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UV-raysの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1017件
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例文
To provide a film for an image display device, the film having excellent light resistance and showing no significant decrease in a near-IR ray blocking function and color compensation performance even when the film is exposed to external light containing UV rays for a long time.例文帳に追加
紫外線を含んだ外光に長時間露出しても近赤外線遮断性能および色補正性能の著しい低下がない、耐光性に優れた画像表示装置用フィルムの提供。 - 特許庁
Upon curing a sealing material 31 by irradiating the sealing material 31 with UV rays through a first light transmitting substrate 10, even when the sealing material 31 partly intrudes as a sealing material 31' deep between the substrates, the sealing material 31' can be irradiated with UV rays without blocked by the light reflecting electrode 41 and the sealing material 31' can be reliably cured.例文帳に追加
従って、第１の透光性基板１０の側から封止材３１に紫外光を照射して封止材３１を硬化させる際、封止材３１の一部が封止材３１'として基板間の奥まで入り込んいても、このような封止材３１'にも、紫外光は、光反射性電極４１で遮られることなく十分に届くため、封止材３１'を確実に硬化させることができる。 - 特許庁
The method includes a process of forming a resin layer (2) containing copolymers on a substrate (1), a process of irradiating a specified region of the resin layer with IR rays, visible rays, UV rays or ionization radiation (3), and a process of subjecting the resin layer after irradiation to thermal annealing treatment to develop a micro phase separation structure in the part (6) not irradiated in the resin layer.例文帳に追加
基板（１）上に、共重合ポリマーを含む樹脂層（２）を形成する工程と、前記樹脂層の所定の領域に赤外線、可視光線、紫外線または電離放射線（３）を照射する工程と、前記照射後の樹脂層に熱アニール処理を施して、前記樹脂層の未照射部（６）にミクロ相分離構造を発現させる工程とを具備することを特徴とする。 - 特許庁
The vacuum cleaner 1 includes a rotation brush 7 provided in the suction tool 6 to easily suck dust on a floor surface by raking up the dust on the floor surface, and a UV lamp 8 inside the rotation brush 7, so that the suction tool 6 and the rotation brush 7 are disinfected by irradiation with UV rays.例文帳に追加
吸込具６の中に具備し床面の塵埃を掻きあげることにより床面の塵埃を吸引しやすくするための回転ブラシ７と、その回転ブラシ７の内部に紫外線ランプ８を備えて、照射させることにより、吸込具６と回転ブラシ７の殺菌を行うことができるようにした電気掃除機１を提供する。 - 特許庁
例文
The forgery protection slip 1 is constituted by providing the color emitting image printed by using at least one of three colorless fluorescent inks 4, 5 and 6 respectively emitting yellow, magenta and cyan lights by irradiation of UV rays and a colorless UV-absorbing ink 7 on the surface of a slip base material 2.例文帳に追加
帳票基材２の表面に、紫外線照射によりイエロー，マゼンタ，シアンに夫々発光する三種の無色蛍光インキ４，５，６の少なくとも一種と、無色の紫外線吸収型インキ７とを用いて印刷したカラー発光画像３を設けることにより偽造防止帳票１を構成した。 - 特許庁
例文
When provisionally fixing the semiconductor elements 4, ultraviolet rays UV are irradiated around a blended hardened adhesive 13 coated at least on one face 1a of the circuit board 1 to form a UV hardened section 13a only around the adhesive 13, which increases the provisional fixing strength of the semiconductor elements 4 with respect to the circuit board 1.例文帳に追加
また、回路基板１の少なくとも一面１ａに塗布した混合硬化性接着剤１３の周囲に、半導体素子４の仮固定時に紫外線ＵＶを照射して、接着剤１３の周囲にのみ紫外線硬化部１３ａを形成して、半導体素子４の回路基板１への仮固定強度を増強する。 - 特許庁
This jewel case 1 includes a case body 2, an upper cap 4 which is connected to the case body 2 and opens at a specified angle with the case body 2 and a UV lamp 5 which is arranged on the inner side of the upper cap 4 and irradiates the inner flanks of the case body 2 with UV rays 15 according to the opening and closing of the upper cap 4.例文帳に追加
ケース本体２と、このケース本体２に連結され、該ケース本体１に対して一定角度開く上蓋４と、この上蓋４の内側に配置され、上蓋４の開閉に応じてケース本体１の内側面に対して紫外線１５を照射する紫外線ランプ５とを具備することを特徴とする宝石箱１。 - 特許庁
