) Immersielithografie (nl) Иммерсионная литография (ru) Імерсія (оптика) (uk) |
| owl:sameAs | freebase:Immersion lithography yago-res:Immersion lithography wikidata:Immersion lithography dbpedia-de:Immersion lithography dbpedia-ko:Immersion lithography dbpedia-nl:Immersion lithography dbpedia-ru:Immersion lithography dbpedia-uk:Immersion lithography https://global.dbpedia.org/id/9WKh |
| prov:wasDerivedFrom | wikipedia-en:Immersion_lithography?oldid=1120892656&ns=0 |
| foaf:depiction | wiki-commons:Special:FilePath/Immersion_lithography_illustration.svg wiki-commons:Special:FilePath/Immersion_tool_throughput.png wiki-commons:Special:FilePath/LELELE_patterning.png wiki-commons:Special:FilePath/Pitch_splitting.png |
| foaf:isPrimaryTopicOf | wikipedia-en:Immersion_lithography |
| is dbo:wikiPageDisambiguates of | dbr:Immersion |
| is dbo:wikiPageRedirects of | dbr:Liquid_imaging dbr:Immersion_lens |
| is dbo:wikiPageWikiLink of | dbr:Index_of_physics_articles_(I) dbr:Interference_lithography dbr:14_nm_process dbr:Nanophotonics dbr:Ghavam_Shahidi dbr:GlobalFoundries dbr:Computational_lithography dbr:Multiple_patterning dbr:Overlay_control dbr:Phenom_II dbr:Stepper dbr:DuPont_Central_Research dbr:ASML_Holding dbr:Altera dbr:22_nm_process dbr:32_nm_process dbr:3_nm_process dbr:45_nm_process dbr:High-refractive-index_polymer dbr:Photolithography dbr:Burn-Jeng_Lin dbr:Hydrolith dbr:Next-generation_lithography dbr:Immersion dbr:Photomask dbr:Solid_immersion_lens dbr:Extreme_ultraviolet_lithography dbr:Lutetium dbr:Oil_immersion dbr:Nanoimprint_lithography dbr:Nanolithography dbr:Multigate_device dbr:Ultra-high-purity_steam_for_oxidation_and_annealing dbr:Ultrapure_water dbr:Spacer_patterning dbr:Liquid_imaging dbr:Immersion_lens |
| is foaf:primaryTopic of | wikipedia-en:Immersion_lithography |
