その他の半導体製造装置 - Weblio 英和・和英辞典 (original) (raw)
例文
半導体 製造 装置のような対象装置の状態や工程を監視するために検出されたデータその他の情報を、ディジタル信号のような記号の形からそれらの情報が意味するところを認識しやすい表現形式に変換して、管理側へ供給する情報変換装置を提供する。例文帳に追加
To provide an information conversion device for supplying, to a management side, data detected for monitoring the state or process of an object device such as a semiconductor manufacturing device and other information while converting it from a form of symbol such as a digital signal to an expression form facilitating the recognition of the meaning of the information. - 特許庁
一つのマスクパターンを用いて、多層膜を一括してパターニングする工程を含む、薄膜トランジスタその他の半導体 装置の製造方法において、段切れの形成、及びこれに起因する不良の発生を充分に防止することができるものを提供する。例文帳に追加
To prevent the formation of a step cut and to sufficiently prevent the generation of a defect caused by the step cut in the case of a thin-film transistor or other semiconductor devices in which multilayer films are patterned collectively by using one mask pattern. - 特許庁
ＩＣ等の半導体素子、液晶表示装置、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにはその他のフォトファブリケーションのリソグラフィ工程に用いられる、膜減りしにくく、パターン倒れしにくいネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法の提供。例文帳に追加
To provide a negative type resist composition which is used to manufacture a circuit board of a semiconoductor element such as an IC, a liquid crystal display device, a thermal head, etc., and further for lithography processes of other photofabrication, and is not apt to have film reduction and pattern collapse, and a pattern forming method. - 特許庁
イリジウム酸化膜の表面上に他の膜を形成した場合に、その他の膜とイリジウム酸化膜との界面における密着性の高い、イリジウム酸化膜、及びその製造方法、また、金属膜とイリジウム酸化膜との界面における密着性の高い電極、誘電体キャパシタ、及び半導体 装置、並びにこれらの製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide an iridium oxide film, when the other film is formed on its surface, having high adhesion in the boundary with the other film, to provide its production method, further, to provide an electrode having high adhesion in the boundary between a metal film and an iridium oxide film, to provide a dielectric capacitor, to provide a semiconductor device, and to provide their production methods. - 特許庁
構造が煩雑で製造が難しく、また保守や使用環境の整備・制御等も煩雑で、極めて高価でコスト高となる傾向にある投射光学系やその他の特殊な光学系を用いることなく、レジスト破片等の異物がフォトマスク上に転移することに起因した転写欠陥の発生を抑制ないしは解消することを可能とした、半導体 装置用テープキャリアの製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method of manufacturing such a tape carrier for a semiconductor device that can suppress or eliminate the occurrence of transfer defects caused by the transition to a photo mask, of contaminations such as resist fragment or the like without using a projection optical system that is complicated in structure and difficult to manufacture, is complicated in maintenance or maintenance and controlling of use environment, and is extremely expensive and has a tendency of increased cost. - 特許庁
ジビニルベンゼン等の架橋性単量体と、スチレン等のその他の単量体とを共重合させて得られる重合体粒子、及びこれらの特定の単量体を共重合させて得られ、特定の平均粒径を有する重合体粒子のうちの少なくとも１種の重合体粒子を含有し、半導体 装置の製造に用いる化学機械研磨用水系分散体を得る。例文帳に追加
An aqueous dispersoid for chemical-mechanical polishing in manufacturing a semiconductor device is obtained which contains at least one kind of polymer grains selected among polymer grains obtained by copolymerizing a cross linking monomer such as divinylbenzene with other monomers such as styrene and polymer grains of a specified mean grain size obtained by copolymerizing these specific monomers. - 特許庁
半導体・液晶等の分野の製造 装置に使用される低アウトガス対策が施されているＯリング等のエラストマ製品を輸送段階で外部環境より受ける影響を排除し、安価にアウトガスの原因となる空気中の水分若しくはその他の様々なガス成分が付着することを防止することができるエラストマ製品の包装方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method of packaging an elastomer product capable of excluding an influence received from an external environment at a transportation stage of the elastomer product such as an O-ring which is used in a manufacturing apparatus in a field of semiconductor, liquid crystal or the like and has a low out gas countermeasure, and preventing at a low-cost water content or other various gas components causing out gas from sticking. - 特許庁
例文
銅配線プロセス等の半導体 装置 製造方法工程において、エッチング後またはアッシング後のレジスト残さ物およびその他のエッチング残さ物を除去する際に、レジスト残さ物等の除去性、銅および絶縁体膜の耐腐食性が高いレジスト除去用洗浄液を提供する。例文帳に追加
To provide cleaning liquid for removing resist enhanced in a removing function of resist residual dross and resistance against corrosion of a copper film and an insulator film, when the resist residual dross after etching or ashing, and other etching residual dross are removed in a semiconductor manufacturing process including a copper wiring process, and a manufacturing method for a semiconductor device using the cleaning liquid. - 特許庁