To provide a positive photoresist composition for improving the performance of essential micro-photofabrication using far UV light, in particular, ArF excimer laser light, and also to provide a positive photoresist composition for exposure to far UV rays which suppresses pattern collapse or LER (line edge roughness).例文帳に追加
遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上のための技術における課題を解決するポジ型フォトレジスト組成物を提供することにあり、パターン倒れ性、ＬＥＲ（ラインエッジラフネス）が抑制できる遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a resin having a polyimide structure exhibiting excellent ultraviolet screening effect on both of UV-A and UV-B ultraviolet rays and having excellent optical properties free from unnatural absorption and scattering in the visible light region, a powder and a cosmetic containing a powder having a polyimide structure.例文帳に追加
ＵＶ−ＡおよびＵＶ−Ｂの両紫外線に対し優れた紫外線防御効果を有し、しかも可視光領域での不自然な吸収、散乱のない優れた光学特性を有するポリイミド構造を有する樹脂、粉体、並びにポリイミド構造を有する粉体を含有する化粧料を提供する。 - 特許庁
例文
After applying UV-curing adhesive 3 all over the surface of a base film 1, surface of the adhesive 3 is irradiated with UV-rays through an exposure mask 4 formed in accordance with the profile of a circuit pattern, thus curing the adhesive 3 in the region other than the circuit pattern region.例文帳に追加
基材フィルム１表面上に紫外線硬化性の接着剤３をべた塗りした後、回路パターンの形状に合わせて形成された開口部を有する露光用マスク４を介して接着剤３表面に紫外線を照射することにより、回路パターン領域以外の領域の接着剤３を硬化させる。 - 特許庁
例文
To provide a radiation sensitive composition excellent in storage stability as well as in resolution and environmental resistance as a chemical amplification type resist sensitive to active radiations, e.g. UV rays such as g- or i-line, KrF, ArF or F_2 excimer laser light, far UV typified by EUV (extreme-ultraviolet radiation) or an electron beam.例文帳に追加
活性放射線、例えば、ｇ線、ｉ線等の紫外線、ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザーもしくはＦ_２ エキシマレーザー、ＥＵＶに代表される遠紫外線、もしくは電子線などに感応する化学増幅型レジストとして、解像度、環境耐性に加え、保存安定性に優れる感放射性組成物を提供すること。 - 特許庁
Therefore, when the injection port is sealed with the UV curing resin 5 after the injection of the liquid crystal, local deterioration in the TFT characteristics due to the UV rays propagating into the effective pixel part can be prevented and the obtained liquid crystal panel is excellent in the quality causing no display irregularity in the effective pixel part.例文帳に追加
これにより、液晶注入後に注入口をＵＶ硬化樹脂５により封止する際に、照射したＵＶ光が有効画素部まで回り込み局所的にＴＦＴ特性を劣化させることを防止し、有効画素部に表示むらの発生のない品質の優れた液晶パネルを供給することができる。 - 特許庁
A deposition such as an object to be removed and flocks collected on a surface of a drum-like membrane 9 is moved toward the upper part than a liquid surface of fluid to be treated, and then is washed away from a membrane surface with shower-like purified water 25, and thereafter an UV ray generation lamp irradiates UV rays on the membrane surface.例文帳に追加
ドラム状にされた膜９の表面に捕捉された被除去物やフロック等の堆積物を被処理流体の液面より上方に移動させ、この堆積物を膜表面から、シャワー状の浄化水２５を使用して洗浄し、その後、膜表面に紫外線を照射する紫外線発生ランプを配置する。 - 特許庁
The manufacturing method has a process for sticking on a UV tape 17 having an adhesive layer 17b a sheet-form substrate 11 provided with resistive substances (functional elements) 13, a process for hardening thereafter the adhesive layer 17b by irradiating the UV tape 17 by ultraviolet rays, and a process for cutting thereafter the sheet-form substrate 11 by a dicing working method.例文帳に追加
抵抗体（機能素子）１３を設けたシート状の基板１１を、粘着層１７ｂを有するＵＶテープ１７に貼った後、前記ＵＶテープ１７に紫外線光を照射して粘着層１７ｂを硬化させ、その後、前記シート状の基板１１をダイシング工法によって切断する工程を備えたものである。 - 特許庁
