Photomask (original) (raw)
Una màscara fotogràfica, fotomàscara (o simplement màscara, depenent del context) és una pel·lícula amb àrees transparents i zones opaques, que deixen que la llum passi o no passi en un procés d'insolació fotogràfica.
| Property | Value |
|---|---|
| dbo:abstract | Una màscara fotogràfica, fotomàscara (o simplement màscara, depenent del context) és una pel·lícula amb àrees transparents i zones opaques, que deixen que la llum passi o no passi en un procés d'insolació fotogràfica. (ca) Fotomasken (englisch reticle) sind Projektionsvorlagen, deren Hauptanwendung die fotolithografische Strukturierung bei der Herstellung von mikroelektronischen Schaltungen oder Mikrosystemen ist. Sie bestehen üblicherweise aus hochreinem Quarzglas oder Calciumfluorid (Lithografie mit Excimer-Laser der Wellenlänge 248 nm bzw. 193 nm) und sind beispielsweise auf einer Seite mit einer dünnen strukturierten Chromschicht versehen. (de) A photomask is an opaque plate with holes or transparencies that allow light to shine through in a defined pattern. They are commonly used in photolithography and the production of integrated circuits (ICs or "chips") in particular. Masks are used to produce a pattern on a substrate, normally a thin slice of silicon known as a wafer in the case of chip manufacturing. Several masks are used in turn, each one reproducing a layer of the completed design, and together they are known as a mask set. Previously, photomasks used to be produced manually by using rubylith and mylar. As complexity continued to grow, manual processing of any sort became difficult. This was solved with the introduction of the which automated the process of producing the initial large-scale pattern, and the step-and-repeat cameras that automated the copying of the pattern into a multiple-IC mask. The intermediate masks are known as reticles, and were initially copied to production masks using the same photographic process. The initial stages produced by the generators have since been replaced by electron beam lithography and laser-driven systems. In these systems there may be no reticle, the masks can be generated directly from the original computerized design. Mask materials have also changed over time. Initially, the rubylith was directly used as the mask. As feature size shrank the only way to properly focus the image was to place it in direct contact with the wafer. These contact aligners often lifted some of the photoresist off the wafer and the mask had to be discarded. This helped drive the adoption of reticles, which were used to produce thousands of masks. As the power of the lamps exposing the masks increased, film became subject to distortion due to heat, and was replaced by silver halide on soda glass. This same process led to the use of borosilicate and then quartz to control expansion, and from silver halide to chromium which has better opacity to the ultraviolet light used in the lithography process. (en) Un masque photographique (ou simplement masque, selon le contexte) est un gabarit avec des zones transparentes ou évidées et des zones opaques, laissant passer la lumière selon un motif précis. Les masques photographiques sont communément utilisés en photolithographie. (fr) フォトマスク（英語：photomask）とは、ガラス乾板とも呼ばれ、電子部品の製造工程で使用されるパターン原版をガラス、石英等に形成した透明な板であり、「フォトリソグラフィ」と呼ばれる転写技術によって電子部品の回路パターン等を被転写対象に転写する際の原版となるものである。 