その他の半導体製造装置 - Weblio 英和・和英辞典 (original) (raw)
例文
半導体 製造 装置のような対象装置の状態や工程を監視するために検出されたデータその他の情報を、ディジタル信号のような記号の形からそれらの情報が意味するところを認識しやすい表現形式に変換して、管理側へ供給する情報変換装置を提供する。例文帳に追加
To provide an information conversion device for supplying, to a management side, data detected for monitoring the state or process of an object device such as a semiconductor manufacturing device and other information while converting it from a form of symbol such as a digital signal to an expression form facilitating the recognition of the meaning of the information. - 特許庁
ＩＣ等の半導体素子、液晶表示装置、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにはその他のフォトファブリケーションのリソグラフィ工程に用いられる、膜減りしにくく、パターン倒れしにくいネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法の提供。例文帳に追加
To provide a negative type resist composition which is used to manufacture a circuit board of a semiconoductor element such as an IC, a liquid crystal display device, a thermal head, etc., and further for lithography processes of other photofabrication, and is not apt to have film reduction and pattern collapse, and a pattern forming method. - 特許庁
一つのマスクパターンを用いて、多層膜を一括してパターニングする工程を含む、薄膜トランジスタその他の半導体 装置の製造方法において、段切れの形成、及びこれに起因する不良の発生を充分に防止することができるものを提供する。例文帳に追加
To prevent the formation of a step cut and to sufficiently prevent the generation of a defect caused by the step cut in the case of a thin-film transistor or other semiconductor devices in which multilayer films are patterned collectively by using one mask pattern. - 特許庁
イリジウム酸化膜の表面上に他の膜を形成した場合に、その他の膜とイリジウム酸化膜との界面における密着性の高い、イリジウム酸化膜、及びその製造方法、また、金属膜とイリジウム酸化膜との界面における密着性の高い電極、誘電体キャパシタ、及び半導体 装置、並びにこれらの製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide an iridium oxide film, when the other film is formed on its surface, having high adhesion in the boundary with the other film, to provide its production method, further, to provide an electrode having high adhesion in the boundary between a metal film and an iridium oxide film, to provide a dielectric capacitor, to provide a semiconductor device, and to provide their production methods. - 特許庁
銅配線プロセス等の半導体 装置 製造方法工程において、エッチング後またはアッシング後のレジスト残さ物およびその他のエッチング残さ物を除去する際に、レジスト残さ物等の除去性、銅および絶縁体膜の耐腐食性が高いレジスト除去用洗浄液を提供する。例文帳に追加
To provide cleaning liquid for removing resist enhanced in a removing function of resist residual dross and resistance against corrosion of a copper film and an insulator film, when the resist residual dross after etching or ashing, and other etching residual dross are removed in a semiconductor manufacturing process including a copper wiring process, and a manufacturing method for a semiconductor device using the cleaning liquid. - 特許庁
その内部に導体２，３，５が形成されたセラミック基板１であって、導体およびその近傍を含むセラミック層、および、導体より下のセラミック層は、破壊時に粒界破壊の性状を呈し、その他のセラミック層は、破壊時に粒子内破壊の性状を呈することを特徴とする半導体 製造・検査装置用セラミック基板。例文帳に追加
The ceramic substrate for the semiconductor fabrication/ inspection equipment comprises a ceramic substrate 1 having conductors 2, 3 and 5 formed therein, and a ceramic layer including the conductors and neighbors thereof, and a ceramic layer lower than the conductor that shows the property of an intragrain fracture when they are fractured, and other ceramic layers those show property of inter grain fracture when they are fractured. - 特許庁
緻密で超高強度特性、高靭性、耐衝撃性を有する超高強度コンクリート系の硬化体を用いることにより、大型の一体物として極めて精度の良い信頼性の高く、計測器や半導体 製造 装置などに装着される定盤、その他各種の実験台や除震台として好適に使用できる定盤を提供する。例文帳に追加
To provide a surface plate, precise and reliable as a large-scale unit to be mounted on measuring instrument or a semiconductor manufacturing device and suited to other various laboratory tables or earthquake proofing tables by using a ultrahigh-strength concrete based hardened body having fineness, ultrahigh strength, high toughness and shock resistance. - 特許庁
例文
ジビニルベンゼン等の架橋性単量体と、スチレン等のその他の単量体とを共重合させて得られる重合体粒子、及びこれらの特定の単量体を共重合させて得られ、特定の平均粒径を有する重合体粒子のうちの少なくとも１種の重合体粒子を含有し、半導体 装置の製造に用いる化学機械研磨用水系分散体を得る。例文帳に追加
An aqueous dispersoid for chemical-mechanical polishing in manufacturing a semiconductor device is obtained which contains at least one kind of polymer grains selected among polymer grains obtained by copolymerizing a cross linking monomer such as divinylbenzene with other monomers such as styrene and polymer grains of a specified mean grain size obtained by copolymerizing these specific monomers. - 特許庁