At an anchoring position of an optical fiber 20, nearly the same material as the jacket material of the optical fiber 20, e.g. a UV-setting resin 210 is molded and applied in a shape having a projection part 21a facilitating anchoring and the UV-setting resin 210 is set by being irradiated with ultraviolet rays to form a jacket material 21.例文帳に追加
光ファイバ２０の引き留め位置に光ファイバ２０の被覆材料と略同一の材料、例えばＵＶ硬化樹脂２１０を引き留めが容易になるように凸部２１ａを有する形状に成型被覆し、紫外線を照射してＵＶ硬化樹脂２１０を硬化させることで被覆材２１が形成される。 - 特許庁
In the nanoimprint method, a resin layer consisting of UV-curing resin is formed on a substrate, a mold having an irregularly patterned part is applied to the resin layer so that the irregularly patterned part comes into contact therewith, and then the resin layer is irradiated with UV-rays under an atmosphere containing a gas which impedes curing of the UV-curing resin thus curing the resin layer.例文帳に追加
本発明に係るナノインプリント方法は、基材上に紫外線硬化樹脂からなる樹脂層を形成し、前記樹脂層に対して、凹凸パターン部を有するモールドを、前記凹凸パターン部が前記樹脂層に接触するように押し当て、紫外線硬化樹脂の硬化を阻害する気体を含む雰囲気下で、前記樹脂層に紫外線を照射して前記樹脂層を硬化させることを特徴とする。 - 特許庁
The droplet discharge apparatus comprises a droplet discharge head having a plurality of nozzles for discharging droplets of ink to be cured by UV irradiation onto a substrate, a UV irradiation unit for irradiating UV-rays to the substrate onto which the ink is discharged, the wiping member 34 for wiping the surface of the nozzles of the droplet discharge head, and an ink removing mechanism 37 for removing the ink adhering to the wiping member 34.例文帳に追加
紫外線の照射により硬化するインクを液滴として基板に吐出する複数のノズルを有する液滴吐出ヘッドと、インクが吐出された基板に対して紫外線を照射する紫外線照射ユニットと、液滴吐出ヘッドのノズルが形成されたノズル面を払拭するワイプ部材３４と、ワイプ部材３４に付着したインクを除去するインク除去機構３７と、を備えた液滴吐出装置である。 - 特許庁
To provide an active energy ray-curable ink having curability by active energy rays, designed so that a specific UV is the curing wavelength, having excellent photopolymerization property and curing property by UV irradiation of UV-LED, excellent in storage stability and printing suitability as an offset ink and having good adhesion to paper having high smoothness, and to provide a production method of ink cured products comprising the ink, and printed matters.例文帳に追加
活性エネルギー線による硬化性を有し、特定の紫外線を硬化波長として設計され、ＵＶ−ＬＥＤの紫外線照射により優れた光重合性、硬化性を有し、かつオフセットインキとしての貯蔵安定性、印刷適性にも優れ、平滑度の高い用紙にも密着性の良好な活性エネルギー線硬化型インキ、該インキからなるインキ硬化物の製造方法および印刷物の提供。 - 特許庁
At the time of processing a semiconductor substrate 1 in an atmosphere containing dinitrogen oxide 3 while irradiating it with UV-rays 6 and 7, the intensity and irradiation time of the UV-ray 7 having a wavelength range principally generating oxidation seed radicals and the UV-ray 6 having a wavelength range generating oxidation seed radicals and nitriding seed radicals simultaneously are controlled arbitrarily to form an insulation film 2 having a desired nitrogen concentration profile.例文帳に追加
半導体基板１を紫外光６，７を照射しながら一酸化二窒素３を含む雰囲気で処理する際に、主として酸化種ラジカルが発生する波長範囲の紫外光７と、酸化種ラジカルと窒化種ラジカルが同時に発生する波長範囲の紫外光６の強度と照射時間を、それぞれ任意に制御することによって所望の窒素濃度プロファイルを有する絶縁膜２を形成する。 - 特許庁
In the method for producing a circuit board by pasting a reinforcing plate to one side of a flexible film through a UV-curing organic matter layer, forming a circuit pattern on the other side of the flexible film and then stripping the flexible film having the circuit pattern from the reinforcing plate, the UV-curing organic matter layer is irradiated with UV-rays prior to a step for forming the circuit pattern.例文帳に追加
可撓性フィルムの片面に補強板を紫外線硬化型有機物層を介して貼り合わせ、次いで、該可撓性フィルムの他の面に回路パターンを形成してから、回路パターン付き可撓性フィルムを補強板から剥離する回路基板の製造方法において、該回路パターンを形成する工程の前に該紫外線硬化型有機物層に紫外線を照射することを特徴とする回路基板の製造方法。 - 特許庁