半導体素子、フラットパネルディスプレイ、プリント基板といった電子部品の製造工程で、配線層や部品層といった異なる画像を写すために、数枚から数十枚のフォトマスクが使用される。露光工程で1枚ごとにフォトレジストと呼ばれる感光性材料にフォトマスクの画像が転写される。露光により現像液への溶解性が変化するフォトレジストの特性に基づき、光の当たった部分が除去される、あるいは残存することにより、次のエッチング工程と呼ばれる被加工対象への溶解、除去処理に対するマスクとなる。エッチング工程での被加工対象の不要部分の除去が終了後、フォトレジストを薬液によって剥離することで工程が終了し、次の層の加工のためにまたフォトレジストが塗布され、同様の処理が繰り返される。 高密度半導体の製造に使われる高精細のフォトマスクのものではレチクルと呼ばれるものがある。 (ja) Fotomaska – płyta służąca do naświetlania wzorów w procesie fotolitografii zgodnie ze znajdującymi się na niej obszarami nieprzezroczystymi i przezroczystymi (tzw. oknami). * Fotomaska chromowa. * Detale wzoru na masce chromowej. Czarne pola to obszary pokryte chromem i blokujące światło, reszta to okna bez chromu przepuszczające światło. Fotomaski są wykorzystywane w fotolitografii do naświetlania określonych wzorów w fotorezyście. Kiedyś dość powszechne były fotomaski emulsyjne, które zastąpione zostały przede wszystkim fotomaskami chromowymi, czyli płytami szklanymi lub kwarcowymi pokrytymi chromem. Tego typu maski wykonuje się zwykle z podłoży w całości pokrytych chromem, który jest potem usuwany z wybranych obszarów przez wzór z rezystu. Krytycznym etapem jest wykonanie wzoru z rezystu, przy czym stosuje się głównie rezysty światłoczułe (fotorezysty) lub elektronoczułe. Zależnie od rodzaju rezystu, naświetlanie wykonuje się za pomocą: * Litografii laserowej - urządzenie charakteryzuje się niższą ceną, ale oferuje większy wymiar krytyczny, co oznacza niższą rozdzielczość. * Urządzenie do litografii laserowej (Heidelberg Instruments, DWL 66FS) * Głowica rysująca i stolik wewnątrz komory urządzenia do litografii laserowej. * Elektronolitografii - urządzenie droższe w zakupie, ale można uzyskać mniejszy wymiar krytyczny (wyższą rozdzielczość). Po naświetleniu wzoru w rezyście wywołuje się go odpowiednim wywoływaczem. W ten sposób otwiera się okna w rezyście, przez które następnie usuwa się chrom. Najpopularniejszą metodą jest mokre trawienie w kwaśnych rozworach. Ostatecznie (po usunięciu już zbędnego rezystu) uzyskuje się płytę z wzorem, którego nieprzezroczyste obszary pokryte są chromem. (pl) Fotomáscara é a imagem fotográfica negativa de um molde de circuitos integrados. (pt) Фотошабло́н — стеклянная или иная пластина либо полимерная плёнка со сформированным на её поверхности рисунком элементов схем из материала, не пропускающего актиничное излучение. Фотошаблон является одним из основных инструментов при создании заданного рельефного защитного покрытия при проведении фотолитографии в планарной технологии. В зависимости от материала пленочного покрытия различают фотошаблоны на основе: * фотографической эмульсии (эмульсионные фотошаблоны) * металлической плёнки (металлические фотошаблоны) * окиси железа (цветные фотошаблоны) (ru) 光罩（英語：Reticle, Mask）：在製作集成电路的過程中，利用光蝕刻技術，在半導體上形成圖型，為將圖型複製於晶圓上，必須透過光罩作用的原理。比如沖洗照片時，利用底片將影像複製至相片上。 (zh) Фотошаблон - скляна або інша пластина або полімерна плівка зі сформованим на її поверхні малюнком елементів схем з матеріалу, що не пропускає випромінювання. Фотошаблон є одним з основних інструментів при створенні заданого рельєфного захисного покриття при проведенні фотолітографії в планарної технології. Залежно від матеріалу плівкового покриття розрізняють фотошаблони на основі: * Фотографічної емульсії (емульсійні фотошаблони) * Металевої плівки (металеві фотошаблони) * Окису заліза (кольорові фотошаблони) (uk) |
| dbo:thumbnail | wiki-commons:Special:FilePath/Semiconductor_photomask.jpg?width=300 |
