weblio英語例文検索 (original) (raw)

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Ligaの意味・解説 > Ligaに関連した英語例文

「カテゴリ」「情報源」を複数指定しての検索が可能になりました。(プレミアム会員限定)

カテゴリ ビジネス (0)法律 (0)金融 (0)コンピュータ・IT (0)日常 (0)ことわざ・名言 (0)
情報源 個の情報源を選択中×情報源を選択すべての情報源 官公庁発表資料特許庁 (14)閉じる

条件をリセット

セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

| 意味 | 例文 | | | ----------------------------------------------------------------- | -- | |

Ligaを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 14

例文

In this application, the contacts are formed by using a so-called LIGA process.例文帳に追加

本発明では、いわゆるLIGAプロセスを利用して前記接触子を形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a single-layered or multilayered metal structure using a LIGA technique.例文帳に追加

LIGA技術において単層又は複数層の金属構造を製造する方法を提供すること。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF SINGLE-LAYERED OR MULTILAYERED METAL STRUCTURE IN LIGA TECHNIQUE AND STRUCTURE OBTAINED THEREBY例文帳に追加

LIGA技術における単層又は複数層の金属構造の製造方法及びそれにより得られる構造 - 特許庁

To provide a method for manufacturing metal photograph by LIGA techniques so as to solve various problems in conventional techniques.例文帳に追加

従来の技術による諸問題を解決するため、LIGA技術による金属写真の製作方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a laser plasma X-ray source device capable of generating an X-ray having a wave length necessary for an LIGA process.例文帳に追加

LIGAプロセスに必要な波長のX線を発生させることができるレーザープラズマX線源装置を提供する。 - 特許庁

例文

A metal mold 32 is formed using the method such as a Ni-electroforming on a matrix 30 formed in a lithography process such as a LIGA process or Si process.例文帳に追加

LIGAプロセス、Siプロセスなどのリソグラフィー工程で作成した母型30上に、Ni電鋳などの手法を用いて金型32を形成する。 - 特許庁

To provide a mask which enables molding of three-dimensional shape in microfabrication by an LIGA process and ultraviolet ray lithography, using a simple and convienient method.例文帳に追加

LIGAプロセス及び紫外線リソグラフィーによる微細加工において三次元形状の成形を可能にするマスクを簡便な工法で提供する。 - 特許庁

In the application, by using a substrate 30 with a plurality recessed line parts 31 formed on a surface, and by using the LIGA process, the contacts are plated and formed on the substrate.例文帳に追加

本発明では、複数の凹型条部31が表面に形成された基板30を用い、前記基板上にLIGAプロセスを利用して、接触子をメッキ成形している。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern so as to obtain a vertical profile of a resist wall during developing when a thick resist layer is formed by using a photosensitive film in a LIGA (Lithographie, Galvanoformung, Abformung)-like process.例文帳に追加

LIGAライクプロセスで感光性フィルムを用いて厚膜レジスト層を形成するとき、現像時のレジスト壁の垂直性を得ることができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

例文

Other X-ray reflection devices are obtained, by forming a metal substrate on which a plurality of curved slits are formed with an X-ray LIGA process, and by forming grinding each side wall of the plurality of slits by using a magnetic fluid to form the X-ray reflection plane.例文帳に追加

他のX線反射装置は、X線LIGAプロセスで複数の曲線状のスリットが形成された金属基板を形成し、磁性流体を使って前記複数のスリットの各側壁を研磨してX線反射面を形成して得られる。 - 特許庁

例文

A mold 13 is manufactured in an LIGA process conducting irradiation 7 such as X-ray beam irradiation using asymmetrical reflection with a crystal or X-ray interference fringe beam irradiation with a crystal.例文帳に追加

PMMA等のレジスト材料3に対して高精細X線マスク、結晶による非対称反射を用いたX線ビームの照射、結晶によるX線干渉縞ビームの照射等の照射7を行うLIGAプロセスによりモールド13を作製する。 - 特許庁

By using the LIGA process, form patterns 32a of the contacts are accurately formed on a resist layer 32 even if the thickness of the resist layer 32 is large or uneven, whereby each contact is formed into a predetermined shape.例文帳に追加

しかもLIGAプロセスを利用することで、レジスト層32の膜厚が厚くても、あるいは均一な膜厚で無くても、前記レジスト層32に前記接触子の形状パターン32aを高精度に形成することができ、よって前記接触子を所定形状に形成することが可能である。 - 特許庁

The method for manufacturing a metal photograph includes steps of preparing a substrate, applying a photoresist film thereon, exposing and developing the film by using a patterned film as a mask to pattern the photoresist film to form a photoresist pattern having a pattern corresponding to the film, forming a seed film on the substrate and the photoresist pattern, and producing a metal film on the seed film by LIGA techniques.例文帳に追加

金属写真の製作方法は、基板を提供して、それにフォトレジスト膜を塗布し、パターンを有するフィルムをマスクとして露光現像工程を行って、フォトレジスト膜をパターン化して、フィルムに対応するパターンのあるフォトレジストパターンを形成し、基板とフォトレジストパターンにシード膜を形成し、LIGA技術でシード膜に金属膜を形成するステップを含む。 - 特許庁

例文

To provide a method and a device for smoothly finishing the surface of a micro structural body at an optical level by improving a micro roughness on the surface of the micro structural body by defects of mask edge shape and a reaction in a resist when the micro structural body is finished by X-ray lithography or photo lithography including a lithography step in a LIGA process.例文帳に追加

LIGAプロセスにおけるリソグラフィ工程を含むX線リソグラフィやフォトリソグラフィ等により微小構造体を加工した際において、マスクエッジ形状の欠陥や、レジスト内に生じる反応等によって発生する微小構造体の表面の微小な荒れを改善し、当該微小構造体の表面を光学レベルで平滑にすることができる表面加工方法及び表面加工装置等を提供する。 - 特許庁

| 意味 | 例文 | | | ----------------------------------------------------------------- | -- | |

索引トップ用語の索引


英語翻訳


| | | | | --------------------------------------------------------------------------------------------------------------------- | ----------------------------------------------------- | | 特許庁 | Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |

こんにちは ゲスト さん

ログイン Weblio会員(無料)になると 会員登録のメリット検索履歴を保存できる! 会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加! 無料会員に登録する
テキスト翻訳 Weblio翻訳

| 英→日 日→英 | | | ------- | |

こんにちは ゲスト さん

ログイン Weblio会員(無料)になると 会員登録のメリット検索履歴を保存できる! 会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加! 無料会員に登録する