A photosetting resin 22 as processing materials is applied on a substrate 20, the imprint mold 30 is overlapped on the upper surface of the photosetting resin applied on the substrate, a pressure is applied onto the imprint mold while performing heating, UV-rays are irradiated to harden the photosetting resin and the releasing is performed.例文帳に追加
基板２０の上に加工材料である光硬化性樹脂２２を塗布し、その上面にインプリント用モールド３０を重ね、加熱しながら圧力を加え、紫外線を照射して硬化させた後、離型する。 - 特許庁
To provide a sealing structure for improving the reliability by preventing the intrusion of oxygen or moisture and preventing the deterioration of a light emitting element without irradiating a picture element region of the light emitting element with heat or UV rays.例文帳に追加
酸素や水分の到達を防止し、発光素子の劣化を防ぎ、信頼性を向上する封止構造を、発光素子の画素領域に熱やＵＶ光を照射することなく提供することを目的とする。 - 特許庁
The surface of a dry film resist layer 55 is irradiated with the UV rays from mirrors 22 and 23, with the detected position of the reference mark 50 as a reference, by which the marks drawn on photomasks 24 and 25 are printed onto the dry film resist layer 55.例文帳に追加
該基準マーク５０の検出位置を基準として、ミラー２２、２３から紫外線をドライフィルムレジスト層５５上に照射し、フォトマスク２４、２５に描かれたマークをドライフィルムレジスト層５５上に焼き付ける。 - 特許庁
The BCTMP blended sheet gusset package 1 comprises the BCTMP blended sheets 12 in which the BCTMP is blended, and a UV-rays interruptive packaging film 11 for packaging the BCTMP blended sheets 12.例文帳に追加
ＢＣＴＭＰを配合してなるＢＣＴＭＰ配合シート１２、・・・と、ＢＣＴＭＰ配合シート１２、・・・を包装する紫外線遮断性の包装フィルム１１とを備えるＢＣＴＭＰ配合シートガゼット包装体１とする。 - 特許庁
Furthermore, the segment, from which the coating layer 3 is removed, is irradiated with UV rays 4 adjusted to 2 to 3.5 mJ/mm2 for energy density, to heat, sublimate and remove the resin particulates 6 remaining on the surface of the optical fiber 7.例文帳に追加
さらに、被覆層３を除去した部分にエネルギー密度を２〜３．５ｍＪ／ｍｍ^２とする紫外線４を照射して、光ファイバ７の表面に残存している樹脂粒子６を加熱、昇華して取り除く。 - 特許庁
After a negative photosensitive resin 7 is applied to a transparent substrate 8 having a light shielding part 20 formed thereon, the transparent substrate 8 is irradiated with UV rays from the opposite surface side to the surface coated with the negative photosensitive resin 7.例文帳に追加
遮光部２０が形成された透明基板８に対して、ネガ型感光性樹脂７を塗布した後、透明基板８におけるネガ型感光性樹脂７を塗布した面と反対の面側より紫外線を照射する。 - 特許庁
In relating to the resin composition containing the resin cured by UV rays, the composition imparts high hardness, excellent scratch resistance, abrasion resistance and anti-electrostaticity to a substrate as a surface curing film of the substrate.例文帳に追加
又、本発明は上記の紫外線により硬化される樹脂を含有する樹脂組成物に関し、基材の表面硬化フィルムとして、該基材に高い硬度、優れた耐ひっかき性、耐磨耗性と静電防止性を与える。 - 特許庁
This process increases the crystallinity of ITO and the transmittance for UV rays of the plastic substrate with ITO as a whole, which realizes efficient scattering in a PNLC (polymer network liquid crystal) or PDLC (polymer dispersion liquid crystal) .例文帳に追加
この工程を経ることによって、ＩＴＯの結晶性が高まり、ＩＴＯ付きのプラスチック基板全体の紫外線透過率が高まり、ＰＮＬＣやＰＤＬＣを効率よく光散乱させることが可能となる。 - 特許庁
The adhesion and fixation of the first base material 1a and the second base material 1b are effected by having the adhesive 2 coated between the first base material 1a and the second base material 1b irradiated with UV rays to cause the adhesive 2 to cute.例文帳に追加
第１基材１ａと第２基材１ｂとの接着固定は、第１基材１ａと第２基材１ｂとの間に塗布した接着剤２に対して紫外線ＵＶを照射し、接着剤２を硬化させる。 - 特許庁
To provide a method for storage by which optical characteristics of an optical member can be extremely stably kept with a little decrease in UV rays transmittance even when the optical member made of a synthetic silica glass is stored and maintained for a long time.例文帳に追加