| dbo:wikiPageID | 642903 (xsd:integer) |
| dbo:wikiPageLength | 16238 (xsd:nonNegativeInteger) |
| dbo:wikiPageRevisionID | 1124637625 (xsd:integer) |
| dbo:wikiPageWikiLink | dbr:Quartz dbr:Samsung dbr:NEC_Corporation dbr:Aligner_(semiconductor) dbc:Lithography_(microfabrication) dbr:Hoya_Corporation dbr:Joint_venture dbr:Ultraviolet_light dbr:United_Microelectronics_Corporation dbr:Integrated_circuit dbr:Integrated_circuit_layout_design_protection dbr:SEMATECH dbr:SPIE dbr:Electrons dbr:Contact_lithography dbr:BoPET dbr:Stepping_level dbr:Multiple_patterning dbr:Phase-shift_mask dbr:Plotter dbr:Stepper dbr:Substrate_(printing) dbr:Toppan dbr:Wafer_(electronics) dbr:Lamination dbr:Nanochannel_glass_materials dbr:Dai_Nippon_Printing dbr:Chrome_plating dbr:Chromium dbr:Die_shrink dbr:Semiconductor_device_fabrication dbr:Photoresist dbr:Ions dbr:Iron(III)_oxide dbr:Mask_inspection dbr:Maskless_lithography dbr:Laser dbr:TSMC dbr:Imec dbr:Photolithography dbr:Photographic_film dbr:Photronics_Inc dbr:Globalfoundries dbr:IBM dbr:Intel dbr:Micron_Technology dbc:Semiconductor_fabrication_equipment dbr:Nanometer dbr:X-ray dbr:Mass_production dbr:Semiconductor dbr:Silicon dbr:Soda_glass dbr:Ultraviolet dbr:Node_(semiconductor_fabrication) dbr:Extreme_ultraviolet_lithography dbr:Immersion_lithography dbr:Silver_halide dbr:Rubylith dbr:Very_Large_Scale_Integration dbr:Mask_set dbr:Electron_beam dbr:Electron_beam_lithography dbr:Minimum_feature_size dbr:Borosilicate dbr:Drafting_table dbr:Photomask_set dbr:Fused_silica dbr:Smif_interface dbr:File:Mask_illustration.svg dbr:File:Pellicle_Mounting_Machine_MLI.jpg dbr:File:Semiconductor_photomask.jpg dbr:Optical_pattern_generator dbr:File:OpcedPhotomask.png |
| dbp:wikiPageUsesTemplate | dbt:Authority_control dbt:Cn dbt:Main dbt:See_also dbt:Spaced_ndash |
| dcterms:subject | dbc:Lithography_(microfabrication) dbc:Semiconductor_fabrication_equipment |
| gold:hypernym | dbr:Plate |
| rdf:type | owl:Thing dbo:AnatomicalStructure yago:Ability105616246 yago:Abstraction100002137 yago:Cognition100023271 yago:Know-how105616786 yago:Method105660268 yago:PsychologicalFeature100023100 yago:Technique105665146 yago:WikicatPhotographicTechniques |
| rdfs:comment | Una màscara fotogràfica, fotomàscara (o simplement màscara, depenent del context) és una pel·lícula amb àrees transparents i zones opaques, que deixen que la llum passi o no passi en un procés d'insolació fotogràfica. (ca) Fotomasken (englisch reticle) sind Projektionsvorlagen, deren Hauptanwendung die fotolithografische Strukturierung bei der Herstellung von mikroelektronischen Schaltungen oder Mikrosystemen ist. Sie bestehen üblicherweise aus hochreinem Quarzglas oder Calciumfluorid (Lithografie mit Excimer-Laser der Wellenlänge 248 nm bzw. 193 nm) und sind beispielsweise auf einer Seite mit einer dünnen strukturierten Chromschicht versehen. (de) Un masque photographique (ou simplement masque, selon le contexte) est un gabarit avec des zones transparentes ou évidées et des zones opaques, laissant passer la lumière selon un motif précis. Les masques photographiques sont communément utilisés en photolithographie. (fr) フォトマスク（英語：photomask）とは、ガラス乾板とも呼ばれ、電子部品の製造工程で使用されるパターン原版をガラス、石英等に形成した透明な板であり、「フォトリソグラフィ」と呼ばれる転写技術によって電子部品の回路パターン等を被転写対象に転写する際の原版となるものである。 半導体素子、フラットパネルディスプレイ、プリント基板といった電子部品の製造工程で、配線層や部品層といった異なる画像を写すために、数枚から数十枚のフォトマスクが使用される。