合成石英ガラスからなる光学部材の長期間の保存・保管においても紫外線透過率の低下が少なく、極めて安定して光学部材の光学特性を維持できる保存方法を提供する - 特許庁
Negative ions, consisting of single atom ions containing oxide ions and/or oxygen negative ion radicals, are supplied into the processing chamber 5 and are made to react on the organic substances decomposed by UV-rays.例文帳に追加
そして、処理室５内に、酸素マイナスイオンラジカルまたは酸化物イオンと酸素マイナスイオンラジカルを含む単原子イオンから成るマイナスイオンを供給して、マイナスイオンを紫外線により分解された有機物と反応させる。 - 特許庁
To provide a display body, which is sufficiently thin even when the display body is pasted to an object or included into paper, and achieves a higher counterfeit preventing effect by emitting only diffracted light of UV rays.例文帳に追加
貼着したり紙などに漉き込んでも問題のない薄さであり、紫外光による回折光のみを射出させることで、より高い偽造防止効果を実現し得る表示体を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a laminate for forming a substrate with wiring having a low resistance, excellent patterning performance and high resistance properties to the ozone generated as a result of cleaning by irradiation with UV rays, the substrate with wiring and a method of forming the same.例文帳に追加
低抵抗でパターニング性能に優れ、かつ、紫外線照射による洗浄などで発生するオゾンに対して耐性の高い、配線付き基体形成用積層体、配線付き基体およびその形成方法の提供。 - 特許庁
The honeycomb 1 is irradiated with the sunlight through the rear window, and the titanium dioxide is activated by the UV rays contained in the sunlight, and a malodorous material around the honeycomb 1 is decomposed into or replaced by a harmless material.例文帳に追加
ハニカム１には、リアウィンドウを介して、太陽光が照射され、太陽光に含まれる紫外線によって二酸化チタンが活性化され、ハニカム１の周囲の悪臭物質を無害な物質へ分解又は置換する。 - 特許庁
The surface cleaning method having a first step of injecting photocatalyst steam to the surface of an object for cleaning and a second step of irradiating the surface of this object for cleaning with light including UV rays is provided.例文帳に追加
浄化対象物の表面に光触媒水蒸気を噴射する第１のステップと、前記浄化対象物の表面に紫外線を含む光を照射する第２のステップとを有する表面浄化方法とする。 - 特許庁
After removing organic substances adhering to the surface of a substrate by irradiating it directly with UV rays, the substrate is carried to an etching section 10C by means of a carrying robot 16a and subjected to etching.例文帳に追加
基板Ｗに対して紫外線を直接照射して基板表面に付着する有機物を除去した後で、当該基板Ｗを搬送ロボット１６ａによってエッチング処理部１０Ｃに搬送し、エッチング処理を施す。 - 特許庁
The apparatus can be simplified by performing scanning with UV rays made to be parallel light beams along the sealing material 6 to cure the sealing material 6 after the liquid crystal panel is filled with a liquid crystal by a dripping method and two substrates are stuck to each other.例文帳に追加
滴下工法で液晶を充填し、２枚の基板を貼り合わせた後、シール材６の硬化を、平行光にした紫外線をシール材６に沿って走査させて行うことにより、設備を簡易化することができる。 - 特許庁
When power is turned on and when a specified number of sheets are printed or when a specified time has elapsed, the hydrophilic region 28 is irradiated with UV-rays in order to recover the aging hydrophilicity of the Ti oxide through photocatalysis.例文帳に追加
電源投入時及び所定枚数印刷終了時又は所定時間経過後に親水性領域２８に紫外線照射して酸化Ｔｉの経時劣化する親水性を光触媒作用により復元する。 - 特許庁
A belt shape thin film body A for shielding light/UV rays is fully or partially sandwiched between the front and rear surface bamboo thread layers X, Y and between the adjacent threads.例文帳に追加
表てひご面層Ｘと裏ひご面層Ｙとの間であるとともに隣り合う編み糸と編み糸の間に、帯状とした遮光／又はＵＶカット用の薄膜体Ａを全面的又は部分的にサンドウィッチ状に介在させる。 - 特許庁
The ion-exchange capacity of the sheet is >0.05 meq g-1 and the surface is provided by the initiation of graft-polymerization reaction by UV rays in a state in which the fabric is impregnated with a vinyl monomer-containing solution.例文帳に追加
シートのイオン交換能力は０．０５ｍｅｑ・ｇ^-1以上であり、表面は、布帛がビニルモノマーの含浸溶液を含んだ状態にて、紫外線照射による前記グラフト重合反応の開始によってもたらされる。 - 特許庁