露光工程で1枚ごとにフォトレジストと呼ばれる感光性材料にフォトマスクの画像が転写される。露光により現像液への溶解性が変化するフォトレジストの特性に基づき、光の当たった部分が除去される、あるいは残存することにより、次のエッチング工程と呼ばれる被加工対象への溶解、除去処理に対するマスクとなる。エッチング工程での被加工対象の不要部分の除去が終了後、フォトレジストを薬液によって剥離することで工程が終了し、次の層の加工のためにまたフォトレジストが塗布され、同様の処理が繰り返される。 高密度半導体の製造に使われる高精細のフォトマスクのものではレチクルと呼ばれるものがある。 (ja) Fotomáscara é a imagem fotográfica negativa de um molde de circuitos integrados. (pt) Фотошабло́н — стеклянная или иная пластина либо полимерная плёнка со сформированным на её поверхности рисунком элементов схем из материала, не пропускающего актиничное излучение. Фотошаблон является одним из основных инструментов при создании заданного рельефного защитного покрытия при проведении фотолитографии в планарной технологии. В зависимости от материала пленочного покрытия различают фотошаблоны на основе: * фотографической эмульсии (эмульсионные фотошаблоны) * металлической плёнки (металлические фотошаблоны) * окиси железа (цветные фотошаблоны) (ru) 光罩（英語：Reticle, Mask）：在製作集成电路的過程中，利用光蝕刻技術，在半導體上形成圖型，為將圖型複製於晶圓上，必須透過光罩作用的原理。比如沖洗照片時，利用底片將影像複製至相片上。 (zh) Фотошаблон - скляна або інша пластина або полімерна плівка зі сформованим на її поверхні малюнком елементів схем з матеріалу, що не пропускає випромінювання. Фотошаблон є одним з основних інструментів при створенні заданого рельєфного захисного покриття при проведенні фотолітографії в планарної технології. Залежно від матеріалу плівкового покриття розрізняють фотошаблони на основі: * Фотографічної емульсії (емульсійні фотошаблони) * Металевої плівки (металеві фотошаблони) * Окису заліза (кольорові фотошаблони) (uk) A photomask is an opaque plate with holes or transparencies that allow light to shine through in a defined pattern. They are commonly used in photolithography and the production of integrated circuits (ICs or "chips") in particular. Masks are used to produce a pattern on a substrate, normally a thin slice of silicon known as a wafer in the case of chip manufacturing. Several masks are used in turn, each one reproducing a layer of the completed design, and together they are known as a mask set. (en) Fotomaska – płyta służąca do naświetlania wzorów w procesie fotolitografii zgodnie ze znajdującymi się na niej obszarami nieprzezroczystymi i przezroczystymi (tzw. oknami). * Fotomaska chromowa. * Detale wzoru na masce chromowej. Czarne pola to obszary pokryte chromem i blokujące światło, reszta to okna bez chromu przepuszczające światło. * Litografii laserowej - urządzenie charakteryzuje się niższą ceną, ale oferuje większy wymiar krytyczny, co oznacza niższą rozdzielczość. * Urządzenie do litografii laserowej (Heidelberg Instruments, DWL 66FS) * (pl) |
| rdfs:label | Màscara fotogràfica (ca) Fotomaske (de) Máscara fotográfica (es) Masque photographique (fr) フォトマスク (ja) Photomask (en) Fotomaska (pl) Fotomáscara (pt) Фотошаблон (ru) Фотошаблон (uk) 光罩 (zh) |
| rdfs:seeAlso | dbr:Photographic_plate |
| owl:sameAs | freebase:Photomask yago-res:Photomask wikidata:Photomask dbpedia-ca:Photomask dbpedia-de:Photomask dbpedia-es:Photomask dbpedia-fa:Photomask dbpedia-fr:Photomask dbpedia-ja:Photomask dbpedia-kk:Photomask dbpedia-pl:Photomask dbpedia-pt:Photomask dbpedia-ru:Photomask dbpedia-simple:Photomask dbpedia-tr:Photomask dbpedia-uk:Photomask dbpedia-zh:Photomask https://global.dbpedia.org/id/L9iU |
| prov:wasDerivedFrom | wikipedia-en:Photomask?oldid=1124637625&ns=0 |
| foaf:depiction | wiki-commons:Special:FilePath/Mask_illustration.svg wiki-commons:Special:FilePath/OpcedPhotomask.png wiki-commons:Special:FilePath/Pellicle_Mounting_Machine_MLI.jpg wiki-commons:Special:FilePath/Semiconductor_photomask.jpg |
| foaf:isPrimaryTopicOf | wikipedia-en:Photomask |
| is dbo:product of | dbr:Nippon_Filcon |
| is dbo:wikiPageDisambiguates of | dbr:Mask_(disambiguation) |
| is dbo:wikiPageRedirects of | dbr:Mask_set dbr:IC_mask dbr:Photo_mask dbr:Photomask_set dbr:Photomasking dbr:Photomasks dbr:Photoreticle dbr:Optical_mask |
| is dbo:wikiPageWikiLink of | dbr:Productivity-improving_technologies dbr:Robot dbr:Electron-beam_lithography dbr:Electronic_circuit_simulation dbr:Electronic_design_automation dbr:Engineering_change_order dbr:Read-only_memory dbr:Tape-out dbr:Projection_micro-stereolithography dbr:Bob_Widlar dbr:Design_closure dbr:Aligner_(semiconductor) dbr:Application-specific_integrated_circuit dbr:Dynamic_random-access_memory dbr:EDA_database dbr:Integrated_circuit dbr:Integrated_circuit_design dbr:Integrated_circuit_layout dbr:Integrated_circuit_layout_design_protection dbr:Interference_lithography dbr:Inverse_lithography dbr:Inverse_problem dbr:Ruthenium dbr:CoorsTek dbr:Mask_shop dbr:SEMATECH dbr:SPICE dbr:Chemistry_of_photolithography dbr:Gate_array dbr:Optical_proximity_correction dbr:Nanophotonics dbr:Reticle dbr:GDSII dbr:Motorola_6809 dbr:Contact_lithography dbr:Coordinatograph dbr:MOS_Technology_6502 dbr:Silicon_Glen dbr:Stepping_level dbr:Comparison_of_EDA_software dbr:Compugraphic dbr:Pellicle dbr:Phase-shift_mask dbr:Physical_design_(electronics) dbr:Programmable_logic_array dbr:Macrocell_array dbr:Magnetolithography dbr:Stepper dbr:Microcontact_printing dbr:Microelectrode_array dbr:Microelectromechanical_systems dbr:Ceric_ammonium_nitrate dbr:Toppan dbr:Local_oxidation_nanolithography dbr:Nanochannel_glass_materials dbr:Nippon_Filcon dbr:Carl_Zeiss_SMT dbr:Dip-pen_nanolithography dbr:Fairchild_F8 dbr:Focused_ion_beam dbr:Foturan dbr:Glossary_of_microelectronics_manufacturing_terms dbr:List_of_Intel_manufacturing_sites dbr:Semiconductor_device_fabrication dbr:Thiol-ene_reaction dbr:Resist_(semiconductor_fabrication) dbr:1T-SRAM dbr:Backdoor_(computing) dbr:Mask_inspection dbr:Maskless_lithography dbr:Processor_design dbr:Self-aligned_gate dbr:UCIe dbr:KLA_Corporation dbr:Bio-MEMS dbr:Photolithography dbr:Texas_Instruments_SBP0400 dbr:Bokode dbr:CATS_(software) dbr:Photronics_Inc dbr:Fiber_Bragg_grating dbr:Microprocessor_chronology dbr:Microscale_metamaterials dbr:National_Ignition_Facility dbr:Osaka_Institute_of_Technology dbr:RIFA_(manufacturer) dbr:Shin-Etsu_Chemical dbr:Printed_circuit_board dbr:Mask_(disambiguation) dbr:Mask_data_preparation dbr:Semiconductor dbr:Semiconductor_industry dbr:Signal_integrity dbr:Laser_mask dbr:Extreme_ultraviolet_lithography dbr:Off-axis_illumination dbr:Plasmonic_nanolithography dbr:Rubylith dbr:Nanoimprint_lithography dbr:Nanolithography dbr:SÜSS_MicroTec dbr:Multiphoton_lithography dbr:Photoplotter dbr:Photosensitive_anodized_aluminum dbr:Very_Large_Scale_Integration dbr:SMIF_(interface) dbr:Mask_set dbr:Resolution_enhancement_technologies dbr:Paper-based_microfluidics dbr:Wafer_fabrication dbr:Transistor_model dbr:IC_mask dbr:Photo_mask dbr:Photomask_set dbr:Photomasking dbr:Photomasks dbr:Photoreticle dbr:Optical_mask |
| is dbp:products of | dbr:Nippon_Filcon |
| is foaf:primaryTopic of | wikipedia-en:Photomask |