Further, in the printing equipment having the printing drum 23 to be detachably installed onto the printing equipment main body 1, the light source 69 for irradiating ultraviolet rays UV to the paper P is equipped on the printing drum 23.例文帳に追加
更に、印刷装置本体１に着脱自在に装着される印刷用ドラム２３を有する印刷装置において、印刷用ドラム２３が用紙Ｐに対して紫外線ＵＶを照射する光源６９を装備している。 - 特許庁
The optical film is obtained by forming a film from a composition containing at least one kind of photopolymerizable monomer or oligomer and a compound having a refractive index different from that thereof, and then irradiating the film with UV rays.例文帳に追加
少なくとも１種類以上の光重合可能なモノマー又はオリゴマーと屈折率が異なる化合物を含有する組成物を膜状に形成した後に紫外線を照射して得られる光学フィルム。 - 特許庁
The method of using the photocatalyst particles for soil treatment comprises the step of cleaning the soil to be treated by mixing the soil to be treated and the photocatalyst particles while irradiating the contaminated soil to be treated with UV rays.例文帳に追加
土壌処理用の光触媒粒子の使用方法は、汚染された被処理土壌に紫外線を照射しながら、該被処理土壌と光触媒粒子とを混合させて被処理土壌を浄化する工程を含む。 - 特許庁
The UV rays from a light source 11 of a long-sized shape are exposed to a photoresist film 31 disposed on the cylinder surface through a photomask 20 while the cylinder 30 surface and a photomask surface 21 are held in a proximity state.例文帳に追加
長尺形状の光源１１からの紫外線をシリンダ３０表面とフォトマスク表面２１とをプロキシミティ状態に保ったフォトマスク２０を介してシリンダ表面に設けられたフォトレジスト膜３１に露光すること。 - 特許庁
Creeping corona discharge takes place on the insulation plate 13 between both electrodes 11B and 12, when the voltage of the peaking capacitor 15 is increased and laser gas is pre-ionized with UV-rays generated through corona discharge.例文帳に追加
この構造により、ピーキングコンデンサ１５の電圧上昇で、両電極１１Ｂと１２との間の絶縁板１３で沿面コロナ放電を発生させ、このコロナ放電で発生する紫外線によってレーザガスを予備電離させる。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition having excellent sensitivity and resolution for far UV rays as typified by an ArF excimer laser, excellent in the pattern profile or the like, and suitable as a chemically amplifying resist.例文帳に追加
特にＡｒＦエキシマレーザーに代表される遠紫外線に対する感度、解像度が優れ、パターン形状等にも優れる新規な化学増幅型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a positive resist composition which can be suitably used for microphotofabrication using far UV rays, in particular ArF excimer laser light and which eliminates problems of line edge roughness and pattern collapse.例文帳に追加
遠紫外光、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用したミクロフォトファブリケーションに於いて好適に使用することができる、ラインエッジラフネス、パターン倒れの問題が解消されたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
In the production method for the filler for the ion-exchange liquid chromatography, hydrophilic treatment is applied by irradiating the surface of a filler particle having an ion exchange group with UV rays having a wavelength of 160-280 nm.例文帳に追加
イオン交換基を有する充填剤粒子表面に波長１６０〜２８０ｎｍの紫外線を照射することにより親水化処理を施すイオン交換液体クロマトグラフィー用充填剤の製造方法。 - 特許庁
To provide an optical device with low reflectance for UV rays in the range from approximately 180 nm to approximately 370 nm wavelength, especially about 248 nm wavelength and for a large incident angle up to at least about 40° angle.例文帳に追加
約１８０ｎｍと約３７０ｎｍの間、特に約２４８ｎｍの波長範囲の紫外線に対して、そして少なくとも約４０°までの大きい入射角度に対して、低反射率である光学的デバイスの提供。 - 特許庁
例文
The material for a liquid crystal alignment layer is used to form an alignment layer having a function to control the aligning direction of the liquid crystal molecules, and the material has a function to selectively decay UV rays in a specified wavelength region.例文帳に追加
液晶分子の配向方向を制御する機能を有する配向層を形成するための液晶配向層材料であって、特定の波長領域の紫外線を選択的に減衰させる機能を有する。 - 特許庁